JP5567475B2 - 統合電気接点を有する基板把持搬送組立体、電気接点を付与する方法、及び、基板ハンドリング組立体 - Google Patents
統合電気接点を有する基板把持搬送組立体、電気接点を付与する方法、及び、基板ハンドリング組立体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5567475B2 JP5567475B2 JP2010509357A JP2010509357A JP5567475B2 JP 5567475 B2 JP5567475 B2 JP 5567475B2 JP 2010509357 A JP2010509357 A JP 2010509357A JP 2010509357 A JP2010509357 A JP 2010509357A JP 5567475 B2 JP5567475 B2 JP 5567475B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- assembly
- clamp
- holding
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
- H01L21/6723—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process comprising at least one plating chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68728—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of separate clamping members, e.g. clamping fingers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
- Y10T29/49828—Progressively advancing of work assembly station or assembled portion of work
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
- Y10T29/53039—Means to assemble or disassemble with control means energized in response to activator stimulated by condition sensor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
- Y10T29/5313—Means to assemble electrical device
- Y10T29/53265—Means to assemble electrical device with work-holder for assembly
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
- Y10T29/53539—Means to assemble or disassemble including work conveyor
- Y10T29/53543—Means to assemble or disassemble including work conveyor including transporting track
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Robotics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
ベースプレートと、
一対のクランプにより画定される少なくとも二つの独立点により基板を支持可能に画成された離間した状態で前記ベースプレートに接続された一対のクランプと、
実質的に前記一対のクランプ間の位置において前記ベースプレートに接続されており、前記基板が存在し且つ前記一対のクランプにより保持される時、前記基板に電気接点を与えるように形成された電極組立体と、
を備え、
前記基板保持搬送組立体は、第1の把持装置組立体と第2の把持装置組立体とを含んでおり、
(i)前記第1の把持装置組立体のみで基板を保持すること、
(ii)前記第1の把持装置組立体のみで保持した基板をメッキ処理組立体に搬入すること、及び、
(iii)前記第1と第2の把持装置組立体の間に、前記第1と第2の把持装置組立体を用いて基板を保持し、前記第1と第2の把持装置組立体を同時に連携するように移動させ、前記メッキ処理組立体に対して基板を前記第1の把持装置組立体により搬入し、前記第2の把持装置組立体により搬出を行うこと、
を行い得るように構成されている、基板保持搬送組立体である。
本発明の第2の形態は、基板をクランプして電気接点を付与する方法であって、
閉位置へ独立して作動させることが可能な、受領位置にある電極組立体、及び、クランプ位置へ独立して作動させることが可能な、受領位置にある少なくとも二つの基板クランプを有するクランプ組立体を提供するステップと、
前記クランプ組立体において前記基板を受領するステップと、
前記基板クランプを前記基板と接触した状態にする前記クランプ位置へ前記基板クランプを作動させるステップと、
前記電極組立体の複数の電極を前記基板に接触した状態にする閉位置へ前記電極組立体を作動させるステップと、を備え、
前記クランプ組立体は、第1の把持装置組立体と第2の把持装置組立体とを含んでおり、
(i)前記第1の把持装置組立体のみで基板を保持すること、
(ii)前記第1の把持装置組立体のみで保持した基板をメッキ処理組立体に搬入すること、及び、
(iii)前記第1と第2の把持装置組立体の間に、前記第1と第2の把持装置組立体を用いて基板を保持し、前記第1と第2の把持装置組立体を同時に連携するように移動させ、前記メッキ処理組立体に対して基板を前記第1の把持装置組立体により搬入し、前記第2の把持装置組立体により搬出を行うこと、
を行い得るように構成されており、
前記基板と接触している前記複数の電極は、前記電気接点を付与する、方法である。
本発明の第3の形態は、基板ハンドリング組立体であって、
ベースプレートと、
前記ベースプレートに結合され、提供時に基板を保持して受け入れるように構成されたクランプ面を有し、開位置と、前記基板を固定するように画定された閉位置とを有する第一の基板クランプと、
前記ベースプレートに結合され、提供時に基板を保持して受け入れるように構成されたクランプ面を有し、前記ベースプレートに沿って前記第一の基板クランプからクランプ距離だけ間隔を空けて前記基板に対する支持部を画成し、開位置と、前記基板を固定するように画定された閉位置とを有する第二の基板クランプと、
実質的に前記第一及び第二の基板クランプ間の位置において前記ベースプレートに接続され、複数の電極を有し、開位置と、前記複数の電極を前記ベースプレートへ向けて移動させて存在時に前記基板に接触させるように画定された閉位置とを有する電極組立体と、
を備え、
前記基板ハンドリング組立体は、第1の把持装置組立体と第2の把持装置組立体とを含んでおり、
(i)前記第1の把持装置組立体のみで基板を保持すること、
(ii)前記第1の把持装置組立体のみで保持した基板をメッキ処理組立体に搬入すること、及び、
(iii)前記第1と第2の把持装置組立体の間に、前記第1と第2の把持装置組立体を用いて基板を保持し、前記第1と第2の把持装置組立体を同時に連携するように移動させ、前記メッキ処理組立体に対して基板を前記第1の把持装置組立体により搬入し、前記第2の把持装置組立体により搬出を行うこと、
を行い得るように構成されている、基板ハンドリング組立体である。
一実施形態において、基板保持搬送組立体を開示する。基板保持搬送組立体は、ベースプレートと、離間配向性を有してベースプレートに接続された一対のクランプとを含む。離間配向性は、少なくとも二つの独立点により基板を支持可能に画成でき、少なくとも二つの独立点は一対のクランプにより画定される。基板保持搬送組立体は、更に、実質的に一対のクランプ間の位置においてベースプレートに接続された電極組立体を含む。電極組立体は、基板が存在し且つ一対のクランプにより保持される時、基板に電気接点を与えるように形成される。
[適用例1]
基板保持搬送組立体であって、
ベースプレートと、
一対のクランプにより画定される少なくとも二つの独立点により基板を支持可能に画成された離間配向性を有して前記ベースプレートに接続された一対のクランプと、
実質的に前記一対のクランプ間の位置において前記ベースプレートに接続されており、前記基板が存在し且つ前記一対のクランプにより保持される時、前記基板に電気接点を与えるように形成された電極組立体と、
を備える基板保持搬送組立体。
[適用例2]
適用例1記載の基板保持搬送組立体であって、更に、
前記ベースプレートに接続されており、前記一対のクランプを開位置へ操作するように構成された一対のクランプアクチュエータを備える、基板保持搬送組立体。
[適用例3]
適用例2記載の基板保持搬送組立体であって、更に、
上部プレートに接続されており、前記電極アクチュエータを閉位置へ操作するように構成された電極アクチュエータを備える、基板保持搬送組立体。
[適用例4]
適用例3記載の基板保持搬送組立体であって、
前記クランプアクチュエータ及び前記電極アクチュエータは、独立して制御される、基板保持搬送組立体。
[適用例5]
適用例1記載の基板保持搬送組立体であって、
前記電極組立体は、基板の存在時に前記基板へガスを分配するように形成される、基板保持搬送組立体。
[適用例6]
適用例1記載の基板保持搬送組立体であって、
圧縮モジュールが、基板の存在時に前記基板を保持するための一定の圧力を前記一対のクランプに及ぼす、基板保持搬送組立体。
[適用例7]
適用例6記載の基板保持搬送組立体であって、
前記圧縮モジュールは、バネである、基板保持搬送組立体。
[適用例8]
基板をクランプして電気接点を付与する方法であって、
閉位置へ独立して作動させることが可能な、受領位置にある統合電極組立体、及び、クランプ位置へ独立して作動させることが可能な、受領位置にある少なくとも二つの基板クランプを有するクランプ組立体を提供するステップと、
前記クランプ組立体において前記基板を受領するステップと、
前記基板クランプを前記基板と接触した状態にする前記クランプ位置へ前記基板クランプを作動させるステップと、
前記電極組立体の複数の電極を前記基板に接触した状態にする閉位置へ前記電極組立体を作動させるステップと、を備え、
前記基板と接触している前記複数の電極は、前記電気接点を付与する、方法。
[適用例9]
適用例8記載の方法であって、
前記電極組立体は、更に、基板の存在時に前記基板の上面へガスを分配するように構成されたディフューザを含む、方法。
[適用例10]
適用例8記載の方法であって、
前記基板クランプの上方に位置決めされた圧縮モジュールが、前記基板クランプの上面に一定の力を及ぼす、方法。
[適用例11]
適用例10記載の方法であって、
前記圧縮モジュールは、バネである、方法。
[適用例12]
適用例8記載の方法であって、
前記基板クランプの前記作動は、空気圧により実行される、方法。
[適用例13]
適用例8記載の方法であって、
前記電極組立体の前記作動は、空気圧により実行される、方法。
[適用例14]
基板ハンドリング組立体であって、
ベースプレートと、
前記ベースプレートに結合され、提供時に基板を保持して受け入れるように構成されたクランプ面を有し、開位置と、前記基板を固定するように画定された閉位置とを有する第一の基板クランプと、
前記ベースプレートに結合され、提供時に基板を保持して受け入れるように構成されたクランプ面を有し、前記ベースプレートに沿って前記第一の基板クランプからクランプ距離だけ間隔を空けて前記基板に対する支持部を画成し、開位置と、前記基板を固定するように画定された閉位置とを有する第二の基板クランプと、
実質的に前記第一及び第二の基板クランプ間の位置において前記ベースプレートに接続され、複数の電極を有し、開位置と、前記複数の電極を前記ベースプレートへ向けて移動させて存在時に前記基板に接触させるように画定された閉位置とを有する電極組立体と、
を備える基板ハンドリング組立体。
[適用例15]
適用例14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記第一の基板クランプ、前記第二の基板クランプ、及び前記電極組立体のそれぞれは、独立したアクチュエータを有する、基板ハンドリング組立体。
[適用例16]
適用例14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記電極組立体は、更に、基板の存在時に前記基板の上面へガスを分配するように構成されたディフューザを含む、基板ハンドリング組立体。
[適用例17]
適用例14記載の基板ハンドリング組立体であって、更に、
前記第一の基板クランプの上面上方に位置決めされた圧縮モジュールを備え、
前記第一の基板クランプが前記閉位置にある時、前記圧縮モジュールは、前記第一の基板クランプの前記正面に一定の力を及ぼす、基板ハンドリング組立体。
[適用例18]
適用例17記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記圧縮モジュールは、バネである、基板ハンドリング組立体。
[適用例19]
適用例14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記第一及び第二の基板クランプは、非金属材料により作成される、基板ハンドリング組立体。
[適用例20]
適用例14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記アクチュエータは、空気圧式である、基板ハンドリング組立体。
本発明の他の態様及び利点は、本発明の原理を一例として示す次の添付図面と併せて、以下の詳細な説明から明らかとなろう。
Claims (20)
- 基板保持搬送組立体であって、
ベースプレートと、
一対のクランプにより画定される少なくとも二つの独立点により基板を支持可能に画成された離間した状態で前記ベースプレートに接続された一対のクランプと、
実質的に前記一対のクランプ間の位置において前記ベースプレートに接続されており、前記基板が存在し且つ前記一対のクランプにより保持される時、前記基板に電気接点を与えるように形成された電極組立体と、
を備え、
前記基板保持搬送組立体は、第1の把持装置組立体と第2の把持装置組立体とを含んでおり、
(i)前記第1の把持装置組立体のみで基板を保持すること、
(ii)前記第1の把持装置組立体のみで保持した基板をメッキ処理組立体に搬入すること、及び、
(iii)前記第1と第2の把持装置組立体の間に、前記第1と第2の把持装置組立体を用いて基板を保持し、前記第1と第2の把持装置組立体を同時に連携するように移動させ、前記メッキ処理組立体に対して基板を前記第1の把持装置組立体により搬入し、前記第2の把持装置組立体により搬出を行うこと、
を行い得るように構成されている、基板保持搬送組立体。 - 請求項1記載の基板保持搬送組立体であって、更に、
前記ベースプレートに接続されており、前記一対のクランプを開位置へ操作するように構成された一対のクランプ用アクチュエータを備える、基板保持搬送組立体。 - 請求項2記載の基板保持搬送組立体であって、更に、
上部プレートに接続されており、前記電極組立体を閉位置へ操作するように構成された電極用アクチュエータを備える、基板保持搬送組立体。 - 請求項3記載の基板保持搬送組立体であって、
前記クランプ用アクチュエータ及び前記電極用アクチュエータは、独立して制御される、基板保持搬送組立体。 - 請求項1記載の基板保持搬送組立体であって、
前記電極組立体は、基板の存在時に前記基板へガスを分配するように形成される、基板保持搬送組立体。 - 請求項1記載の基板保持搬送組立体であって、
圧縮モジュールが、基板の存在時に前記基板を保持するための一定の圧力を前記一対のクランプに及ぼす、基板保持搬送組立体。 - 請求項6記載の基板保持搬送組立体であって、
前記圧縮モジュールは、バネである、基板保持搬送組立体。 - 基板をクランプして電気接点を付与する方法であって、
閉位置へ独立して作動させることが可能な、受領位置にある電極組立体、及び、クランプ位置へ独立して作動させることが可能な、受領位置にある少なくとも二つの基板クランプを有するクランプ組立体を提供するステップと、
前記クランプ組立体において前記基板を受領するステップと、
前記基板クランプを前記基板と接触した状態にする前記クランプ位置へ前記基板クランプを作動させるステップと、
前記電極組立体の複数の電極を前記基板に接触した状態にする閉位置へ前記電極組立体を作動させるステップと、を備え、
前記クランプ組立体は、第1の把持装置組立体と第2の把持装置組立体とを含んでおり、
(i)前記第1の把持装置組立体のみで基板を保持すること、
(ii)前記第1の把持装置組立体のみで保持した基板をメッキ処理組立体に搬入すること、及び、
(iii)前記第1と第2の把持装置組立体の間に、前記第1と第2の把持装置組立体を用いて基板を保持し、前記第1と第2の把持装置組立体を同時に連携するように移動させ、前記メッキ処理組立体に対して基板を前記第1の把持装置組立体により搬入し、前記第2の把持装置組立体により搬出を行うこと、
を行い得るように構成されており、
前記基板と接触している前記複数の電極は、前記電気接点を付与する、方法。 - 請求項8記載の方法であって、
前記電極組立体は、更に、基板の存在時に前記基板の上面へガスを分配するように構成されたディフューザを含む、方法。 - 請求項8記載の方法であって、
前記基板クランプの上方に位置決めされた圧縮モジュールが、前記基板クランプの上面に一定の力を及ぼす、方法。 - 請求項10記載の方法であって、
前記圧縮モジュールは、バネである、方法。 - 請求項8記載の方法であって、
前記基板クランプの前記作動は、空気圧により実行される、方法。 - 請求項8記載の方法であって、
前記電極組立体の前記作動は、空気圧により実行される、方法。 - 基板ハンドリング組立体であって、
ベースプレートと、
前記ベースプレートに結合され、提供時に基板を保持して受け入れるように構成されたクランプ面を有し、開位置と、前記基板を固定するように画定された閉位置とを有する第一の基板クランプと、
前記ベースプレートに結合され、提供時に基板を保持して受け入れるように構成されたクランプ面を有し、前記ベースプレートに沿って前記第一の基板クランプからクランプ距離だけ間隔を空けて前記基板に対する支持部を画成し、開位置と、前記基板を固定するように画定された閉位置とを有する第二の基板クランプと、
実質的に前記第一及び第二の基板クランプ間の位置において前記ベースプレートに接続され、複数の電極を有し、開位置と、前記複数の電極を前記ベースプレートへ向けて移動させて存在時に前記基板に接触させるように画定された閉位置とを有する電極組立体と、
を備え、
前記基板ハンドリング組立体は、第1の把持装置組立体と第2の把持装置組立体とを含んでおり、
(i)前記第1の把持装置組立体のみで基板を保持すること、
(ii)前記第1の把持装置組立体のみで保持した基板をメッキ処理組立体に搬入すること、及び、
(iii)前記第1と第2の把持装置組立体の間に、前記第1と第2の把持装置組立体を用いて基板を保持し、前記第1と第2の把持装置組立体を同時に連携するように移動させ、前記メッキ処理組立体に対して基板を前記第1の把持装置組立体により搬入し、前記第2の把持装置組立体により搬出を行うこと、
を行い得るように構成されている、基板ハンドリング組立体。 - 請求項14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記第一の基板クランプ、前記第二の基板クランプ、及び前記電極組立体のそれぞれは、独立したアクチュエータを有する、基板ハンドリング組立体。 - 請求項14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記電極組立体は、更に、基板の存在時に前記基板の上面へガスを分配するように構成されたディフューザを含む、基板ハンドリング組立体。 - 請求項14記載の基板ハンドリング組立体であって、更に、
前記第一の基板クランプの上面の上方に位置決めされた圧縮モジュールを備え、
前記第一の基板クランプが前記閉位置にある時、前記圧縮モジュールは、前記第一の基板クランプの前記上面に一定の力を及ぼす、基板ハンドリング組立体。 - 請求項17記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記圧縮モジュールは、バネである、基板ハンドリング組立体。 - 請求項14記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記第一及び第二の基板クランプは、非金属材料により作成される、基板ハンドリング組立体。 - 請求項15記載の基板ハンドリング組立体であって、
前記アクチュエータは、空気圧式である、基板ハンドリング組立体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/751,536 US7780825B2 (en) | 2007-05-21 | 2007-05-21 | Substrate gripper with integrated electrical contacts |
US11/751,536 | 2007-05-21 | ||
PCT/US2008/006418 WO2008153682A1 (en) | 2007-05-21 | 2008-05-16 | Substrate gripper with integrated electrical contacts |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010528474A JP2010528474A (ja) | 2010-08-19 |
JP2010528474A5 JP2010528474A5 (ja) | 2011-06-23 |
JP5567475B2 true JP5567475B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=40071395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010509357A Expired - Fee Related JP5567475B2 (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-16 | 統合電気接点を有する基板把持搬送組立体、電気接点を付与する方法、及び、基板ハンドリング組立体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7780825B2 (ja) |
JP (1) | JP5567475B2 (ja) |
KR (1) | KR101523397B1 (ja) |
CN (1) | CN101755331B (ja) |
TW (1) | TWI440115B (ja) |
WO (1) | WO2008153682A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITTO20120415A1 (it) * | 2012-05-09 | 2013-11-10 | Alenia Aermacchi Spa | Impianto industriale e procedimento per la produzione di un prodotto industriale, in particolare per un componente o un sitema aeronautico. |
JP6456712B2 (ja) * | 2015-02-16 | 2019-01-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板保持機構及びこれを用いた基板処理装置 |
CN111699765B (zh) * | 2017-08-10 | 2023-06-06 | 吉布尔·施密德有限责任公司 | 用于运输基底的夹紧框架和运输设备 |
KR102651505B1 (ko) * | 2020-08-06 | 2024-03-28 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
KR102649713B1 (ko) * | 2020-12-23 | 2024-03-22 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63119678U (ja) * | 1987-01-22 | 1988-08-02 | ||
JPH01147265U (ja) * | 1988-03-28 | 1989-10-11 | ||
JPH0627657Y2 (ja) * | 1990-05-23 | 1994-07-27 | 株式会社中央製作所 | 板状被処理物の保持装置 |
JPH05232421A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-10 | Koei Eng Kk | 液晶用基板ハンドリング装置 |
JPH10145030A (ja) * | 1996-11-07 | 1998-05-29 | Maruya Seisakusho:Kk | プリント配線基板の基板保持用治具とその取付装置 |
JP2000031145A (ja) | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2001303295A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-10-31 | Nec Corp | メッキ装置 |
US6439245B1 (en) * | 2000-06-30 | 2002-08-27 | Lam Research Corporation | Method for transferring wafers from a conveyor system to a wafer processing station |
JP3413185B2 (ja) * | 2000-11-15 | 2003-06-03 | 古河電気工業株式会社 | めっき用治具 |
JP2003311536A (ja) | 2002-04-23 | 2003-11-05 | Sony Corp | 研磨装置及び研磨方法 |
US7383843B2 (en) * | 2002-09-30 | 2008-06-10 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for processing wafer surfaces using thin, high velocity fluid layer |
JP2004250785A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-09-09 | Ebara Corp | 電解処理装置及び基板処理装置 |
JP4463543B2 (ja) | 2003-12-26 | 2010-05-19 | 株式会社荏原製作所 | 基板保持装置及び基板保持方法、並びに基板処理装置 |
JP2006117979A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Marunaka Kogyo Kk | 電気メッキ装置におけるワークハンガー |
JP4456989B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2010-04-28 | 新光電気工業株式会社 | 部分めっき装置 |
US20070034526A1 (en) | 2005-08-12 | 2007-02-15 | Natsuki Makino | Electrolytic processing apparatus and method |
JP4568675B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2010-10-27 | 株式会社フジクラ | メッキ装置 |
CN102112568A (zh) * | 2008-08-04 | 2011-06-29 | 日立化成工业株式会社 | 胶粘剂组合物、膜状胶粘剂、胶粘片和半导体装置 |
-
2007
- 2007-05-21 US US11/751,536 patent/US7780825B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-05-16 JP JP2010509357A patent/JP5567475B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-16 WO PCT/US2008/006418 patent/WO2008153682A1/en active Application Filing
- 2008-05-16 CN CN2008800166495A patent/CN101755331B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-16 KR KR1020097026561A patent/KR101523397B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2008-05-19 TW TW097118344A patent/TWI440115B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100029771A (ko) | 2010-03-17 |
JP2010528474A (ja) | 2010-08-19 |
US7780825B2 (en) | 2010-08-24 |
TWI440115B (zh) | 2014-06-01 |
KR101523397B1 (ko) | 2015-05-27 |
CN101755331A (zh) | 2010-06-23 |
TW200921823A (en) | 2009-05-16 |
CN101755331B (zh) | 2011-08-31 |
WO2008153682A1 (en) | 2008-12-18 |
US20080289967A1 (en) | 2008-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5567475B2 (ja) | 統合電気接点を有する基板把持搬送組立体、電気接点を付与する方法、及び、基板ハンドリング組立体 | |
US9272422B2 (en) | Grasping method by grasping apparatus | |
US9082454B2 (en) | Automatically removing contaminants from a manufactured part | |
US7603768B2 (en) | Inspection apparatus for wire-processing machine | |
DE04758607T1 (de) | Einstell-vorrichtung und -verfahren für testköpfe | |
CN103465270A (zh) | 一种带自锁的夹持装置 | |
JP2011251526A (ja) | ソフトリソグラフィ装置および方法 | |
JP2019536290A (ja) | プロセスチャンバキャリアのための静電チャッキング力測定ツール | |
JP2011251526A5 (ja) | ||
CN110611995A (zh) | 沉铜挂架设备 | |
JP2010528474A5 (ja) | ||
KR101588979B1 (ko) | 박리 장치 및 박리 방법 | |
CN101439329B (zh) | 涂敷装置及其基板保持方法 | |
US4706602A (en) | Solder coater board clamp | |
JP2009515050A (ja) | ワークを表面処理するための装置 | |
US7909967B2 (en) | Electro-chemical processor | |
CN112660804B (zh) | 弯头转移设备 | |
KR101234288B1 (ko) | 진공 플라즈마 처리장치 | |
US6451114B1 (en) | Apparatus for application of chemical process to a workpiece | |
CN113770679A (zh) | 一种滤芯更换装置及维护机器人 | |
Neugebauer et al. | Study on applicability of adhesive forces for micro-material handling in production technology | |
TWI833844B (zh) | 用於板形基材之末端執行器 | |
CN217493295U (zh) | 一种电磁阀组装的弹簧上料机构 | |
TWI779174B (zh) | 拾取裝置 | |
JPH0866840A (ja) | 物品加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110427 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110427 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121002 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140603 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5567475 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |