JP5546967B2 - 圧電積層素子 - Google Patents
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 136
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 18
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 115
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 15
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 12
- 229910005805 NiNb Inorganic materials 0.000 description 10
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical class [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 7
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
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- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Description
図1は、本発明による第1の実施の形態を示す正面図である。図1では、説明のため圧電積層素子の外装を示していないが、従来の圧電積層素子と同様に、圧電積層素子の側面の保護と絶縁のために外装を設けることも可能である。本発明の圧電積層素子は、圧電セラミックスからなる複数の活性層14と複数の内部電極13が交互に積層され、上下の最外層には圧電セラミックスからなる不活性層15a、15bが積層され、一体化されて立方体型の積層体を形成している。内部電極に挟まれた活性層14は、電圧印加時に変位する部分であり、最外層に位置する不活性層15a、15bは、活性層14を保護する部分である。活性層14および不活性層15a、15bは、複数の圧電セラミックスシートを積層し焼結によって一体化された構造となっている。
図2は、本発明による第2の実施の形態を示す正面図である。第2の実施の形態において、圧電積層素子の基本構造は第1の実施の形態と同様である。本実施の形態は、低抵抗セラミックス16を活性層14の一部と置換した例である。図2において、低抵抗セラミックス16を斜線で示している。低抵抗セラミックス16は、外部電極12a、12bとだけでなく、内部電極13a、13bと接続しリーク経路を形成している。本実施の形態では、内部電極13aと13bの接続距離が小さく、接続断面積が大きい構造にできるため、よりリーク性を大きくすることができる。
図3は、本発明による第3の実施の形態を示す正面図である。第3の実施の形態においても、圧電積層素子の基本構造は第1の実施の形態と同様である。本実施例において、低抵抗セラミックス16は一体焼結ではなく、接着層17によって不活性層15aの上面に貼り付けられて、外部電極12a、12bの間を接続している。図3において、低抵抗セラミックス16を斜線で示している。
図4は、本発明による第4の実施の形態を示す図である。図4(a)は、中心線断面図、図4(b)は、第1の内部電極構造を示す平面図、図4(c)は、第2の内部電極構造を示す平面図である。本発明によれば、圧電積層素子は実施の形態1〜3のように立方体型に限る事は無く、図4(a)に示す本実施の形態のように円柱型などでもよく、置換する低抵抗セラミックスは、実施の形態1〜3のどのケースにおいても作製が可能である。本実施の形態では、図4(b)に示すように活性層14aには内部電極13aが印刷され、外部電極との接続する部分が側面に露出する構造となっている。また、図4(c)に示すように、活性層14bには内部電極13bが印刷され、外部電極と接続する部分が、内部電極13aと反対側の側面に露出する構造となっている。前述したように内部電極を印刷した活性層を交互に積層し、最外層に不活性層15a、15bを積層し、側面の内部電極の露出した部分に一対の外部電極を形成した。本実施の形態では、活性層14aを低抵抗セラミックスと置換し、外部電極12a、12b、および内部電極13a、13bと接続した。
実施例1として、図1のように不活性層の一部を低抵抗セラミックスに置き換えた。活性層および不活性層にNiNb系PZTを、内部電極にAgPdペーストを、低抵抗セラミックスにCa置換チタン酸鉛系セラミックスを用いた。圧電セラミックシートを作製し、積層、圧着を行い、500℃で脱樹脂を行った後、匣鉢内に密閉して1050℃で2時間焼結を行った。得られた試料を切断加工処理し、Agを主成分とした外部電極をスパッタリングで形成し、外装をエポキシ樹脂で塗布して本発明の圧電積層素子を作製した。なお、低抵抗セラミックスの厚みは約18μm、低抵抗セラミックスの上下に位置する不活性層の厚みはそれぞれ約56μm、他方の不活性層の厚みは約85μm、活性層1層の厚みは約18μm、内部電極の厚みは約2μmとした。活性層は70層であり、長さ0.9mm×幅0.9mm×高さ1.6mmの圧電積層素子を得た。
実施例2として、図2にように活性層の一部を低抵抗セラミックスに置き換えた。活性層および不活性層にNiNb系PZTを、内部電極にAgPdペーストを、低抵抗セラミックスにCa置換チタン酸鉛系セラミックスを用いた。圧電セラミックシートを作製し、積層、圧着を行い、500℃で脱樹脂を行った後、匣鉢内に密閉して1050℃で2時間焼結を行った。得られた試料を切断加工処理し、Agを主成分とした外部電極をスパッタリングで形成し、外装をエポキシ樹脂で塗布して本発明の圧電積層素子を作製した。なお、上下の不活性層の厚みはそれぞれ約98μm、低抵抗セラミックスの厚みは約18μm、活性層1層の厚みは約18μm、内部電極の厚みは約2μmとした。活性層は低抵抗セラミックス部分を含めて70層であり、長さ0.9mm×幅0.9mm×高さ1.6mmの圧電積層素子を得た。
実施例3として、図3のように不活性層の上面に接着剤で低抵抗セラミックスを貼り付け形成した。活性層および不活性層にNiNb系PZTを、内部電極にAgPdペーストを、低抵抗セラミックスにCa置換チタン酸鉛系セラミックスを用いた。圧電セラミックシートを作製し、積層、圧着を行い、500℃で脱樹脂を行った後、匣鉢内に密閉して1050℃で2時間焼結を行った。得られた試料を切断加工処理し、Agを主成分とした外部電極をスパッタリングで形成した。低抵抗セラミックスも同様の方法で作製し、必要な形状に切断加工処理し、不活性層の上面にエポキシ樹脂からなる接着剤で低抵抗セラミックスを接着し、その端部と外部電極とを導電ペーストを塗布して電気的に接続し、外装をエポキシ樹脂で塗布して本発明の圧電積層素子を作製した。なお、低抵抗セラミックスの厚みは約90μm、接着層の厚みは約25μm、低抵抗セラミックスと接着される不活性層の厚みは約30μm、他方の不活性層の厚みは約50μm、活性層1層の厚みは約18μm、内部電極の厚みは約2μmとした。活性層は70層であり、長さ0.9mm×幅0.9mm×高さ1.6mmの圧電積層素子を得た。
実施例4として、図4のように円柱状の圧電積層素子を作製した。低抵抗セラミックスは、活性層の一部と置き換え、その積層構造は実施例2と同様である。活性層および不活性層にNiNb系PZTを、内部電極にAgPdペーストを、低抵抗セラミックスにCa置換チタン酸鉛系セラミックスを用いた。圧電セラミックシートを作製し、円形状に切断加工後、積層、圧着を行い、500℃で脱樹脂を行った後、匣鉢内に密閉して1050℃で2時間焼結を行った。得られた試料にAgを主成分とした外部電極をスパッタリングで形成し、本発明の圧電積層素子を作製した。内部電極は、図4(b)のように一部のみ側面に露出する構造となっており、この露出部分を交互に揃えて露出部分にのみ外部電極を形成した。なお、上下の不活性層の厚みはそれぞれ約98μm、低抵抗セラミックスの厚みは約18μm、活性層1層の厚みは約18μm、内部電極の厚みは約2μmとした。活性層は低抵抗セラミックス部分を含めて70層であり、φ1.3mm×高さ1.6mmの圧電積層素子を得た。
12、12a、12b 外部電極
13、13a、13b、13c 内部電極
14、14a、14b 活性層
14a1、14a2、14b1、14b2 圧電セラミックシート
15a、15b 不活性層
15a1、15a2、15a3 圧電セラミックシート
16 低抵抗セラミックス
17 接着層
Claims (3)
- 複数のセラミックス層と複数の内部電極を交互に積層し一体化した積層体を備え、前記セラミックス層は、前記内部電極に挟まれ、電圧印加時に変位を生じる活性層と、最外層に位置する不活性層とで構成され、前記内部電極の少なくとも一部は前記積層体の側面に露出し、前記積層体の側面には一対の外部電極が形成され、前記内部電極の露出した部分と一層おきに電気的に接続された圧電積層素子であって、前記セラミックス層は、第1のセラミックスおよび前記第1のセラミックスよりも絶縁抵抗値が低い第2のセラミックスとで構成され、前記第2のセラミックスは、前記外部電極または前記内部電極に接続するように設けられたことを特徴とする圧電積層素子。
- 前記第2のセラミックスは、前記不活性層の少なくとも一部に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の圧電積層素子。
- 前記第2のセラミックスは、前記活性層の少なくとも一部に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の圧電積層素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010140123A JP5546967B2 (ja) | 2010-06-21 | 2010-06-21 | 圧電積層素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010140123A JP5546967B2 (ja) | 2010-06-21 | 2010-06-21 | 圧電積層素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012004467A JP2012004467A (ja) | 2012-01-05 |
JP5546967B2 true JP5546967B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=45536081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010140123A Active JP5546967B2 (ja) | 2010-06-21 | 2010-06-21 | 圧電積層素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5546967B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5842635B2 (ja) * | 2012-01-27 | 2016-01-13 | Tdk株式会社 | 積層型圧電素子 |
JP5974598B2 (ja) * | 2012-04-12 | 2016-08-23 | Tdk株式会社 | 圧電素子ユニット |
JP5556857B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2014-07-23 | Tdk株式会社 | 積層型圧電素子 |
JP6966727B2 (ja) * | 2019-10-11 | 2021-11-17 | Tdk株式会社 | 積層型圧電素子 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006001334A1 (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-05 | Kyocera Corporation | 積層型電子部品及びこれを用いた噴射装置 |
EP1858092B1 (en) * | 2005-11-02 | 2013-01-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Piezoelectric element |
EP1978567B1 (en) * | 2007-02-19 | 2014-06-25 | Continental Automotive GmbH | Piezoceramic multilayer actuator and method of manufacturing a piezoceramic multilayer actuator |
JP2008300430A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Denso Corp | 積層型圧電素子ならびにその製造方法 |
-
2010
- 2010-06-21 JP JP2010140123A patent/JP5546967B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012004467A (ja) | 2012-01-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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