JP5548322B1 - シリコーン樹脂組成物、シリコーン樹脂硬化物、及び、光半導体素子封止体 - Google Patents
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Abstract
本発明は、(A−i)ケイ素原子に結合した炭素−炭素二重結合を有する置換基を少なくとも2個有するポリオルガノシロキサンと、(A−ii)ケイ素原子に結合した水素基を少なくとも2個有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンと、(A−iii)ヒドロシリル化反応触媒とを含有するシリコーン樹脂混合物、及び、(B)下記式(1−1)で表される構造単位と下記式(1−2)で表される構造単位との間に、下記式(1−3)で表される構造単位及び下記式(1−4)で表される構造単位を有するシリコーン化合物を含有するシリコーン樹脂組成物である。
式(1−1)、及び、式(1−2)中、R1aはそれぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及び、アラルキル基から選択される炭素数1〜18の炭化水素基を表す。式(1−3)、及び、式(1−4)中、R1bはそれぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及び、アラルキル基から選択される炭素数1〜18の炭化水素基を表す。式(1−3)中、R2aは、ケイ素原子に結合した炭素原子を除く一部の炭素原子が酸素原子で置換されていてもよい炭素数1〜8のアルキレン基を表し、R2bは炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R3は、炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R4は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、OH基を有する炭素数1〜3のアルキル基、又は、ハロゲノ基を表す。式(1−3)中、mは、1〜50の整数であり、xは0〜2の整数であり、式(1−4)中、nは、10〜1500の整数である。
[化1]
Description
また、例えば、特許文献1には、接着性付与剤としてエポキシ基を有するイソシアヌル酸エステルを配合した付加硬化型のシリコーン樹脂組成物が開示されており、特許文献2には、接着性を有するシリコーン樹脂として、同一分子中にビニル基及びカルバメート基を含有し、分子片末端にケイ素原子と結合したアルコキシ基又はOH基を有する反応性の変性シリコーン樹脂が開示されている。
また、特許文献2に開示されているような変性シリコーン樹脂は、硬化性を付与するビニル基と接着性を付与するカルバメート基が同一分子中に存在するため、カルバメート基が硬化した樹脂全体に均一に分散してしまい、接着界面付近でのカルバメート基濃度が低下し接着性を向上させる効果が充分でない場合があった。更に、接着界面付近でのカーバメート基濃度を高めるため分子中のカルバメート基含有量を増加させた場合、シリコーン樹脂の物性や耐久性に悪影響を与える場合があった。
また、ケイ素原子に結合したアルコキシ基やOH基を含有するシリコーン樹脂は、保存安定性が悪いという問題があった。
以下に本発明を詳述する。
前記シリコーン樹脂混合物は、ケイ素原子に結合した炭素−炭素二重結合を有する置換基を少なくとも2個有するポリオルガノシロキサン(以下、(A−i)の成分ともいう)を含有する。
(A−i)の成分の分子構造が直鎖状である場合、炭素−炭素二重結合を有する置換基は、分子鎖末端と中間とのいずれか一方でのみケイ素原子に結合していてもよいし、分子鎖末端と中間との両方でケイ素原子に結合していてもよい。
なお、本明細書において、前記「粘度」は、回転粘度計(BM型)を用いて、25℃の条件で測定される値を意味する。
また、前記R6としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基等が挙げられる。
(A−iii)の成分としては、従来公知のものを使用することができる。具体的には例えば、白金(白金黒を含む)、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体や、H2PtCl4・nH2O、H2PtCl6・nH2O、NaHPtCl6・nH2O、KHPtCl6・nH2O、Na2PtCl6・nH2O、K2PtCl4・nH2O、PtCl4・nH2O、PtCl2、Na2HPtCl4・nH2O(但し、式中、nは0〜6の整数であり、好ましくは0又は6である)等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩や、アルコール変性塩化白金酸(米国特許第3220972号明細書参照)や、塩化白金酸とオレフィンとのコンプレックス(米国特許第3159601号明細書、米国特許第3159662号明細書、米国特許第3775452号明細書参照)や、白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたものや、ロジウム−オレフィンコンプレックスや、クロロトリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触媒)や、塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサンとのコンプレックスや、ジクロロジピリジン白金(II)(特開平09−165453号公報参照)や、Pt2{[(CH2=CH)Me2Si]2O}3、HPt2{[(CH2=CH)Me2Si2]O}2、PtCO(CH2=CH(Me)SiO)4、Pt(CH2=CH(Me)SiO)4等の白金のビニルシロキサン錯体(特開平11−152337号公報参照)等の白金族金属系触媒等が挙げられる。
前記R1aの炭素数1〜18のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、n−ヘプチル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、オクチル基、イソオクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基等が挙げられる。
前記R1aは、これらの中でも、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基が好ましく、メチル基、フェニル基がより好ましい。
前記R1bの炭素数1〜18のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、n−ヘプチル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、オクチル基、イソオクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基等が挙げられる。
前記R1bは、これらの中でも、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基が好ましく、メチル基、フェニル基がより好ましい。
前記R2aとしては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、オクチレン基、及び、これらのアルキレン基の一部の炭素原子が酸素原子で置換されてなる基等が挙げられる。
前記式(1−3)中、R2bは炭素数1〜3のアルキレン基を表す。
前記R2bとしては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基が挙げられる。
前記R3としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が挙げられる。
前記R4で表される炭素数1〜3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基が挙げられ、OH基を有する炭素数1〜3のアルキル基としては、例えば、メチロール基、エチロール基等が挙げられる。
なお、xが0である場合とは、R2aとNH基とが直接結合している場合を意味する。
なお、ここでいうアミノ基とは、前記環状カーボネート化合物と反応し得るアミノ基であり、詳しくは、一級アミノ基及び二級アミノ基である。
また、(B)の成分の配合量は、本発明のシリコーン樹脂組成物全体に対して、0.01〜15質量%であることが好ましい。(B)の成分の配合量が0.01質量%未満であると、接着性を向上させる効果が充分に発揮されないことがある。(B)の成分の配合量が15質量%を超えると、硬化物の硬度に悪影響を及ぼすことがある。(B)の成分の配合量は、0.1〜10質量%であることがより好ましく、0.5〜5質量%であることが更に好ましい。
(A−i)、(A−ii)、(A−iii)、及び、(B)の成分が混合した状態で保存した場合、保存中に重合が進んでしまうことがある。そのため、例えば、(A−i)及び(A−iii)及び(B)の成分を含有する液と、(A−ii)の成分を含有する液とを分ける等、2液型として保存し、使用時にこれらの液を混合する方法が工業的に好ましい。本発明では、(A−i)の成分と(B)の成分とを混合して保管しても品質に悪影響を及ぼすことがなく、この点においても(B)の成分は、従来の接着性付与剤と比べて有用である。
本発明のシリコーン樹脂組成物は、例えば、光半導体素子等の基材に塗布し硬化させて使用することができる。
本発明のシリコーン樹脂組成物を加熱して硬化させる際の最終的な加熱温度は、通常100℃以上であり、120℃以上であることが好ましく、120〜200℃であることがより好ましく、120〜180℃であることが更に好ましい。
前記電子材料としては、例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材や、光半導体素子や、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子や、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等が挙げられる。なかでも、光半導体素子の封止剤として好適に用いることができる。本発明のシリコーン樹脂硬化物で封止されている光半導体素子封止体もまた、本発明の1つである。
また、本発明のシリコーン樹脂組成物は、例えば、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途に使用することができる。
(アミノ基を有するシリコーン化合物とエチレンカーボネートとの反応(B−1a))
攪拌機、温度計及び冷却器を備え付けた50mL容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、アミノ基を有するシリコーン化合物(信越シリコーン社製、「KF−864」、アミノ基当量3800g/mol)10.0g(アミノ基2.63mmol)とエチレンカーボネート(分子量88.06)0.46g(5.26mmol)とを仕込み、120℃まで昇温させた後、12時間攪拌した。中和滴定により残存アミノ基が1%未満であることを確認した。その後、クロロベンゼン50g及び水50gを加えて分液し、有機層を濃縮することで、透明液体(B−1a)9.2gを取得した。
1H−NMRにより、(B−1a)を測定した結果、(B−1a)は、前記式(1−1)、及び、(1−2)で表される構造単位(R1aがメチル基)と、前記式(1−3)で表される構造単位(R1bがメチル基、R2aがプロピレン基、R3がメチレン基、R4が水素、xが0)と、前記式(1−4)で表される構造単位(R1bがメチル基)とを有していることを確認した。
(アミノ基を有するシリコーン化合物とグリセロールカーボネートとの反応(B−1b))
攪拌機、温度計及び冷却器を備え付けた50mL容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、アミノ基を有するシリコーン化合物(信越シリコーン社製、「KF−864」、アミノ基当量3800g/mol)10.0g(アミノ基2.63mmol)とグリセロールカーボネート(分子量118.09)0.47g(3.95mmol)とを仕込み、120℃まで昇温させた後、12時間攪拌した。中和滴定により残存アミノ基が1%未満であることを確認した。その後、クロロベンゼン50g及び水50gを加えて分液し、有機層を濃縮することで、透明液体(B−1b)8.8gを取得した。
1H−NMRにより、(B−1b)を測定した結果、(B−1b)は、前記式(1−1)、及び、(1−2)で表される構造単位(R1aがメチル基)と、前記式(1−3)で表される構造単位(R1bがメチル基、R2aがプロピレン基、R3がメチレン基、R4がヒドロキシメチル基、xが0)と、前記式(1−4)で表される構造単位(R1bがメチル基)とを有していることを確認した。
(アミノ基を有するシリコーン化合物とトリメチレンカーボネートとの反応(B−1c))
攪拌機、温度計及び冷却器を備え付けた50mL容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、アミノ基を有するシリコーン化合物(信越シリコーン社製、「KF−864」、アミノ基当量3800g/mol)10.0g(アミノ基2.63mmol)とトリメチレンカーボネート(分子量102.09)0.94g(9.21mmol)とを仕込み、120℃まで昇温させた後、20時間攪拌した。中和滴定により残存アミノ基が1%未満であることを確認した。その後、クロロベンゼン50g及び水50gを加えて分液し、有機層を濃縮することで、透明液体(B−1c)8.8gを取得した。
1H−NMRにより、(B−1c)を測定した結果、(B−1c)は、前記式(1−1)、及び、(1−2)で表される構造単位(R1aがメチル基)と、前記式(1−3)で表される構造単位(R1bがメチル基、R2aがプロピレン基、R3がエチレン基、R4が水素、xが0)と、前記式(1−4)で表される構造単位(R1bがメチル基)とを有していることを確認した。
(アミノ基を有するシリコーン化合物とエチレンカーボネートとの反応(B−2a))
攪拌機、温度計及び冷却器を備え付けた50mL容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、アミノ基を有するシリコーン化合物(信越シリコーン社製、「KF−865」、アミノ基当量5000g/mol)10.0g(アミノ基2.00mmol)とエチレンカーボネート(分子量88.06)0.35g(4.00mmol)とを仕込み、120℃まで昇温させた後、15時間攪拌した。中和滴定により残存アミノ基が1%未満であることを確認した。その後、クロロベンゼン50g及び水50gを加えて分液し、有機層を濃縮することで、透明液体(B−2a)9.3gを取得した。
1H−NMRにより、(B−2a)を測定した結果、(B−2a)は、前記式(1−1)、及び、(1−2)で表される構造単位(R1aがメチル基)と、前記式(1−3)で表される構造単位(R1bがメチル基、R2aがプロピレン基、R3がメチレン基、R4が水素、xが0)と、前記式(1−4)で表される構造単位(R1bがメチル基)とを有していることを確認した。
(アミノ基を有するシリコーン化合物とエチレンカーボネートとの反応(B−3a))
攪拌機、温度計及び冷却器を備え付けた50mL容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、アミノ基を有するシリコーン樹脂(信越シリコーン社製、「KF−868」、アミノ基当量8800g/mol)10.0g(アミノ基1.14mmol)とエチレンカーボネート(分子量88.06)0.40g(4.56mmol)とを仕込み、120℃まで昇温させた後、20時間攪拌した。中和滴定により残存アミノ基が1%未満であることを確認した。その後、クロロベンゼン50g及び水50gを加えて分液し、有機層を濃縮することで、透明液体(B−3a)9.3gを取得した。
1H−NMRにより、(B−3a)を測定した結果、(B−3a)は、前記式(1−1)、及び、(1−2)で表される構造単位(R1aがメチル基)と、前記式(1−3)で表される構造単位(R1bがメチル基、R2aがプロピレン基、R3がメチレン基、R4が水素、xが0)と、前記式(1−4)で表される構造単位(R1bがメチル基)とを有していることを確認した。
(アミノ基を有するシリコーン化合物とエチレンカーボネートとの反応(B−4a))
攪拌機、温度計及び冷却器を備え付けた50mL容の四つ口フラスコに、窒素雰囲気下で、アミノ基を有するシリコーン樹脂(信越シリコーン社製、「KF−859」、アミノ基当量3000g/mol、)10.0g(アミノ基3.33mmol)とエチレンカーボネート(分子量88.06)1.47g(16.7mmol)とを仕込み、120℃まで昇温させた後、24時間攪拌した。中和滴定により残存アミノ基が1%未満であることを確認した。その後、クロロベンゼン50g及び水50gを加えて分液し、有機層を濃縮することで、透明液体(B−4a)9.0gを取得した。
1H−NMRにより、(B−4a)を測定した結果、(B−4a)は、前記式(1−1)、及び、(1−2)で表される構造単位(R1aがメチル基)と、前記式(1−3)で表される構造単位(R1bがメチル基、R2aがプロピレン基、R2bがエチレン基、R3がメチレン基、R4が水素、xが1)と、前記式(1−4)で表される構造単位(R1bがメチル基)とを有していることを確認した。
表1に記載した配合量の各成分を均一に混合し、その後、充分に脱気することでシリコーン樹脂組成物を調製した。
なお、表1中のシリコーン樹脂混合物としては、IVS−4752(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製)のA液及びB液を1:1で混合した液(以下、「シリコーン樹脂混合物−1」ともいう)を用いた。シリコーン樹脂混合物−1は、(A−i)、(A−ii)、及び、(A−iii)を主成分として含有する混合物である。
また、表1中の(C−1)としては、グリシドキシプロピルトリメトキシラン(東レ・ダウコーニング社製、「Z−6040」)を用い、(C−2)としては、イソシアヌル酸トリグリシジル(東京化成工業社製)を用いた。
実施例1〜9及び比較例1〜3で得られた各シリコーン樹脂組成物について、以下の評価を行った。結果を表1に示した。
実施例1〜9及び比較例1〜3で得られた各シリコーン樹脂組成物を樹脂製モールドに流し込み、150℃で1時間加熱した後、170℃で1時間加熱し、シリコーン樹脂組成物を硬化させた。得られた硬化物をモールドから離型し、半径20mm×厚さ6mmの硬化物とし、硬度測定用試験片とした。得られた硬度測定用試験片について、ゴム・プラスチック硬度計(古里精機製作所社製、「KR−24A」)を用いて硬度(タイプA)を測定した。
実施例1〜9及び比較例1〜3で得られた各シリコーン樹脂組成物を、接着部が12.5×25mmの長方形になるように2枚のポリフタルアミド樹脂板(サイズ2×25×100mm)のうちの一方に塗布し、もう一方のポリフタルアミド樹脂板を貼り合わせ、150℃で1時間加熱した後、170℃で1時間加熱してシリコーン樹脂組成物を硬化させ、引張せん断試験片とした。接着基材であるポリフタルアミド樹脂板は、150℃で1時間乾燥させたものを使用した。得られた接着試験片について、引張試験機(島津製作所社製、「AGS−X」)を用いて、つかみ具間距離100mm、試験速度5mm/minの条件で、引張せん断接着強度を測定した。接着性付与剤を用いなかった比較例1の接着強度を基準とし、比較例1の接着強度に対して、1.1倍未満であった場合を「×」、1.1倍以上1.2倍未満であった場合を「△」、1.2倍以上1.3倍未満であった場合を「○」、1.3倍以上であった場合を「◎」として評価した。
表2に記載した配合量の各成分を均一に混合し、その後、充分に脱気することでシリコーン樹脂組成物を調製した。
なお、表2中のシリコーン樹脂混合物としては、IVS−4752(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル社製)のA液(以下、シリコーン樹脂混合物−2)を用いた。シリコーン樹脂混合物−2は、(A−i)を主成分として含有する混合物である。
また、表1中の(C−1)としては、グリシドキシプロピルトリメトキシラン(東レ・ダウコーニング社製、「Z−6040」)を用い、(C−2)としては、イソシアヌル酸トリグリシジル(東京化成工業社製)を用いた。
実施例10〜18及び比較例4〜6で得られた各シリコーン樹脂組成物について、以下の評価を行った。結果を表2に示した。
実施例10〜18及び比較例4〜6で得られた各シリコーン樹脂組成物を、70℃で30日間保温し、保温前と保温後の粘度(23℃)及び透過率(波長400nm)を測定し、それぞれの変化量から保存安定性を評価した。粘度の測定には、デジタル粘度計DVH−EII(トキメック社製)を用い、透過率の測定には、U−4100形分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製)を用いた。
Claims (5)
- (A−i)ケイ素原子に結合した炭素−炭素二重結合を有する置換基を少なくとも2個有するポリオルガノシロキサンと、(A−ii)ケイ素原子に結合した水素基を少なくとも2個有するポリオルガノハイドロジェンシロキサンと、(A−iii)ヒドロシリル化反応触媒とを含有するシリコーン樹脂混合物、及び、
(B)下記式(1−1)で表される構造単位と下記式(1−2)で表される構造単位との間に、下記式(1−3)で表される構造単位及び下記式(1−4)で表される構造単位を有するシリコーン化合物を含有し、
前記(B)の成分の下記式(1−3)官能基当量は300〜15000であり、
前記(B)の成分の配合量が、(A−i)、(A−ii)、及び、(A−iii)の成分の合計100質量部に対して、0.01〜10質量部である
ことを特徴とするシリコーン樹脂組成物。
- (A−i)の成分中のケイ素原子に結合した炭素−炭素二重結合を有する置換基は、ビニル基、アクリロイル基又はメタアクリロイル基であることを特徴とする請求項1記載のシリコーン樹脂組成物。
- 式(1−3)中のR3がメチレン基、R4が水素原子であり、xが0又は1である請求項1又は2記載のシリコーン樹脂組成物。
- 請求項1、2又は3記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させることによって得られることを特徴とするシリコーン樹脂硬化物。
- 光半導体素子が請求項4記載のシリコーン樹脂硬化物で封止されていることを特徴とする光半導体素子封止体。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5716139B1 (ja) * | 2013-08-19 | 2015-05-13 | 住友精化株式会社 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、付加硬化型シリコーン樹脂硬化物、及び、光半導体素子封止体 |
JP5795110B1 (ja) * | 2014-08-28 | 2015-10-14 | 株式会社ファンケル | 表面処理粉体 |
US9963552B2 (en) | 2013-08-20 | 2018-05-08 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Condensation-curable silicone resin composition, condensation-curable silicone resin cured product, and sealed optical semiconductor element |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015083446A1 (ja) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | 住友精化株式会社 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、付加硬化型シリコーン樹脂硬化物、及び、光半導体素子封止体 |
WO2015129140A1 (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 住友精化株式会社 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、付加硬化型シリコーン樹脂硬化物、及び、光半導体素子封止体 |
JP6592438B2 (ja) * | 2014-07-30 | 2019-10-16 | 住友精化株式会社 | シリコーン樹脂組成物、シリコーン樹脂硬化物、及び、光半導体素子封止体 |
JP6424868B2 (ja) * | 2016-09-07 | 2018-11-21 | 信越化学工業株式会社 | シラン変性共重合体、その製造方法および密着向上剤 |
JP6469749B2 (ja) * | 2017-03-29 | 2019-02-13 | 日新製鋼株式会社 | 塗装金属板用塗料 |
JP6966411B2 (ja) * | 2018-11-02 | 2021-11-17 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、その硬化物、及び光半導体装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010084118A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-04-15 | Dow Corning Toray Co Ltd | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光半導体素子封止剤および光半導体装置 |
JP2011178983A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-09-15 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | シリコーン樹脂組成物およびその使用方法、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂含有構造体、ならびに光半導体素子封止体 |
JP2011246693A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-12-08 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 高接着性シリコーン樹脂組成物及び当該組成物を使用した光半導体装置 |
JP2012012434A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Dow Corning Toray Co Ltd | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および光半導体装置 |
JP2012149131A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリコーン樹脂組成物及び当該組成物を使用した光半導体装置 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2947771A (en) | 1956-10-12 | 1960-08-02 | Union Carbide Corp | Aminoalkylpolysiloxanes and process for their production |
US3159601A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes |
US3220972A (en) | 1962-07-02 | 1965-11-30 | Gen Electric | Organosilicon process using a chloroplatinic acid reaction product as the catalyst |
US3159662A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Addition reaction |
US3355424A (en) | 1964-07-29 | 1967-11-28 | Dow Corning | Method for the preparation of aminoalkylsiloxane copolymers |
US3775452A (en) | 1971-04-28 | 1973-11-27 | Gen Electric | Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes |
US3890269A (en) | 1972-08-11 | 1975-06-17 | Stauffer Chemical Co | Process for preparing aminofunctional polysiloxane polymers |
JP3661807B2 (ja) | 1995-12-14 | 2005-06-22 | チッソ株式会社 | ヒドロキシル基含有シロキサン化合物の製造方法 |
JPH11152337A (ja) | 1997-11-19 | 1999-06-08 | Chisso Corp | ヒドロキシル基含有シロキサン化合物の製造方法 |
US6562931B1 (en) | 1999-10-29 | 2003-05-13 | Alliedsignal Inc. | Room temperature vulcanizable silicone compositions with improved adhesion to acrylic |
FR2840912B1 (fr) | 2002-06-18 | 2005-10-21 | Rhodia Chimie Sa | Emulsion silicone aqueuse pour le revetement de supports fibreux tisses ou non |
JP4479883B2 (ja) | 2003-11-20 | 2010-06-09 | 信越化学工業株式会社 | 発光半導体装置 |
JP4479882B2 (ja) | 2003-11-20 | 2010-06-09 | 信越化学工業株式会社 | 砲弾型発光半導体装置 |
JP4541842B2 (ja) | 2004-11-10 | 2010-09-08 | 信越化学工業株式会社 | 自己接着性オルガノポリシロキサン組成物 |
KR101460980B1 (ko) | 2006-05-23 | 2014-11-13 | 다우 코닝 코포레이션 | 활성제를 전달하기 위한 신규한 실리콘막 형성제 |
JP5149022B2 (ja) | 2008-01-25 | 2013-02-20 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 光半導体封止用シリコーン組成物及びそれを用いた光半導体装置 |
JP2010265374A (ja) | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | イソシアヌル環含有末端ハイドロジェンポリシロキサン |
JP2011012144A (ja) | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Konishi Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及び室温硬化性接着剤組成物 |
CN102190890B (zh) | 2010-01-26 | 2015-06-17 | 横滨橡胶株式会社 | 有机硅树脂组合物及其使用方法、有机硅树脂、含有其的结构体、和光半导体元件密封体 |
KR101213028B1 (ko) | 2011-02-09 | 2012-12-18 | 주식회사 케이씨씨 | 오르가노폴리실록산, 그 제조방법 및 이를 포함하는 실리콘 조성물 |
-
2013
- 2013-10-16 US US14/438,499 patent/US9181400B2/en not_active Expired - Fee Related
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- 2013-10-16 JP JP2014501776A patent/JP5548322B1/ja active Active
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- 2013-10-16 CN CN201380013905.6A patent/CN104169368B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010084118A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-04-15 | Dow Corning Toray Co Ltd | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光半導体素子封止剤および光半導体装置 |
JP2011178983A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-09-15 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | シリコーン樹脂組成物およびその使用方法、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂含有構造体、ならびに光半導体素子封止体 |
JP2011246693A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-12-08 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 高接着性シリコーン樹脂組成物及び当該組成物を使用した光半導体装置 |
JP2012012434A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Dow Corning Toray Co Ltd | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および光半導体装置 |
JP2012149131A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリコーン樹脂組成物及び当該組成物を使用した光半導体装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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