JP5493526B2 - Cmp用研磨液及び研磨方法 - Google Patents
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Description
また、最近は、LSIを高性能化するために、配線部用金属として銅又は銅合金の利用が試みられている。しかし、銅又は銅合金は従来のアルミニウム合金配線の形成で頻繁に用いられたドライエッチング法による微細加工が困難である。
一方、銅又は銅合金等の配線部用金属の下層には、層間絶縁膜中への金属の拡散防止や密着性向上のためのバリア導体の層(以下、バリア層という)が形成される。従って、銅又は銅合金等の配線部用金属を埋め込む配線部以外では、露出したバリア層をCMPにより取り除く必要がある。
具体的には、本発明は、以下の通りである。
前記砥粒は、CMP用研磨液中において正のゼータ電位を有し、且つ
前記第四級ホスホニウム塩は、アルキルトリフェニルホスホニウム塩構造を有してなるCMP用研磨液。
(2)前記アルキルトリフェニルホスホニウム塩構造におけるアルキル基が、炭素原子数1〜14の鎖長を有する前記(1)記載のCMP用研磨液。
(6)pHが4以下である前記(1)〜(5)のいずれか一つに記載のCMP用研磨液。
(10)金属防食剤を含有した前記(1)〜(9)いずれか一つに記載のCMP用研磨液。
(12)水溶性ポリマーを含有した前記(1)〜(11)のいずれか一つに記載のCMP用研磨液。
(14)有機溶媒を含有した前記(1)〜(13)のいずれか一つに記載のCMP用研磨液。
(16)前記CMP用研磨液は、第1の研磨工程及び第2の研磨工程を有する研磨方法における前記第2の研磨工程に用いられるものであり、
前記第1の研磨工程は、表面に凹凸が形成された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜を表面に沿って被覆するバリア層と、前記凹部を充填してバリア層を被覆する配線部用金属と、を有する基板の前記配線部用金属を研磨して前記凸部のバリア層を露出させる工程であり、
前記第2の研磨工程は、前記第1の研磨工程で露出したバリア層を研磨して前記凸部の層間絶縁膜を露出させる工程であり、
前記層間絶縁膜が、low−k膜と、該low−k膜をキャップしたキャップ層とを有し、前記low−k膜が、誘電率2.9以下のシリコン系被膜又は有機ポリマー膜である前記(1)〜(15)のいずれか一つに記載のCMP用研磨液。
前記第1の研磨工程は、表面に凹凸が形成された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜を表面に沿って被覆するバリア層と、前記凹部を充填してバリア層を被覆する配線部用金属と、を有する基板の前記配線部用金属を研磨して前記凸部のバリア層を露出させる工程であり、
前記第2の研磨工程は、前記第1の研磨工程で露出したバリア層を、前記(1)〜(15)のいずれか一つに記載のCMP用研磨液を用いて研磨して、前記凸部の層間絶縁膜を露出させる工程である研磨方法。
(19)前記low−k膜に対する前記キャップ層の研磨速度比が10倍以上である前記(18)に記載の研磨方法。
なお、本発明において、疎水性の高低とは、複数の膜を比較した場合の相対的な高低を意味するものであり、定量的に表される疎水性を意味するものではない。
前記第四級ホスホニウム塩は、アルキルトリフェニルホスホニウム塩構造を有していることが重要である。
本発明のCMP用研磨液は砥粒を含有することを特徴とする。一般に砥粒は所定の硬度を有するため、その機械的作用により研磨の進行に寄与するが、本発明のCMP用研磨液において使用される砥粒は、前記第四級ホスホニウム塩と相互作用しうるものであることが好ましい。このようにすることで、キャップ層とlow−k膜に対する良好な研磨速度比を得ることが容易になる。ここで、「相互作用」とは、静電的におこる反発作用をいい、より具体的には、例えば正の電荷を持つホスホニウムイオンと正の電荷を周りに有する砥粒の静電反発が挙げられる。
具体的には、CMP用研磨液を100μL程度量り取り、砥粒濃度が0.05質量%前後(測定時透過率(H)が60〜70%になる濃度)になるようにイオン交換水で希釈する。そしてその希釈液を動的光散乱式粒度分布計の試料槽に投入し、D50として表示される値を読み取ることにより、平均粒径を測ることができる。
平均粒度分布の標準偏差の測定は、粒度分布計(例えば、堀場製作所製の商品名:LB−500)で測定して求めることができる。
平均2粒子未満であることを確認するには、前記の方法で求めた砥粒の平均粒径を、一次粒径で割り、この値が2未満であることを確認すればよい。
本発明のCMP用研磨液は、バリア層や配線部用金属等の金属層研磨速度を高める目的で酸化金属溶解剤を含有する。このような酸化金属溶解剤としては、金属層と反応し錯体を形成する化合物であれば特に制限はないが、有機酸、有機酸エステル、有機酸のアンモニウム塩、無機酸、無機酸のアンモニウム塩等が挙げられる。具体的には例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、2−メチル酪酸、n−ヘキサン酸、3,3−ジメチル酪酸、2−エチル酪酸、4−メチルペンタン酸、n−ヘプタン酸、2−メチルヘキサン酸、n−オクタン酸、2−エチルヘキサン酸、安息香酸、グリコール酸、サリチル酸、グリセリン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸;これらの有機酸エステル及びこれら有機酸のアンモニウム塩;塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸;これら無機酸のアンモニウム塩類、例えば過硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、クロム酸等;が挙げられる。
本発明のCMP用研磨液は、金属の酸化剤を含有する。金属の酸化剤としては、特に制限はないが、例えば、過酸化水素、ペルオキソ硫酸塩、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸、オゾン水等が挙げられ、その中でも過酸化水素が特に好ましい。これら酸化剤は1種類単独で又は2種類以上を混合して用いることができる。
本発明のCMP用研磨液は、金属防食剤を含有することができる。
金属防食剤としては、特に制限はないが、例えば、2−メルカプトベンゾチアゾール等のチアゾール骨格を有する化合物;1,2,3−トリアゾ−ル、1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−1H−1,2,4−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル、1−ジヒドロキシプロピルベンゾトリアゾ−ル、2,3−ジカルボキシプロピルベンゾトリアゾール、4−ヒドロキシベンゾトリアゾール、4−カルボキシル(−1H−)ベンゾトリアゾール、4−カルボキシル(−1H−)ベンゾトリアゾールメチルエステル、4−カルボキシル(−1H−)ベンゾトリアゾールブチルエステル、4−カルボキシル(−1H−)ベンゾトリアゾールオクチルエステル、5−ヘキシルベンゾトリアゾール、[1,2,3−ベンゾトリアゾリル−1−メチル][1,2,4−トリアゾリル−1−メチル][2−エチルヘキシル]アミン、トリルトリアゾール、ナフトトリアゾール、ビス[(1−ベンゾトリアゾリル)メチル]ホスホン酸等のトリアゾール骨格を有する化合物;が挙げられる。
本発明のCMP用研磨液は、水溶性ポリマーを含有することができる。水溶性ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは500以上、より好ましくは1500以上、特に好ましくは5000以上である。前記水溶性ポリマーの重量平均分子量の上限は特に制限はないが、溶解度の観点から500万以下が好ましい。前記水溶性ポリマーの重量平均分子量が500以上であるとバリア層に対する高い研磨速度を発現する。前記水溶性ポリマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検量線を用いて測定することができる。
このため、前記水溶性ポリマーは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン化物を含まないものが好ましく、例えば、ポリリンゴ酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アンモニウム塩、ポリアクリルアミド、ペクチン酸、寒天、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドン、これらのエステル及びこれらのアンモニウム塩等が特に好ましい。但し、基板がガラス基板等である場合はその限りではない。
本発明のCMP用研磨液は有機溶媒を含有することができる。有機溶媒としては特に制限はないが、水と任意で混合できるものが好ましい。
有機溶媒の具体例としては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート等の炭酸エステル類;ブチロラクトン、プロピロラクトン等のラクトン類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類;グリコール類の誘導体として、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルやエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルやエチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテルやエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールモノエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテルやエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピルエーテル、トリエチレングリコールジプロピルエーテル、トリプロピレングリコールジプロピルエーテルやエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールジブチルエーテル等のグリコールジエーテル類等;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ポリエチレンオキサイド、エチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエーテル類;メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、イソプロパノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;その他、フェノール類、ジメチルホルムアミド等のアミド類、n−メチルピロリドン、酢酸エチル、乳酸エチル、スルホラン類等が挙げられる。
これらのなかでも、グリコールモノエーテル類、アルコール類、炭酸エステル類が好ましい。
これら有機溶媒は、1種類単独で又は2種類以上を混合して用いることができる。
なお、CMP用研磨液における水の配合量は残部でよく、含有されていれば特に制限はない。
本発明のCMP用研磨液のpHは、砥粒の分散安定性の点で4.0以下であることが好ましく、3.0以下であることがより好ましい。また、使用する際の安全性の点で1.0以上であることが好ましく、2.0以上であることがより好ましい。なお、pHを調整するために適宜酸又は塩基を添加することができる。
本発明のCMP用研磨液は、半導体デバイスにおける配線層の形成に適用できる。
例えば配線部用金属と、バリア層と、キャップ層と、low−k膜とのCMPに使用することができる。同一条件下のCMPにおいて配線部用金属/バリア層/キャップ層/low−k膜の研磨速度比は、0.1〜2/1/0.1〜5/0.01〜0.5で研磨されるのが好ましい。なお、low−k膜に対するキャップ層の研磨速度比は10倍以上であることがより好ましい。
本発明のCMP用研磨液を用いれば、前記研磨速度比とすることができる。
[研磨条件]
研磨装置:片面金属膜用研磨機(アプライドマテリアルズ社製、MIRRA)
研磨布:発泡ポリウレタン樹脂製研磨布
定盤回転数:93回/分
ヘッド回転数:87回/分
研磨圧力:10kPa
研磨液の供給量:200ml/分
[基板の洗浄条件]
次にスポンジブラシを取り除き、基板の被研磨面に蒸留水を60秒間供給する。最後に基板を高速で回転させて蒸留水を弾き飛ばして基板を乾燥する。
これらの中でも特に、フルオロシリケートグラス、オルガノシリケートグラス、ポーラスオルガノシリケートグラス等が、low−k膜として用いられる。これらの膜は、CVD法、スピンコート法、ディップコート法又はスプレー法によって成膜される。
バリア層としては、層間絶縁膜中への配線部用金属が拡散するのを防止するため及び層間絶縁膜と配線部用金属との密着性向上のために形成される。
研磨終了後の基板は、流水中でよく洗浄後、スピンドライ等を用いて基板上に付着した水滴を払い落としてから乾燥させることが好ましい。
まず、シリコンの基板上にオルガノシリケートグラス等のlow−k膜を層間絶縁膜として成膜した後、その上部に二酸化珪素等のキャップ膜を積層し層間絶縁膜を形成する。
次いで、レジスト層形成、エッチング等の公知の手段によって、層間絶縁膜表面に所定パターンの凹部(基板露出部)を形成して、凸部と凹部とを有する層間絶縁膜とする。この層間絶縁膜上に、表面の凸凹に沿って層間絶縁膜を被覆するタンタル等のバリア層を蒸着又はCVD等により成膜する。
第2の研磨工程では、前記基板を研磨布の上に押圧した状態で前記研磨布と基板の間に本発明のCMP用研磨液を供給しながら研磨定盤と前記基板とを相対的に動かすことにより、前記第1の研磨工程により露出したバリア層を研磨する。
本発明のCMP用研磨液は、前記のような半導体基板に形成された金属膜の研磨だけでなく、磁気ヘッド等の基板を研磨するためにも使用することができる。
[CMP用研磨液(I)の作製]
ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド0.1質量部、平均二次粒径60nmのコロイダルシリカ4.0質量部、マロン酸0.5質量部、30%過酸化水素水0.2質量部、1−ヒドロキシベンゾトリゾール0.1質量部、ポリアクリル酸(重量平均分子量60000)0.1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル2.0質量部及び水93.0質量部を攪拌・混合し、CMP用研磨液(I)を作製した。
[CMP用研磨液(II)〜(VIII)の作製]
表1に示す各成分を混合し、実施例1と同様に操作してCMP用研磨液(II)〜(VIII)を作製した。
[CMP用研磨液(IX)の作製]
平均粒径60nmのコロイダルシリカ4.0質量部、マロン酸0.5質量部、30%過酸化水素水0.2質量部、5−アミノテトラゾール0.2質量部、ポリアクリル酸(重量平均分子量60000)0.1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル2.0質量部及び水93.0質量部を攪拌・混合し、CMP用研磨液(IX)を作製した。
[CMP用研磨液(X)〜(XIII)の作製]
添加剤として表2に示す各成分を混合し、比較例1と同様に操作してCMP用研磨液(X)〜(XIII)を作製した。
以下の項目により、CMP用研磨液(I)〜(XIII)の評価を行った。(ブランケットウエハの研磨評価及び発泡性評価)
以下の基板を用意した。
ブランケット基板(a):CVD法でオルガノシリケートグラス(厚さ:1000nm)を形成したシリコン基板。
ブランケット基板(b):CVD法で二酸化珪素(厚さ:1000nm)を形成したシリコン基板。
ブランケット基板(c):スパッタ法で窒化タンタル(厚さ:200nm)を形成したシリコン基板。
ブランケット基板(d):めっき法で銅(厚さ:1000nm)を形成したシリコン基板。
研磨装置:片面金属膜用研磨機(アプライドマテリアルズ社製、MIRRA)
研磨布:発泡ポリウレタン樹脂製研磨布
定盤回転数:93回/分
ヘッド回転数:87回/分
研磨圧力:14kPa
研磨液の供給量:200ml/分
(基板の研磨工程)
前記パターン基板をCMP用研磨液(I)〜(XIII)で、前記研磨条件で60秒間化学機械研磨した。
前記で研磨した基板の被研磨面にスポンジブラシ(ポリビニルアルコール系樹脂製)を押し付け、蒸留水を基板に供給しながら基板とスポンジブラシを回転させ、60秒間洗浄した。
次にスポンジブラシを取り除き、基板の被研磨面に蒸留水を60秒間供給した。最後に基板を高速で回転させて蒸留水を弾き飛ばして基板を乾燥した。
研磨速度と研磨液の発泡性について下記のように評価した。
研磨速度:前記条件で研磨及び洗浄した(a)及び(b)のブランケット基板の研磨速度を、研磨前後での膜厚差を大日本スクリーン製造株式会社製、膜厚測定装置(製品名:ラムダエース、VL−M8000LS)を用いて測定し求めた。また、研磨及び洗浄した(c)及び(d)のブランケット基板の研磨速度を、研磨前後での膜厚差を日立国際電気株式会社製、金属膜厚測定装置(製品名:VR−120/08S)を用いて測定し求めた。その結果を表1及び表2に示す。
研磨液の発泡性:前記の作製方法で配合した各CMP用研磨液(I)〜(XIII)を、2000ml蓋付き透明ポリ容器に500g取り分け、本ポリ容器を2分間激しく振とうした。その後、30分間静置し、本ポリ容器内の発泡状態を確認した。その結果を表1及び表2に示す。
より詳しくは、層間絶縁膜としてlow−k膜とキャップ層を有し、キャップ層の上にバリア層が形成される基板を研磨する研磨方法において、本発明のCMP用研磨液は、バリア層に対する良好な研磨速度を維持しつつ、二酸化珪素に対する高い研磨速度と、low−k膜に対する低い研磨速度を達成できることが明らかである。
2 バリア層
3 配線部用金属
5 Si基板
6 low−k膜
7 キャップ層
Claims (21)
- 砥粒、酸化金属溶解剤、酸化剤、水及び第四級ホスホニウム塩を含有してなり、
前記砥粒は、CMP用研磨液中において正のゼータ電位を有し、且つ
前記第四級ホスホニウム塩は、リン原子に結合する3つのフェニル基を有するホスホニウム塩構造を有してなるCMP用研磨液。 - 前記第四級ホスホニウム塩が、アルキルトリフェニルホスホニウム塩構造を有し、該アルキルトリフェニルホスホニウム塩構造におけるアルキル基が、炭素原子数1〜14の鎖長を有する請求項1又は2記載のCMP用研磨液。
- 前記第四級ホスホニウム塩が、ブチルトリフェニルホスホニウム塩、アミルトリフェニルホスホニウム塩、ヘキシルトリフェニルホスホニウム塩、n−ヘプチルトリフェニルホスホニウム塩、テトラフェニルホスホニウム塩、及びベンジルトリフェニルホスホニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記第四級ホスホニウム塩の含有量が、CMP用研磨液100質量部に対して0.0001〜1質量部である請求項1〜4のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- pHが4以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記砥粒が、シリカ、アルミナ、セリア、チタニア、ジルコニア、及びゲルマニア又はこれらの変性物からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜6のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記酸化金属溶解剤が、有機酸、有機酸エステル、有機酸のアンモニウム塩、無機酸及び無機酸のアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜7のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記酸化剤が、過酸化水素、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸及びオゾン水からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜8のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 金属防食剤をさらに含む請求項1〜9のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記金属防食剤が、イミダゾール骨格を有する化合物、トリアゾール骨格を有する化合物、テトラゾール骨格を有する化合物、ピラゾール骨格を有する化合物、及びピリミジン骨格を有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項10記載のCMP用研磨液。
- 水溶性ポリマーをさらに含む請求項1〜11のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記水溶性ポリマーが、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸の塩、多糖類及びビニル系ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項12記載のCMP用研磨液。
- 有機溶媒をさらに含む請求項1〜13のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。
- 前記有機溶媒が、グリコール類、エーテル類、アルコール類、エステル類、ケトン類、フェノール類、アミド類、及びスルホラン類からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項14記載のCMP用研磨液。
- 第1の研磨工程及び第2の研磨工程を有する研磨方法における前記第2の研磨工程に用いられるCMP用研磨液であって、
前記第1の研磨工程は、表面に凹凸が形成された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜を表面に沿って被覆するバリア層と、前記凹部を充填してバリア層を被覆する配線部用金属と、を有する基板の前記配線部用金属を研磨して前記凸部のバリア層を露出させる工程であり、
前記第2の研磨工程は、前記第1の研磨工程で露出したバリア層を研磨して前記凸部の層間絶縁膜を露出させる工程であり、
前記層間絶縁膜が、low−k膜と、該low−k膜をキャップしたキャップ層とを有し、前記low−k膜が、誘電率2.9以下のシリコン系被膜又は有機ポリマー膜である請求項1〜15のいずれか一項に記載のCMP用研磨液。 - 第1の研磨工程及び第2の研磨工程を有することを特徴とする研磨方法であって、
前記第1の研磨工程は、表面に凹凸が形成された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜を表面に沿って被覆するバリア層と、前記凹部を充填してバリア層を被覆する配線部用金属と、を有する基板の前記配線部用金属を研磨して前記凸部のバリア層を露出させる工程であり、
前記第2の研磨工程は、前記第1の研磨工程で露出したバリア層を、請求項1〜15のいずれか一項に記載のCMP用研磨液を用いて研磨して、前記凸部の層間絶縁膜を露出させる工程である研磨方法。 - 前記層間絶縁膜が、low−k膜と、該low−k膜をキャップしたキャップ層とを有し、前記low−k膜が、誘電率2.9以下のシリコン系被膜又は有機ポリマー膜である請求項17に記載の研磨方法。
- 前記low−k膜に対する前記キャップ層の研磨速度比が10倍以上である請求項18に記載の研磨方法。
- 前記配線部用金属が、銅、銅合金、銅の酸化物及び銅合金の酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む請求項17〜19のいずれか一項に記載の研磨方法。
- 前記バリア層が、タンタル、タンタル化合物、チタン、チタン化合物、タングステン、タングステン化合物、ルテニウム及びルテニウム化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む請求項17〜20のいずれか一項に記載の研磨方法。
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