JP5572273B1 - ビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル - Google Patents
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Abstract
Description
[1]式(I)
[2]前記炭素数9の分岐脂肪族モノカルボン酸が、3,5,5−トリメチルヘキサン酸である[1]に記載のビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル。
[3][1]または[2]に記載のビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステルを含有する冷凍機油組成物。
[4][3]に記載の冷凍機油組成物と冷媒とを含有する冷凍機用作動流体組成物。
(i)同一分子内における構成カルボン酸が、炭素数9の分岐脂肪族モノカルボン酸と、炭素数4〜8の脂肪族モノカルボン酸の中から選ばれる一種のカルボン酸の双方からなるビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル
(ii)ビスペンタエリスリトールモノホルマールと炭素数9の分岐脂肪族モノカルボン酸とのヘキサエステル、およびビスペンタエリスリトールモノホルマールと炭素数4〜8の脂肪族モノカルボン酸の中から選ばれる一種のカルボン酸とのヘキサエステルの混合物
(iii)上記(i)および(ii)の混合物
の各態様が含有される。
以下の製造例1で得られたビスペンタエリスリトールモノホルマール、ならびに、製造例4、実施例1〜5、10、11、および比較例1で得られたエステルおよび冷凍機油組成物を、NMRで測定した。NMRでの測定は、以下の測定機器、測定手法により行った。
測定機器;GSX−400(400MHz)(日本電子社製)
測定条件;
・核種;1H
・標準物;テトラメチルシラン
・溶媒;CDCl3またはd6−DMSO
以下の製造例1で得られたビスペンタエリスリトールモノホルマールの純度、ならびに、実施例1〜5、10、および11で得られたエステルおよび冷凍機油組成物の主要ピークの保持時間をGCで測定した。GCでの測定は、以下の方法で検液を調製後、以下の測定機器、測定条件により行った。
1)ビスペンタエリスリトールモノホルマールの検液の調製
反応器に以下の製造例1で得られたビスペンタエリスリトールモノホルマール10mgとトリメチルシリル化剤(東京化成工業社製、製品名:TMS−HT)1mLとを仕込み、混合液を80℃で10分間攪拌した。反応後、反応液をメンブレンフィルター(PTFE、0.5μm)で濾過し、濾液を検液とした。
2)エステルおよび冷凍機油組成物の検液の調製
以下の実施例1〜11、比較例2および比較例3で得られたエステルおよび冷凍機油組成物の各0.1gと、アセトン0.5gとを混合し、検液とした。
測定機器;Agilent7890A(アジレント・テクノロジー社製)
測定条件;
・カラム;HP−5(長さ30m×内径0.320mm×膜厚0.25μm)(アジレント・テクノロジー社製)
・キャリアガス;窒素、流量1.0mL/分
・INJ/DET温度;330℃/350℃
・注入法;スプリット法(1μL注入、比1/50)
・検出器;FID
・測定プログラム;100℃から10℃/分の速度で昇温し、325℃に達してからその温度で97.5分間保持
以下の実施例1、3および4で得られたエステルを、GC−MSで測定した。GC−MSでの測定は、以下の測定機器、測定条件により行った。
測定機器;Agilent7890A(アジレント・テクノロジー社製)
日本電子JMS−T100GCv質量分析計(日本電子社製)
測定条件;
・カラム; DB−5(長さ30m×内径0.25mm×膜厚0.25μm)(アジレント・テクノロジー社製)
・キャリアガス;ヘリウム、流量1.0mL/分
・注入温度;300℃
・注入法;スプリット法(比1/50)
・イオン化法;CI(反応ガス;アンモニア)、EI
・測定プログラム;100℃から10℃/分の速度で昇温し、325℃に達してからその温度で97.5分間保持
以下の製造例1で得られたビスペンタエリスリトールモノホルマールの純度を高速液体クロマトグラフィー(以下、LCという)で測定した。LCでの測定は、以下の方法で検液を調製後、以下の測定機器、測定条件により行った。
測定機器;Agilent1200Series(アジレント・テクノロジー社製)
測定条件;
・カラム;YMC−Pack ODS−AM(球状、粒子径5μm、細孔径12nm、長さ300mm×内径4.6mm)(ワイエムシィ社製)
・展開液;0.1重量%リン酸水溶液、流速0.7mL/分
・カラム温度;40℃
・サンプル注入量;5μL
・検出器;RI
[ビスペンタエリスリトールモノホルマールの製造]
(1)化合物(i)の製造
1H−NMR(CDCl3、δppm);1.46(s、3H)、3.47(s、2H)、4.02(s、6H)
1H−NMR(CDCl3、δppm);1.46(s、6H)、3.24(s、4H)、3.98(s、12H)、4.53(s、2H)
反応器に化合物(ii)78.3gと水320gとを仕込み、混合液を100℃で2時間撹拌した。次いで、強塩基性陰イオン交換樹脂1905.0g(三菱化学社製、製品名;ダイヤイオンSA11A)を加え、室温で1時間攪拌した。反応液を濾過した後、濾液を濃縮した。濃縮物をエタノール1.7Lで晶析して、ビスペンタエリスリトールモノホルマールを53.6g得た。
1H−NMR(d6−DMSO、δppm);3.32−3.40(m、16H)、4.25(t、6H)、4.54(s、2H)
GCで測定した純度:95面積%以上
LCで測定した純度:95面積%以上
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物の製造]
反応器に3,5,5−トリメチルヘキサン酸633.0g(4.00モル、KHネオケム社製)と無水酢酸817.5g(8.00モル、和光純薬工業社製)とを仕込み、混合液を120℃で1時間撹拌した。反応後、反応液を0.4kPaの減圧下、157〜162℃で蒸留して、3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物を496.4g得た。
[2−エチルヘキサン酸の無水物の製造]
反応器に2−エチルヘキサン酸721.1g(5.00モル、KHネオケム社製)と無水酢酸919.7g(9.00モル、和光純薬工業社製)とを仕込み、混合液を120℃で1時間撹拌した。反応後、反応液を0.1kPaの減圧下、126〜133℃で蒸留して、2−エチルヘキサン酸の無水物を509.8g得た。
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/2−エチルヘキサン酸比)が50/50であるビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル(ヘキサエステル1)の製造]
反応器に製造例1で製造したビスペンタエリスリトールモノホルマール8.5g(0.03モル)、製造例2で製造した3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物32.2g(0.11モル) 、製造例3で製造した2−エチルヘキサン酸の無水物24.3g(0.09モル)およびピリジン42.7g(0.54モル、和光純薬工業社製)を仕込み、混合液を20kPaの減圧下、室温で15分間窒素バブリングを行うことで脱気した。次いで、脱気後の混合液を90℃で6時間、窒素バブリングを行いながら撹拌した。反応後、反応液を1.3kPaの減圧下、150〜220℃で2時間濃縮した。濃縮液を濃縮液の酸価に対して2倍モルの水酸化ナトリウムを含むアルカリ水溶液20mLで1回、水20mLで3回洗浄し、1.3kPaの減圧下、100℃で1時間、窒素バブリングを行いながら脱水した。次いで、吸着剤0.2g(協和化学工業社製、製品名;キョーワード500)と活性炭0.3g(日本エンバイロケミカルズ社製、製品名;白鷺P)を加え、1.3kPaの減圧下、110℃で1時間、窒素バブリングを行いながら撹拌した。次いで、メンブレンフィルター(PTFE、0.2μm)で濾過することにより、ヘキサエステル1を24.7g得た。ヘキサエステル1の核磁気共鳴スペクトルを測定し、ヘキサエステル1を構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比を算出した。得られた核磁気共鳴スペクトルのチャートを図1に示す。また、ヘキサエステル1をGCおよびGC−MSで測定した。GCより、主要なピークの保持時間(66.3分、73.1分、80.7分、88.7分、96.6分、105.5分、115.5分)を確認した。GC−MSより、主要なピークの保持時間とそのフラグメントを確認した。GC−MSの結果を表1に示す。
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/2−エチルヘキサン酸比)が74/26であるビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル(ヘキサエステル2)の製造]
ビスペンタエリスリトールモノホルマール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物および2−エチルヘキサン酸の無水物の使用量のモル比(ビスペンタエリスリトールモノホルマール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物/2−エチルヘキサン酸の無水物比)を1.00/5.04/1.80にする以外は、実施例1と同様に操作して、ヘキサエステル2を得た。ヘキサエステル2の核磁気共鳴スペクトルを測定し、ヘキサエステル2を構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比を算出した。また、ヘキサエステル2をGCで測定したところ、実施例1のヘキサエステル1と同じ保持時間にピークが検出された。
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸とイソ酪酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/イソ酪酸比)が70/30であるビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル(ヘキサエステル3)の製造]
2−エチルヘキサン酸の無水物の代わりにイソ酪酸の無水物(和光純薬社製)を用い、ビスペンタエリスリトールモノホルマール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物およびイソ酪酸の無水物の使用量のモル比(ビスペンタエリスリトールモノホルマール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物/イソ酪酸の無水物比)を1.00/3.75/2.70にする以外は、実施例1と同様に操作して、ヘキサエステル3を得た。ヘキサエステル3の核磁気共鳴スペクトルを測定し、ヘキサエステル3を構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸とイソ酪酸のモル比を算出した。得られた核磁気共鳴スペクトルのチャートを図2に示す。また、ヘキサエステル3をGCおよびGC−MSで測定した。GCより、主要なピークの保持時間(24.6分、27.9分、33.2分、41.9分、56.2分、79.5分、115.7分)を確認した。GC−MSより、主要なピークの保持時間とそのフラグメントを確認した。GC−MSの結果を表2に示す。
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸とペンタン酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/ペンタン酸比)が71/29であるビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル(ヘキサエステル4)の製造]
2−エチルヘキサン酸の無水物の代わりにペンタン酸の無水物(東京化成工業社製)を用い、ビスペンタエリスリトールモノホルマール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物およびペンタン酸の無水物の使用量のモル比(ビスペンタエリスリトールモノホルマール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物/ペンタン酸の無水物比)を1.00/5.76/1.20にする以外は、実施例1と同様に操作して、ヘキサエステル4を得た。ヘキサエステル4の核磁気共鳴スペクトルを測定し、ヘキサエステル4を構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸とペンタン酸のモル比を算出した。得られた核磁気共鳴スペクトルのチャートを図3に示す。また、ヘキサエステル4をGCおよびGC−MSで測定した。GCより、主要なピークの保持時間(34.0分、39.4分、46.8分、57.0分、70.6分、88.6分、111.4分)を確認した。GC−MSより、主要なピークの保持時間とそのフラグメントを確認した。GC−MSの結果を表3に示す。
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸と3−メチル酪酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/3−メチル酪酸比)が66/34であるビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル(ヘキサエステル5)の製造]
2−エチルヘキサン酸の無水物の代わりに3−メチル酪酸の無水物(東京化成工業社製)を用い、ビスペンタエリスリトールモノホルマール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物および3−メチル酪酸の無水物の使用量のモル比(ビスペンタエリスリトールモノホルマール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸の無水物/3−メチル酪酸の無水物比)を1.00/3.60/3.00にする以外は、実施例1と同様に操作して、ヘキサエステル5を得た。ヘキサエステル5の核磁気共鳴スペクトルを測定し、ヘキサエステル5を構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸と3−メチル酪酸のモル比を算出した。得られた核磁気共鳴スペクトルのチャートを図4に示す。また、ヘキサエステル5をGCで測定したところ、各ピーク(保持時間:28.8分、33.0分、39.4分、48.9分、62.8分、82.6分、110.2分)が検出された。
[3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/2−エチルヘキサン酸比)が47/53であるジペンタエリスリトールのヘキサエステル(ヘキサエステルA)の製造]
ディーンスタークトラップを取り付けた反応器にジペンタエリスリトール63.6g(0.25モル、広栄化学工業社製、製品名;ジペンタリット)、3,5,5,−トリメチルヘキサン酸122.5g(0.77モル、KHネオケム社製)および2−エチルヘキサン酸148.0g(1.03モル、KHネオケム社製)を仕込み、混合液を20kPaの減圧下、室温で30分間窒素バブリングを行うことで脱気した。次いで、脱気後の混合液を190〜240℃で18時間窒素バブリングを行いながら撹拌した。反応後、反応液を1.3kPaの減圧下、210℃で1時間濃縮した。濃縮液を、濃縮液の酸価に対して2倍モルの水酸化ナトリウムを含むアルカリ水溶液100mLで1回、水100mLで3回洗浄した。有機層を1.3kPaの減圧下、100℃で1時間、窒素バブリングを行いながら脱水した。次いで、吸着剤0.3g(協和化学工業社製、製品名;キョーワード500)と活性炭2.6g(日本エンバイロケミカルズ社製、製品名;白鷺P)を加え、1.3kPaの減圧下、100℃で1時間撹拌した。次いで、濾過助剤(昭和化学工業社製、製品名;ラヂオライト#500)を用いて濾過することにより、ヘキサエステルAを210.7g得た。ヘキサエステルAの核磁気共鳴スペクトルを測定し、ヘキサエステルAを構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比を算出した。
キャノン−フェンスケ粘度計を用い、JIS K2283:2000の方法に準じてヘキサエステル1〜5およびヘキサエステルAの40℃および100℃における動粘度を測定した。結果を表4に示す。
回転ボンベ式酸化安定度試験器RBOT−02(離合社製)を用い、酸化安定度試験を行った。ヘキサエステル1〜5およびヘキサエステルAのそれぞれ10gと、紙やすり#400で磨いた電解銅線(直径1.6mm、長さ3m)を耐圧容器に入れ、次いで該耐圧容器に酸素を620kPaまで圧入した。該耐圧容器を150℃の恒温槽に入れ、毎分100回転で回転させて試験を開始し、この時を試験開始時として記録した。該耐圧容器の圧力が最高になったときから35kPaの圧力降下をしている点を終点とし、試験開始時から終点までの時間(RBOT寿命)を求めた。結果を表4に示す。RBOT寿命が長いほど、ヘキサエステルの酸化安定性が優れていることを表す。また、RBOT寿命が長いヘキサエステルほど、冷凍機油組成物の一成分として使用する場合に、その冷凍機油組成物の酸化安定性を長期間にわたり維持させることができる。
ヘキサエステル1〜5のそれぞれ1gをガラス容器に入れ、−20℃に設定した恒温器中で24時間静置した。24時間静置後の固化、析出物の有無を目視にて確認した。結果を以下に示す。
試験例3において、ヘキサエステル1〜5は固化せず、また析出物も確認されなかった。ヘキサエステル1〜5は酸化安定性および低温特性がバランスよく優れていることがわかる。
[ペンタエリスリトールと、3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比(3,5,5−トリメチルヘキサン酸/2−エチルヘキサン酸比)が57/43であるテトラエステル(冷凍機用基油A)の製造]
ジペンタエリスリトールの代わりにペンタエリスリトール(広栄化学工業社製、製品名;ペンタリット−S)を用い、ペンタエリスリトール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸および2−エチルヘキサン酸の使用量のモル比(ペンタエリスリトール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸/2−エチルヘキサン酸比)を1.00/2.40/2.40にする以外は、比較例1と同様に操作して、冷凍機用基油Aを得た。冷凍機用基油Aの核磁気共鳴スペクトルを測定し、冷凍機用基油Aを構成する3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸のモル比を算出した。
[冷凍機油組成物1の調製]
製造例4で製造した冷凍機用基油Aと実施例1で製造したヘキサエステル1とを、70:30(冷凍機用基油A:ヘキサエステル1)の重量比率で混合し、冷凍機油組成物1を調製した。
[冷凍機油組成物2の調製]
製造例4で製造した冷凍機用基油Aと実施例1で製造したヘキサエステル1とを、92:8(冷凍機用基油A:ヘキサエステル1)の重量比率で混合し、冷凍機油組成物2を調製した。
[冷凍機油組成物3の調製]
製造例4で製造した冷凍機用基油Aと実施例1で製造したヘキサエステル1とを、96:4(冷凍機用基油A:ヘキサエステル1)の重量比率で混合し、冷凍機油組成物3を調製した。
[冷凍機油組成物4の調製]
製造例4で製造した冷凍機用基油Aと実施例1で製造したヘキサエステル1とを、98:2(冷凍機用基油A:ヘキサエステル1)の重量比率で混合し、冷凍機油組成物4を調製した。
[冷凍機油組成物5の調製]
製造例4で製造した冷凍機用基油Aを、冷凍機油組成物5とした。
[冷凍機油組成物6の調製]
製造例4で製造した冷凍機用基油Aと比較例1で製造したヘキサエステルAとを、70:30(冷凍機用基油A:ヘキサエステルA)の重量比率で混合し、冷凍機油組成物6を調製した。
[冷凍機油組成物7の製造]
ジペンタエリスリトールの代わりにペンタエリスリトール(広栄化学工業社製、製品名;ペンタリット−S)と製造例1で製造したビスペンタエリスリトールモノホルマールの混合物を用い、ペンタエリスリトール、ビスペンタエリスリトールモノホルマール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸および2−エチルヘキサン酸の使用量のモル比(ペンタエリスリトール/ビスペンタエリスリトールモノホルマール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸/2−エチルヘキサン酸比)を1.00/0.03/2.12/2.68にする以外は、比較例1と同様に操作して、冷凍機油組成物7を得た。冷凍機油組成物7をNMRおよびGCで測定し、ビスペンタエリスリトールモノホルマールと3,5,5−トリメチルヘキサン酸と2−エチルヘキサン酸とからなるヘキサエステルが含まれていることを確認した。また、GCより、該ヘキサエステルのピークの面積比率は1.89面積%であった。検量線法を用いて、該面積%の値を重量%に換算した場合、該重量%の値は該面積%の1.3〜2.0倍程度の値に相当した。
[冷凍機油組成物8の製造]
ジペンタエリスリトールの代わりにペンタエリスリトール(広栄化学工業社製、製品名;ペンタリット−S)と製造例1で製造したビスペンタエリスリトールモノホルマールの混合物を用い、2−エチルヘキサン酸の代わりにペンタン酸(東京化成工業社製)を用い、ペンタエリスリトール、ビスペンタエリスリトールモノホルマール、3,5,5−トリメチルヘキサン酸およびペンタン酸の使用量のモル比(ペンタエリスリトール/ビスペンタエリスリトールモノホルマール/3,5,5−トリメチルヘキサン酸/ペンタン酸比)を1.00/0.03/3.68/1.12にする以外は、比較例1と同様に操作して、冷凍機油組成物8を得た。冷凍機油組成物8をNMRおよびGCで測定し、ビスペンタエリスリトールモノホルマールと3,5,5−トリメチルヘキサン酸とペンタン酸とからなるヘキサエステルが含まれていることを確認した。また、GCより、該ヘキサエステルのピークの面積比率は2.35面積%であった。検量線法を用いて、該面積%の値を重量%に換算した場合、該重量%の値は該面積%の1.3〜2.0倍程度の値に相当した。
試験例1の方法に準じて、冷凍機油組成物1〜8の40℃および100℃における動粘度を測定した。結果を表5および表6に示す。
試験例2の方法に準じて、冷凍機油組成物1〜8の酸化安定度試験を行った。結果を表5および表6に示す。RBOT寿命が長いほど冷凍機油組成物の酸化安定性が優れていることを表す。
シェル式四球摩擦試験機(神鋼造機社製)を用い、冷凍機油組成物1〜8の摩耗痕径の測定を行った。荷重100N、回転数600rpm、時間10分間、温度40℃(試験球;SUJ−2)の条件で試験を行い、試験後の摩耗痕径を測定した。摩耗痕径は3つの固定球の垂直方向、水平方向全ての平均値とした。結果を表5および表6に示す。
(1)BZTを含有する冷凍機油組成物(BZTの含有量1.5重量%)の調製
冷凍機油組成物1の2.955gと、BZTの0.045gとを混合し、60℃で加熱して、冷凍機油組成物1とBZTとの冷凍機油組成物を調製した。同様の方法で、冷凍機油組成物2〜8とBZTとの冷凍機油組成物を調製した。
(2)低温特性の評価
冷凍機油組成物1〜8とBZTとの冷凍機油組成物のそれぞれ1gをガラス容器に入れ、−20℃に設定した恒温器中で24時間静置した。固化または析出物が認められなかったものを○、認められたものを×とした。結果を表5および表6に示す。
Claims (4)
- 前記炭素数9の分岐脂肪族モノカルボン酸が、3,5,5−トリメチルヘキサン酸である請求項1に記載のビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステル。
- 請求項1または2に記載のビスペンタエリスリトールモノホルマールのヘキサエステルを含有する冷凍機油組成物。
- 請求項3に記載の冷凍機油組成物と冷媒とを含有する冷凍機用作動流体組成物。
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