JP5482196B2 - 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 - Google Patents

Description

本発明は、真空雰囲気にて基板に対して反応ガスによりチタンナイトライド膜の成膜を行う成膜装置、成膜方法及び記憶媒体に関する。

半導体装置の多層配線構造において、下層側の配線層と上層側の配線層との間の層間絶縁膜にこれらの配線層同士を接続するためのコンタクトホールを形成したコンタクト構造では、このコンタクトホール内に埋め込む金属材料としてアルミニウムを用いる場合がある。このコンタクトホールの内壁面には、アルミニウムが層間絶縁膜内へ拡散するのを防止するためのバリア膜として、例えばＴｉＮ（チタンナイトライド、窒化チタン）膜が形成される。

このようなバリア膜をコンタクトホールの内壁面に形成するにあたり、従来のＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法は被覆性が良好でないことから、これに代わる成膜手法として、例えばＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やＭＬＤ（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法あるいはＳＦＤ（Ｓｅｑｕｅｎｔｉａｌ Ｆｌｏｗ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが検討されている。

これらの成膜手法においてＴｉＮ膜を成膜する場合には、例えばＴｉＣｌ4（塩化チタン）ガス及び例えばＮＨ3（アンモニア）ガスを半導体ウエハ上に交互に供給して、ＴｉＮの分子層が順次積層される。このような手法は、埋め込み特性（被覆率）が９０％以上にもなり、埋め込み特性を大きく改善できるが、成膜速度が遅いため生産性が悪いという課題がある。また、各回のＴｉＣｌ4ガスの雰囲気をＴｉＣｌ4ガスの吸着が飽和するまで維持しておくと、即ち飽和吸着を行うと、膜表面のモフォロジー（面状態）を制御することができない。つまり、ウエハ上において反応ガスの吸着量が飽和するまで当該反応ガスの吸着時間（反応ガスの供給時間）を長く取ると、ＴｉＮ膜の場合には、例えばＮＨ3ガスを供給している間に、ウエハの表面にて生成したＴｉＮ粒子の結晶化が進行することによって原子や分子のマイグレーション（移動）が起こり、薄膜の表面モフォロジーが悪化してしまう。尚、ＣＶＤ法においては、このような結晶化の進行は避けられない。

そのため、次世代向けのキャパシター電極例えばＺｒＯ（酸化ジルコニウム）、ＴｉＯ（酸化チタン）、ＴａＯ（酸化タンタル）などのバリア膜としてＴｉＮ膜を用いる場合には、当該ＴｉＮ膜の表面形状が粗いと、キャパシター電極に部分的に電荷が集中してしまう。
更に、ＴｉＮのマイグレーションを抑えるために例えば低温で成膜を行う場合には、例えば反応ガスの分解が不十分となり、反応ガス中のＣｌ（塩素）などが薄膜中に取り込まれて設定通りの電気特性が得られなくなってしまう場合もある。
特許文献１〜３には、ＡＬＤ法などについて記載されているが、既述の課題については検討されていない。

米国特許公報７，１５３，５４２号 特許３１４４６６４号公報 米国特許公報６，８６９，６４１号

本発明はこのような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、真空容器内にて基板に対して反応ガスによりチタンナイトライド膜を形成するにあたり、当該チタンナイトライド膜を速やかに成膜できると共に、表面形状が平滑なチタンナイトライド膜を得ることのできる成膜装置、成膜方法及びこの方法を実施するプログラムを格納した記憶媒体を提供することにある。

本発明の成膜装置は、
真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガス及びＮを含む第２の反応ガスを順番に基板の表面に供給してチタンナイトライド膜を形成する成膜装置において、
前記真空容器内に設けられ、基板を載置するための基板載置領域が設けられたテーブルと、
前記真空容器の周方向に互いに離れて設けられ、前記テーブル上の基板に前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを夫々供給するための第１の反応ガス供給手段及び第２の反応ガス供給手段と、
前記第１の反応ガスが供給される第１の処理領域と前記第２の反応ガスが供給される第２の処理領域との間に設けられ、両反応ガスの混合を防止するための分離領域と、
前記第１の処理領域と前記第２の処理領域とを基板がこの順番で位置するように、前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段と前記テーブルとを前記真空容器の周方向に相対的に回転させる回転機構と、
前記真空容器内を真空排気する真空排気手段と、
前記基板への成膜時に、前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段と前記テーブルとを前記回転機構を介して１００ｒｐｍ以上で回転させる制御部と、
前記テーブル上の基板に対してＮＨ3ガスまたはＨ2ガスの少なくとも一方のガスを供給するためのガスインジェクターと、
このガスインジェクターから供給されるガスをプラズマ化してプラズマを発生させるために高周波電力が供給される導電体と、を備え、
この導電体及び前記ガスインジェクターからなる構成は、前記回転機構により、前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段と共に前記テーブルに対して相対的に回転するように構成され、前記相対的な回転時に前記プラズマが前記第２の処理領域と前記第１の処理領域との間において基板に供給されるように配置されていることを特徴とする。

前記分離領域は、分離ガスを供給する分離ガス供給手段を備えていても良いし、更にこの分離ガス供給手段における前記周方向両側に位置し、当該分離領域から処理領域側に分離ガスが流れるための狭隘な空間を前記テーブルとの間に形成するための天井面を備えていても良い。
前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段は、前記第１の処理領域及び前記第２の処理領域における夫々の天井面から離間して基板の近傍に夫々設けられ、前記基板の方向に向けて前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを夫々供給する手段であることが好ましい。

本発明の成膜方法は、
真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガス及びＮを含む第２の反応ガスを順番に基板の表面に供給してチタンナイトライド膜を形成する成膜方法において、
基板を載置するための基板載置領域が設けられたテーブル上に基板を載置する工程と、
次いで、前記真空容器の周方向に互いに離れて設けられた第１の反応ガス供給手段及び第２の反応ガス供給手段から、前記テーブルの表面に対して夫々前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを供給する工程と、
前記テーブル上の基板に対してガスインジェクターからＮＨ3ガスまたはＨ2ガスの少なくとも一方のガスを供給すると共に、導電体に高周波電力を供給することによりこのガスをプラズマ化してプラズマを発生させる工程と、
前記第１の反応ガスが供給される第１の処理領域と前記第２の反応ガスが供給される第２の処理領域との間に設けられた分離領域において両反応ガスの混合を防止する工程と、
前記第１の処理領域と前記第２の処理領域と前記プラズマが供給される領域とを基板がこの順番で位置するように、前記第１の反応ガス供給手段、前記第２の反応ガス供給手段、前記ガスインジェクター及び前記導電体と前記テーブルとを相対的に前記真空容器の周方向に１００ｒｐｍ以上で回転させる工程と、
前記真空容器内を真空排気する工程と、を含むことを特徴とする。
前記両ガスの混合を防止する工程は、分離ガス供給手段から前記分離領域に分離ガスを供給する工程を含んでいても良いし、更に前記分離ガス供給手段における前記周方向両側に位置し、前記分離領域から処理領域側に分離ガスが流れるために前記テーブルと前記真空容器の天井面との間に形成された狭隘な空間に前記分離ガス供給手段から分離ガスを供給する工程を含んでいても良い。
前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを供給する工程は、前記第１の処理領域及び前記第２の処理領域における夫々の天井面から離間して基板の近傍に夫々設けられた前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段から、前記基板の方向に向けて前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを夫々供給する工程であることが好ましい。

本発明の記憶媒体は、
真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガス及びＮを含む第２の反応ガスを順番に基板の表面に供給してチタンナイトライド膜を形成する成膜装置に用いられるプログラムを格納する記憶媒体であって、
前記プログラムは、前記いずれかの成膜方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。

本発明は、真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガスとＮを含む第２の反応ガスとにより基板の表面にチタンナイトライド膜を形成するにあたって、基板を載置するためのテーブルと、前記２種類の反応ガスをテーブル上の基板に夫々供給するための第１の反応ガス供給手段及び第２の反応ガス供給手段と、を真空容器の周方向に相対的に１００ｒｐｍ以上で回転させて両反応ガスを交互に供給している。そのため、前記両反応ガスの供給サイクルを高速で行うことができるので、チタンナイトライド膜を速やかに成膜でき、またサイクル間の時間を極めて短くできるので、基板の表面に生成した反応生成物の結晶化による粒子径の粗大化が進行する前に次の反応生成物の層を上層側に積層して、いわば上層側の反応生成物により下層側の反応生成物における原子や分子のマイグレーション（移動）を規制することができるため、表面モフォロジーの良好な（表面形状が平滑な）チタンナイトライド膜を得ることができる。

本発明の実施の形態に係る成膜装置の縦断面図である。 前記成膜装置の内部の概略構成を示す斜視図である。 前記成膜装置の横断平面図である。 前記成膜装置における処理領域及び分離領域を示す縦断面図である。 前記成膜装置における処理領域及び分離領域を示す縦断面図である。 前記成膜装置の一部を示す縦断面図である。 前記成膜装置においてＴｉＮ膜を成膜する時の作用の一例を示す模式図である。 前記成膜装置の真空容器内のガス流を示す概略図である。 従来のＡＬＤ法を用いてＴｉＮ膜を成膜した場合の作用の一例を示す模式図である。 前記他の例の成膜装置を示す平面図である。 前記他の例の成膜装置を示す一部分解斜視図である。 前記他の例の成膜装置を示す一部拡大断面図である。 前記他の例の成膜装置における作用の一例を示す模式図である。 本発明の実施例において得られた結果を示す特性図である。 本発明の実施例において得られた結果を示す特性図である。

［第１の実施の形態］
本発明の第１の実施の形態の成膜装置は、図１（図３のＩ−Ｉ’線に沿った断面図）〜図３に示すように、平面形状が概ね円形である扁平な真空容器（チャンバー）１と、この真空容器１内に設けられ、当該真空容器１の中心に回転中心を有する回転テーブル２と、を備えている。真空容器１は天板１１が容器本体１２から着脱できるように構成されている。この天板１１は、真空容器１内が減圧されることにより、容器本体１２の上面の周縁部にリング状に設けられたシール部材例えばＯリング１３を介して容器本体１２側に引きつけられて気密状態を維持しているが、容器本体１２から分離するときには図示しない駆動機構により上方に持ち上げられる。

回転テーブル２は、中心部にて円筒形状のコア部２１に固定され、このコア部２１は、鉛直方向に伸びる回転軸２２の上端に固定されている。回転軸２２は真空容器１の底面部１４を貫通し、その下端が当該回転軸２２を鉛直軸回りにこの例では時計回りに回転させる回転機構である駆動部２３に取り付けられている。そして、後述するように、回転テーブル２はこの駆動部２３により、薄膜の成膜中において例えば１００ｒｐｍ〜２４０ｒｐｍで鉛直方向軸回りに回転できるように構成されている。回転軸２２及び駆動部２３は、上面が開口した筒状のケース体２０内に収納されている。このケース体２０はその上面に設けられたフランジ部分が真空容器１の底面部１４の下面に気密に取り付けられており、ケース体２０の内部雰囲気と外部雰囲気との気密状態が維持されている。

回転テーブル２の表面部には、図２及び図３に示すように回転方向（周方向）に沿って複数枚例えば５枚の基板である半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）Ｗを載置するための円形状の凹部２４が設けられている。なお図３には便宜上１個の凹部２４だけにウエハＷを描いてある。ここで図４は、回転テーブル２を同心円に沿って切断しかつ横に展開して示す展開図であり、凹部２４は、図４（ａ）に示すようにその直径がウエハＷの直径よりも僅かに例えば４ｍｍ大きく、またその深さはウエハＷの厚みと同等の大きさに設定されている。従ってウエハＷを凹部２４に落とし込むと、ウエハＷの表面と回転テーブル２の表面（ウエハＷが載置されない領域）とが揃うことになる。凹部２４の底面には、ウエハＷの裏面を支えて当該ウエハＷを昇降させるための３本の昇降ピンが貫通する貫通孔（いずれも図示せず）が形成されている。
この凹部２４は、ウエハＷを位置決めして回転テーブル２の回転に伴なう遠心力により飛び出さないようにするためのものであり、本発明の基板載置領域に相当する部位である。

図２及び図３に示すように真空容器１には、回転テーブル２における凹部２４の通過領域と各々対向する上位置に、第１の反応ガスノズル３１及び第２の反応ガスノズル３２と２本の分離ガスノズル４１、４２とが真空容器１の周方向（回転テーブル２の回転方向）に互いに間隔をおいて中心部から放射状に伸びている。この例では、後述の搬送口１５から見て時計回りに第２の反応ガスノズル３２、分離ガスノズル４１、第１の反応ガスノズル３１及び分離ガスノズル４２がこの順に配列されている。これら反応ガスノズル３１、３２及び分離ガスノズル４１、４２は、例えば真空容器１の側周壁に取り付けられており、その基端部であるガス導入ポート３１ａ、３２ａ、４１ａ、４２ａは当該側壁を貫通している。
これらのガスノズル３１、３２、４１、４２は、真空容器１の周壁部から真空容器１内に導入されている。

第１の反応ガスノズル３１及び第２の反応ガスノズル３２は、夫々図示しない流量調整バルブなどを介して、夫々第１の反応ガス（処理ガス）であるＴｉ（チタン）を含む反応ガス例えばＴｉＣｌ4（塩化チタン）ガス及び第２の反応ガスであるＮ（窒素）を含む反応ガス例えばＮＨ3（アンモニア）ガスの供給源（いずれも図示せず）に接続されている。また、分離ガスノズル４１、４２は、いずれも流量調整バルブなどを介して分離ガス（不活性ガス）であるＮ2（窒素）ガスが貯留されたガス供給源（図示せず）に接続されている。

反応ガスノズル３１、３２には、下方側に反応ガスを吐出するための処理ガス供給口として例えば口径が０．３ｍｍの吐出孔３３が真下を向いてノズルの長さ方向に例えば２．５ｍｍの間隔を置いて配列されている。また分離ガスノズル４１、４２には、下方側に分離ガスを吐出するための例えば口径が０．５ｍｍの吐出孔４０が真下を向いて長さ方向に例えば１０ｍｍ程度の間隔を置いて穿設されている。反応ガスノズル３１、３２は夫々第１の反応ガス供給手段及び第２の反応ガス供給手段に相当し、分離ガスノズル４１、４２は分離ガス供給手段に相当する。また、反応ガスノズル３１、３２の下方領域は夫々ＴｉＣｌ4ガスをウエハＷに吸着させるための第１の処理領域９１及びＮＨ3ガスをウエハＷに吸着させるための第２の処理領域９２となる。

既述の図１〜図４では省略しているが、反応ガスノズル３１、３２は、図５（ａ）に示すように、処理領域９１、９２における天井面４５から離間してウエハＷの近傍に夫々設けられており、ノズル３１、３２の長さ方向に沿ってこれらのノズル３１、３２を上方側から覆うと共に、下方側が開口するノズルカバー１２０を備えている。回転テーブル２の回転方向におけるノズルカバー１２０の両側面部は、下端部が水平方向に伸び出してフランジ状の整流部材１２１をなしている。この整流部材１２１は、処理領域９１、９２内への分離ガスの回り込み及びノズル３１、３２の上方側への反応ガスの舞い上がりを抑えるためのものであり、回転テーブル２の中心側から外周側に向かうにつれて、幅寸法が大きくなっている。そのため、図５（ｂ）に示すように、これらのノズル３１、３２の上流側から各処理領域９１、９２に向かってくる分離ガスは、ノズルカバー１２０の上方領域を通って排気口６１、６２へと各々排気されていき、各処理領域９１、９２における反応ガスの濃度が高く保たれることになる。尚、この図５は、回転テーブル２の周方向に沿って装置を縦断して展開した図であり、成膜装置では処理領域９１，９２及び分離領域Ｄよりも外方領域に排気口６１、６２が設けられているが、各ガスの流れを示すために便宜上処理領域９１，９２及び分離領域Ｄと排気口６１、６２とを同一平面に示している。また、この整流部材１２１は、図５のように回転テーブル２の回転方向両側面に形成しても良いし、上流側及び下流側の一方だけに設けても良い。

分離ガスノズル４１、４２は、第１の処理領域９１と第２の処理領域９２とを分離するための分離領域Ｄを形成するためのものであり、この分離領域Ｄにおける真空容器１の天板１１には図２〜図４に示すように、回転テーブル２の回転中心を中心としかつ真空容器１の内周壁の近傍に沿って描かれる円を周方向に分割してなる、平面形状が扇型で下方に突出した凸状部４が設けられている。分離ガスノズル４１、４２は、この凸状部４における前記円の周方向中央にて当該円の半径方向に伸びるように形成された溝部４３内に収められている。即ち分離ガスノズル４１（４２）の中心軸から凸状部４である扇型の両縁（回転テーブル２の回転方向上流側の縁及び下流側の縁）までの距離は同じ長さに設定されている。
なお、溝部４３は、本実施形態では凸状部４を二等分するように形成されているが、他の実施形態においては、例えば溝部４３から見て凸状部４における回転テーブル２の回転方向上流側が前記回転方向下流側よりも広くなるように溝部４３を形成してもよい。

従って分離ガスノズル４１、４２における前記回転方向両側には、前記凸状部４の下面である例えば平坦な低い天井面４４（第１の天井面）が存在し、この天井面４４の前記回転方向両側には、当該天井面４４よりも高い天井面４５（第２の天井面）が存在することになる。この凸状部４の役割は、回転テーブル２との間に第１の反応ガス及び第２の反応ガスの侵入を阻止してこれら反応ガスの混合を阻止するための狭隘な空間である分離空間を形成することにある。
即ち、分離ガスノズル４１を例にとると、回転テーブル２の回転方向上流側からＮＨ3ガスが侵入することを阻止し、また回転方向下流側からＴｉＣｌ4ガスが侵入することを阻止する。

この例では直径３００ｍｍのウエハＷを被処理基板としており、この場合凸状部４は、回転テーブル２の回転中心から１４０ｍｍ外周側に離れた部位（後述の突出部５との境界部位）においては、周方向の長さ（回転テーブル２と同心円の円弧の長さ）が例えば１４６ｍｍであり、ウエハＷの載置領域（凹部２４）の最も外側部位においては、周方向の長さが例えば５０２ｍｍである。なお図４（ａ）に示すように、当該外側部位において分離ガスノズル４１（４２）の両脇から夫々左右に位置する凸状部４の周方向の長さＬでみれば、長さＬは２４６ｍｍである。

また図４（ａ）に示すように凸状部４の下面即ち天井面４４における回転テーブル２の表面までの高さｈは、例えば０．５ｍｍから４ｍｍに設定されている。そのため、分離領域Ｄの分離機能を確保するためには、回転テーブル２の回転数の使用範囲などに応じて、凸状部４の大きさや凸状部４の下面（第１の天井面４４）と回転テーブル２の表面との高さｈを例えば実験などに基づいて設定することになる。なお分離ガスとしては、窒素（Ｎ2）ガスに限られずアルゴン（Ａｒ）ガスなどの不活性ガスなどを用いることができる。

天板１１の下面には、回転テーブル２におけるコア部２１よりも外周側の部位と対向するようにかつ当該コア部２１の外周に沿って突出部５が設けられている。この突出部５は凸状部４における回転テーブル２の回転中心側の部位と連続して形成されており、その下面が凸状部４の下面（天井面４４）と同じ高さに形成されている。図２及び図３は、前記天井面４５よりも低くかつ分離ガスノズル４１、４２よりも高い位置にて天板１１を水平に切断して示している。なお突出部５と凸状部４とは、必ずしも一体であることに限られるものではなく、別体であってもよい。

真空容器１の天板１１の下面、つまり回転テーブル２のウエハ載置領域（凹部２４）から見た天井面は既述のように第１の天井面４４とこの天井面４４よりも高い第２の天井面４５とが周方向に存在するが、図１では、高い天井面４５が設けられている領域についての縦断面を示しており、図６では、低い天井面４４が設けられている領域についての縦断面を示している。扇型の凸状部４の周縁部（真空容器１の外縁側の部位）は図２及び図６に示されているように回転テーブル２の外端面に対向するようにＬ字型に屈曲して屈曲部４６を形成している。扇型の凸状部４は天板１１側に設けられていて、容器本体１２から取り外せるようになっていることから、前記屈曲部４６の外周面と容器本体１２との間には僅かに隙間がある。この屈曲部４６も凸状部４と同様に両側から反応ガスが侵入することを防止して、両反応ガスの混合を防止する目的で設けられており、屈曲部４６の内周面と回転テーブル２の外端面との隙間、及び屈曲部４６の外周面と容器本体１２との隙間は、回転テーブル２の表面に対する天井面４４の高さｈと同様の寸法に設定されている。この例においては、回転テーブル２の表面側領域からは、屈曲部４６の内周面が真空容器１の内周壁を構成していると見ることができる。

容器本体１２の内周壁は、分離領域Ｄにおいては図６に示すように前記屈曲部４６の外周面と接近して垂直面に形成されているが、分離領域Ｄ以外の部位においては、図１に示すように例えば回転テーブル２の外端面と対向する部位から底面部１４に亘って縦断面形状が矩形に切り欠かれて外方側に窪んだ構造になっている。この窪んだ部位における既述の第１の処理領域９１及び第２の処理領域９２に連通する領域を夫々第１の排気領域Ｅ１及び第２の排気領域Ｅ２と呼ぶことにすると、これらの第１の排気領域Ｅ１及び第２の排気領域Ｅ２の底部には、図３に示すように、夫々第１の排気口６１及び第２の排気口６２が形成されている。図１に示すように、これら排気口６１、６２は、各々排気路６３を介して真空排気手段である例えば真空ポンプ６４に接続されている。なお図１中、６５は圧力調整手段であり、各々の排気路６３毎に設けられている。

既述のように、排気口６１、６２は、分離領域Ｄの分離作用が働くように、平面で見たときに前記分離領域Ｄの前記回転方向両側に設けられている。詳しく言えば、回転テーブル２の回転中心から見て第１の処理領域９１とこの第１の処理領域９１に対して例えば回転方向下流側に隣接する分離領域Ｄとの間に第１の排気口６１が形成され、回転テーブル２の回転中心から見て第２の処理領域９２とこの第２の処理領域９２に対して例えば回転方向下流側に隣接する分離領域Ｄとの間に第２の排気口６２が形成されており、これらの排気口６１、６２は、夫々各反応ガス（ＴｉＣｌ4ガス及びＮＨ3ガス）の排気を専用に（個別に）行うように配置されている。この例では一方の排気口６１は、第１の反応ガスノズル３１とこの反応ガスノズル３１に対して前記回転方向下流側に隣接する分離領域Ｄの第１の反応ガスノズル３１側の縁の延長線との間に設けられ、また他方の排気口６１は、第２の反応ガスノズル３２とこの反応ガスノズル３２に対して前記回転方向下流側に隣接する分離領域Ｄの第２の反応ガスノズル３２側の縁の延長線との間に設けられている。即ち、第１の排気口６１は、図３中に一点鎖線で示した回転テーブル２の中心と第１の処理領域９１とを通る直線Ｌ１と、回転テーブル２の中心と前記第１の処理領域９１の下流側に隣接する分離領域Ｄの上流側の縁を通る直線Ｌ２との間に設けられ、第２の排気口６２は、この図３に二点鎖線で示した回転テーブル２の中心と第２の処理領域９２とを通る直線Ｌ３と、回転テーブル２の中心と前記第２の処理領域９２の下流側に隣接する分離領域Ｄの上流側の縁を通る直線Ｌ４との間に位置している。

この例では、排気口６１、６２を回転テーブル２よりも低い位置に設けることで真空容器１の内周壁と回転テーブル２の周縁との間の隙間から排気するようにしているが、真空容器１の底面部に設けることに限られず、真空容器１の側壁に排気口６１、６２を設けてもよい。

前記回転テーブル２と真空容器１の底面部１４との間の空間には、図１に示すように加熱手段であるヒータユニット７が設けられており、回転テーブル２を介して回転テーブル２上のウエハＷをプロセスレシピで決められた温度に加熱するように構成されている。前記回転テーブル２の周縁付近の下方側には、回転テーブル２の上方空間から排気領域Ｅに至るまでの雰囲気とヒータユニット７が置かれている雰囲気とを区画するために、ヒータユニット７を全周に亘って囲むようにカバー部材７１が設けられている。このカバー部材７１は上縁が外側に屈曲されてフランジ形状に形成され、その屈曲面と回転テーブル２の下面との間の隙間を小さくして、カバー部材７１内に外方からガスが侵入することを抑えている。

ヒータユニット７が配置されている空間よりも回転中心寄りの部位における底面部１４は、回転テーブル２の下面の中心部付近、コア部２１に接近してその間は狭い空間になっており、また当該底面部１４を貫通する回転軸２２の貫通穴についてもその内周面と回転軸２２との隙間が狭くなっていて、これら狭い空間は前記ケース体２０内に連通している。そして前記ケース体２０にはパージガスであるＮ2ガスを前記狭い空間内に供給してパージするためのパージガス供給管７２が設けられている。また真空容器１の底面部１４には、ヒータユニット７の下方側位置にて周方向の複数部位に、ヒータユニット７の配置空間をパージするためのパージガス供給管７３が設けられている。

このようにパージガス供給管７２、７３を設けることにより、ケース体２０内からヒータユニット７の配置空間に至るまでの空間がＮ2ガスでパージされ、このパージガスが回転テーブル２とカバー部材７１との間の隙間から排気領域Ｅを介して排気口６１、６２に排気される。これによって既述の第１の処理領域９１と第２の処理領域９２との一方から回転テーブル２の下方を介して他方にＴｉＣｌ4ガスあるいはＮＨ3ガスの回り込みが防止されるため、このパージガスは分離ガスの役割も果たしている。

また真空容器１の天板１１の中心部には分離ガス供給管５１が接続されていて、天板１１とコア部２１との間の空間５２に分離ガスであるＮ2ガスを供給するように構成されている。この空間５２に供給された分離ガスは、前記突出部５と回転テーブル２との狭い隙間５０を介して回転テーブル２のウエハ載置領域側の表面に沿って周縁に向けて吐出されることになる。この突出部５で囲まれる空間には分離ガスが満たされているので、第１の処理領域９１と第２の処理領域９２との間で回転テーブル２の中心部を介して反応ガス（ＴｉＣｌ4ガス及びＮＨ3ガス）が混合することを防止している。

更に真空容器１の側壁には図２及び図３に示すように外部の搬送アーム１０と回転テーブル２との間でウエハＷの受け渡しを行うための搬送口１５が形成されており、この搬送口１５は図示しないゲートバルブにより開閉されるようになっている。また回転テーブル２におけるウエハ載置領域である凹部２４はこの搬送口１５に臨む位置にて搬送アーム１０との間でウエハＷの受け渡しが行われることから、回転テーブル２の下方側において当該受け渡し位置に対応する部位に、凹部２４を貫通してウエハＷを裏面から持ち上げるための受け渡し用の昇降ピン１６の昇降機構（図示せず）が設けられる。

また、この成膜装置は、既述の図１に示したように、装置全体の動作のコントロールを行うためのコンピュータからなる制御部８０を備えており、制御部８０は、図示しないＣＰＵ、メモリ、処理プログラム及びワークメモリを備えている。このメモリには、ウエハＷに対して行う処理の種別毎に、ウエハＷの加熱温度、各反応ガスの流量、真空容器１内の処理圧力及び回転テーブル２の回転数などのレシピ（処理条件）が記憶されており、ウエハＷに対して反応ガスを供給して薄膜の成膜処理を行う時には、回転テーブル２の回転数は、薄膜を速やかに成膜すると共に、後述の実施例に示すように、薄膜の表面モフォロジーを良好にする（表面の面状態を平滑にする）ために、例えば１００ｒｐｍ〜２４０ｒｐｍに設定される。前記処理プログラムは、ハードディスク、コンパクトディスク、光磁気ディスク、メモリカード、フレキシブルディスクなどの記憶媒体８５から制御部８０内にインストールされる。

次に、上述の第１の実施の形態の作用について、図７及び図８を参照して説明する。先ず、図示しないゲートバルブを開き、外部から搬送アーム１０により搬送口１５を介してウエハＷを回転テーブル２の凹部２４内に受け渡す。この受け渡しは、凹部２４が搬送口１５に臨む位置に停止したときに、凹部２４の底面の貫通孔を介して真空容器１の底部側から昇降ピン１６が昇降することにより行われる。このようなウエハＷの受け渡しを回転テーブル２を間欠的に回転させて行い、回転テーブル２の５つの凹部２４内に夫々ウエハＷを載置する。続いて、ゲートバルブを閉じて圧力調整手段６５の開度を全開にして真空容器１内を引き切りの状態にして、回転テーブル２を例えば１００ｒｐｍで時計回りに回転させると共に、ヒータユニット７によりウエハＷ（回転テーブル２）をＴｉＮ（チタンナイトライド、窒化チタン）の結晶化する温度例えば２５０℃以上の温度この例では４００℃に加熱する。

次いで、真空容器１内の圧力値が所定の値例えば１０６６．４Ｐａ（８Ｔｏｒｒ）となるように圧力調整手段６５の開度を調整する。また、第１の反応ガスノズル３１から例えば１００ｓｃｃｍでＴｉＣｌ4ガスを供給すると共に、第２の反応ガスノズル３２から例えば５０００ｓｃｃｍでＮＨ3ガスを供給する。更に、分離ガスノズル４１、４２からいずれも１００００ｓｃｃｍでＮ2ガスを供給すると共に、分離ガス供給管５１及びパージガス供給管７２、７３からも所定の流量でＮ2ガスを真空容器１内に供給する。

そして、回転テーブル２の回転により、ウエハＷが第１の処理領域９１を通過すると、図７（ａ）に示すように、当該ウエハＷの表面にはＴｉＣｌ4ガスが吸着する。この時、回転テーブル２を既述のように高速で回転させると共に反応ガスの流量や処理圧力を既述のように設定しているので、ウエハＷ上のＴｉＣｌ4の吸着膜１５１の膜厚ｔ１は、ＴｉＣｌ4ガスの吸着量が飽和するまで例えばウエハＷをＴｉＣｌ4ガスの雰囲気中に静置した時の飽和膜厚ｔ０よりも薄くなる。このようにＴｉＣｌ4ガスの吸着膜厚ｔ１を飽和膜厚ｔ０よりも薄く形成するにあたって、既述のように回転テーブル２の回転中心から外周側に向かって回転テーブル２と水平に第１の反応ガスノズル３１をウエハＷに近接させて設けると共に、吐出孔３３を当該ガスノズル３１の長さ方向に亘って等間隔に設けていることから、更には各処理領域９１、９２間に分離領域Ｄを各々設けて真空容器１内におけるガス流の安定化を図っていることから、ＴｉＣｌ4ガスがウエハＷ上に均一に供給されて、吸着膜１５１の膜厚がウエハＷの面内に亘って均一となる。

次いで、このウエハＷが第２の処理領域９２を通過すると、図７（ｂ）に示すように、ウエハＷの表面の吸着膜１５１が窒化されてＴｉＮ膜１５２の分子層が１層あるいは複数層生成する。このＴｉＮ膜１５２は、結晶化に伴う原子や分子のマイグレーション（移動）によって、グレインサイズが大きくなろうと（粒成長しようと）する。この粒成長が進行するにつれてＴｉＮ膜１５２の表面モフォロジーが悪化して（表面状態が粗くなって）いくことになるが、既述のように回転テーブル２を高速で回転させているので、表面にＴｉＮ膜１５２が形成されたウエハＷは、その後第１の処理領域９１を直ぐに通過して、続いて第２の処理領域９２に速やかに到達する。即ち、ウエハＷの表面へのＴｉＣｌ4ガスの吸着と、このＴｉＣｌ4ガスの窒化処理と、からなる処理のサイクル間の時間（ＴｉＮ膜１５２の結晶化が進行する時間）が極めて短く設定されていると言える。そのため、図７（ｃ）、（ｄ）に示すように、下層側のＴｉＮ膜１５２の結晶化の進行する前に上層側にＴｉＮ膜１５３が積層されることによって、下層側のＴｉＮ膜１５２における原子や分子の移動が上層側の反応生成物であるＴｉＮ膜１５３によって阻害され、いわば下層側のＴｉＮ膜１５２の表面状態（粒成長）が上層側のＴｉＮ膜１５３によって規制されていることになる。また、吸着膜１５１の膜厚ｔ１が既述のように薄く形成されているので、ＴｉＮ膜１５２においてＴｉＮ粒子の結晶化が起こったとしても、成長後のグレインサイズ（表面モフォロジーの悪化の度合い）が小さく抑えられる。従って、この下層側のＴｉＮ膜１５２は、後述の実施例にて説明するように、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やサイクル間の時間が長い従来のＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などにより成膜した場合と比較して、グレインサイズが極めて小さく、且つ表面状態が平滑となる。

また、上層側のＴｉＮ膜１５３は、続いて速やかにウエハＷが処理領域９１、９２を通過するので、同様に更に上層側に形成されるＴｉＮ膜によって原子や分子の移動が規制されることになる。こうしてウエハＷが第１の処理領域９１と第２の処理領域９２とをこの順番で交互に複数回通過することにより、既述のグレインサイズが極めて小さく表面が平滑な反応生成物が順次積層されてＴｉＮ膜の薄膜が形成される。この薄膜は、既述のように回転テーブル２を高速で回転させていることから、例えば従来のＡＬＤ法よりも速やかに成膜される。この時の成膜速度は、各反応ガスの供給量や真空容器１内の処理圧力などに応じて変化するが、一例を挙げると例えば５．４７ｎｍ／ｍｉｎ程度となる。

この時、分離領域ＤにおいてＮ2ガスを供給し、また中心部領域Ｃにおいても分離ガスであるＮ2ガスを供給しているので、既述のように回転テーブル２を高速で回転させている場合であっても、図８に示すように、ＴｉＣｌ4ガスとＮＨ3ガスとが混合しないように各ガスが排気されることとなる。また、分離領域Ｄにおいては、屈曲部４６と回転テーブル２の外端面との間の隙間が既述のように狭くなっているので、ＴｉＣｌ4ガスとＮＨ3ガスとは、回転テーブル２の外側を介しても混合しない。従って、第１の処理領域９１の雰囲気と第２の処理領域９２の雰囲気とが完全に分離され、ＴｉＣｌ4ガスは排気口６１に、またＮＨ3ガスは排気口６２に夫々排気される。この結果、ＴｉＣｌ4ガス及びＮＨ3ガスが雰囲気中においてもウエハＷ上においても混じり合うことがない。また、回転テーブル２の下方側をＮ2ガスによりパージしているため、排気領域Ｅに流入したガスが回転テーブル２の下方側を潜り抜けて、例えばＴｉＣｌ4ガスがＮＨ3ガスの供給領域に流れ込むといったおそれは全くない。こうして成膜処理が終了すると、ガスの供給を停止して真空容器１内を真空排気し、その後回転テーブル２の回転を停止して各ウエハＷを搬入時と逆の動作によって順次搬送アーム１０により搬出する。
ここで処理パラメータの一例について記載しておくと、真空容器１の中心部の分離ガス供給管５１からのＮ2ガスの流量は例えば５０００ｓｃｃｍである。また１枚のウエハＷに対する反応ガス供給のサイクル数、即ちウエハＷが処理領域９１、９２の各々を通過する回数は目標膜厚に応じて変わるが、多数回例えば６００回である。

上述の実施の形態によれば、真空容器１内の回転テーブル２上にウエハＷを載置して、このウエハＷに対して反応ガスを供給して真空雰囲気下においてチタンナイトライド膜の成膜を行うにあたり、薄膜の成膜処理を行う時に、回転テーブル２と各ガスノズル３１、３２、４１、４２とを１００ｒｐｍ以上で相対的に真空容器１の周方向に回転させるようにしている。そのため、反応ガスの供給サイクル（反応生成物の成膜サイクル）を高速で行うことができるので、薄膜を速やかに形成することができ、スループットを高めることができる。また、サイクル間の時間が極めて短いので、基板の表面に生成した反応生成物の結晶化による粒子径の粗大化が進行する前に次の反応生成物の層を上層側に積層して、いわば上層側の反応生成物により下層側の反応生成物における原子や分子のマイグレーション（移動）を規制することができるため、結果として表面形状を悪化させるマイグレーションを抑制することができ、従って従来のＣＶＤ法やサイクル間の時間が長いＡＬＤ法によって成膜した薄膜よりも表面形状が平滑な薄膜を得ることができる。

そのため、このＴｉＮ膜を次世代キャパシター電極例えばＺｒＯ（酸化ジルコニウム）、ＴｉＯ（酸化チタン）、ＴａＯ（酸化タンタル）などのバリア膜として用いた場合には、当該電極における電荷の集中を抑制し、良好な電気的特性を得ることができる。また、半導体装置の多層構造において、上層側の配線層と下層側の配線層との間の層間絶縁膜にこれら配線層同士を接続するアルミニウムなどの金属層を埋め込むためのコンタクトホールなどの凹部に、層間絶縁膜への金属層の拡散を防止するためのバリア膜としてこのＴｉＮ膜を用いる時には、このコンタクトホールのアスペクト比が５０程度まで大きい場合であっても、同様に表面が平滑で被覆性の高い薄膜を速やかに得ることができる。

また、ウエハＷ上に吸着させる吸着膜１５１の膜厚ｔ１について、飽和膜厚ｔ０よりも薄くしているので、ＴｉＮ粒子の結晶化が起こったとしても成長するグレインのサイズを極めて小さく抑えることができる。即ち、本発明では回転テーブル２を高速で回転させることにより、吸着膜１５１の膜厚ｔ１を薄く（グレインサイズを小さく）制御していると言える。

一方、回転テーブル２の回転数を低速例えば３０ｒｐｍ以下に設定してＴｉＮ膜１５２の成膜処理を行った場合には、図９（ａ）に示すように、例えば吸着膜１５１の膜厚ｔ２がほぼ飽和膜厚ｔ０と等しくなり、薄膜の表面モフォロジーが悪化することになる。つまり、同図（ｂ）に示すように、この吸着膜１５１の形成されたウエハＷに対してＮＨ3ガスを供給してＴｉＮ膜１５２が生成すると、ＴｉＣｌ4の吸着膜１５１の形成とこの吸着膜１５１の窒化とからなる処理サイクル間の時間が長く取られることになるので、同図（ｃ）に示すように、ＴｉＮ膜１５２の上層に次のＴｉＮ膜１５３が形成されるまでの間に、当該ＴｉＮ膜１５２中においてＴｉＮ粒子の結晶化が進行することによって原子や分子のマイグレーション（移動）が起こり、表面モフォロジーが悪化してしまう。この時、吸着膜１５１の膜厚ｔ２が既述の膜厚ｔ１よりも厚くなっていることから、結晶化によって成長する粒子のサイズ（表面状態の悪化）もこの膜厚ｔ２に応じて大きくなる場合がある。

そのため、この表面状態の荒れたＴｉＮ膜１５２の表面にＴｉＣｌ4ガスが供給されると、図９（ｄ）に示すように、上層側の吸着膜１５１は下層側のＴｉＮ膜１５２の表面に倣って形成されるので、当該吸着膜１５１の表面についても同様に荒れた状態となる。その後、この上層側の吸着膜１５１にＮＨ3ガスが供給されると、同様に上層側のＴｉＮ膜１５３についても結晶化が進行するので、表面がより一層荒れてしまう。こうして順次積層するＴｉＮ膜の各々について結晶化が進行することにより、得られる薄膜の表面は極めて凹凸の大きな状態となってしまう。従って、回転テーブル２の回転数をこのように低速に設定して成膜処理を行った場合には、表面モフォロジーを制御することは極めて困難である。また、回転テーブル２の回転数を遅く設定すると、成膜速度についても遅くなってしまう。

以上のことから、本発明では、回転テーブル２の回転数を高速に設定してＴｉＮ膜の成膜を行うことにより、表面モフォロジーの良好なＴｉＮ膜を速やかに成膜できることが分かる。ここで、本発明の成膜装置では、回転テーブル２上のウエハＷに対向させて各反応ガスノズル３１、３２を設けていることから、例えば反応ガスの流量を多くすることにより、あるいは処理圧力を高く設定することにより、ウエハＷ上に吸着する反応ガスの吸着量が飽和するようにしても良い。この場合においても、回転テーブル２を高速で回転させているので、ＴｉＮ膜１５２の結晶化が進行する前に続く上層側のＴｉＮ膜１５３を成膜することができ、良好な表面モフォロジーの薄膜を得ることができるし、また各反応サイクルにおける膜厚を稼ぐことができるので、スループットを更に高めることができる。このように反応ガスの供給量を増やしたり処理圧力を高めたりした場合であっても、各反応ガスは同様に個別に排気される。

既述の第１の反応ガスとしては、上述の例の他に、Ｔｉを含むガス例えばＴＤＭＡＴ（テトラキスジメチルアミノチタン）ガスなどを用いても良いし、第２の反応ガスとしては、ＮＨ3ガスをラジカル化させて用いても良い。また、回転テーブル２の回転数としては、高すぎると例えば薄膜の被覆性が低くなるので、例えば２４０ｒｐｍ以下であることが好ましい。即ち、後述の実施例においてＴｉN膜を成膜する実験を行った時には、回転テーブル２の回転数が２４０ｒｐｍでも良好な被覆性となっていたため、少なくとも２４０ｒｐｍ以下であれば良好な被覆性が得られると言える。

［第２の実施の形態］
第１の実施の形態では、ＴｉＣｌ4ガスの吸着膜１５１の形成と、この吸着膜１５１の窒化によるＴｉＮ膜１５２の形成と、からなる成膜サイクルを複数回繰り返して薄膜を成膜するようにしたが、例えばＴｉＮ膜１５２に不純物が含まれている場合などには、成膜サイクルの間にＴｉＮ膜１５２に対してプラズマ処理を行うようにしても良い。このようにプラズマ処理を行う場合の成膜装置の一例について、第２の実施の形態として図１０〜図１２を参照して以下に説明する。

この例では、例えば搬送口１５よりも回転テーブル２の回転方向上流側に既述の第２の反応ガスノズル３２が設けられており、第２の反応ガスノズル３２と当該第２の反応ガスノズル３２における回転テーブル２の回転方向下流側の分離領域Ｄとの間には、ウエハＷに対してプラズマ処理を行うための活性化ガスインジェクター２２０が設けられている。この活性化ガスインジェクター２２０は、回転テーブル２の外周側から回転中心側に向かって当該回転テーブル２に対して水平に伸びるガス導入ノズル３４及び一対のシース管（図示せず）と、これらガス導入ノズル３４及び一対のシース管が配置される領域を長さ方向に亘って上方側から覆うように設けられ、既述のノズルカバー１２０と同様に構成された例えば石英からなるカバー体２２１と、を備えている。図中２２２は、既述の整流部材１２１と同様の寸法に設定された気流規制面２２２であり、２２３は、真空容器１の天板１１からカバー体２２１を吊り下げるために当該カバー体２２１の長さ方向に沿って設けられた支持体である。尚、図１０中３７は、シース管の基端部（真空容器１の内壁側）に接続された保護管である。

真空容器１の外部には、高周波電源１８０が設けられており、整合器１８１を介してシース管内に埋設された図示しない電極に対して例えば１３．５６ＭＨｚ、例えば１５００Ｗ以下の高周波電力を供給できるように構成されている。ガス導入ノズル３４は、側方側に長さ方向に沿って複数箇所に形成されたガス孔３４１を介して、プラズマ発生用の処理ガス例えばＮＨ3ガス及びＨ2ガスの少なくとも一方が真空容器１の外部からシース管に向かって水平に吐出されるように構成されている。

この第２の実施の形態において成膜処理を行う場合には、各ガスノズル３１、３２、４１、４２から各ガスを真空容器１内に供給すると共に、ガス導入ノズル３４からプラズマ生成用の処理ガス例えばＮＨ3ガスを所定の流量例えば５０００ｓｃｃｍで真空容器１に供給する。また、図示しない高周波電源から電極３６ａ、３６ｂに対して所定の値の電力例えば４００Ｗの高周波を供給する。

活性化ガスインジェクター２２０では、ガス導入ノズル３４からシース管３５ａ、３５ｂに向かって吐出されたＮＨ3ガスは、これらのシース管３５ａ、３５ｂ間に供給される高周波によって活性化されてイオンなどの活性種となり、この活性種（プラズマ）が下方に向かって吐出される。図１３（ａ）、（ｂ）に示すように、表面に吸着膜１５１が形成され、続いてこの吸着膜１５１が窒化されてＴｉＮ膜１５２の成膜されたウエハＷは、活性化ガスインジェクター２２０の下方領域に到達すると、同図（ｃ）に示すようにプラズマに曝されて、例えば表面のＴｉＮ膜１５２にＣｌ（塩素）などの不純物が含まれている場合には、この不純物が膜中から排出されていく。そして、既述の第１の実施の形態と同様に、同図（ｄ）に示すように、その後当該ＴｉＮ膜１５２の上層側に次のＴｉＮ膜１５３が速やかに積層されて、下層側のＴｉＮ膜１５２における原子や分子の移動が規制される。こうして吸着膜１５１の生成と、この吸着膜１５１の窒化によるＴｉＮ膜１５２の生成と、プラズマによる不純物の低減（除去）と、をこの順序で複数回繰り返すことにより、不純物の極めて少なく、且つ表面が平滑な薄膜が速やかに成膜される。

この第２の実施の形態によれば、既述の第１の実施の形態の効果に加えて、以下の効果がある。即ち、ウエハＷに対してプラズマ処理を行うことにより薄膜中の不純物の量を低減できるので、電気的特性を向上させることができる。また、真空容器１の内部において成膜サイクルを行う度に改質処理を行っているので、いわば回転テーブル２の周方向においてウエハＷが各処理領域９１、９２を通過する経路の途中において成膜処理に干渉しないように改質処理を行っているので、例えば薄膜の成膜が完了した後で改質処理を行うよりも短時間で改質処理を行うことができる。
また、既述の例においては、ガス供給系（ノズル３１、３２、４１、４２）に対して回転テーブル２を回転させるようにしたが、回転テーブル２に対してガス供給系を周方向に回転させる構成としても良い。

続いて、本発明の効果を確認するために行った実験について説明する。
（実験例１）
先ず、回転テーブル２の回転数を以下に示すように種々変えてＴｉＮ膜の成膜を行い、得られたＴｉＮ膜の表面をＳＥＭ（電子顕微鏡）を用いて観察した。尚、その他の成膜条件例えば反応ガスの供給量や処理圧力などについては、各実験例において同じ条件としたため、説明を省略する。また、ウエハＷの加熱温度としては２５０℃以上例えば４００℃とした。
（回転テーブル２の回転数：ｒｐｍ）
比較例１：３０
実施例１：１００、２４０

（実験結果）
その結果、図１４に得られたＳＥＭ写真を示すように、比較例１では表面状態が粗く、従来のＣＶＤ法やＳＦＤ法を用いて成膜した面状態に近くなっていた。既述のように、ＴｉＮは２５０℃以上で結晶化するため、この実験における加熱温度において特にＴｉＮ粒子の結晶化を妨げない場合には、このようにＴｉＮ粒子の結晶化に起因する凹凸が膜表面に現れると考えられる。
一方、実施例１に示すように、回転テーブル２の回転数を高くして１００ｒｐｍとした場合には、ＴｉＮ膜の表面モフォロジーが向上し、更に２４０ｒｐｍでは極めて表面が平滑になることが分かった。従って、回転テーブル２を高速で回転させることによって、既述のように成膜サイクル間の時間が短くなり、上層側のＴｉＮ膜により下層側のＴｉＮ膜の結晶化を抑制できることが分かった。

（実験例２）
次いで、実験例１と同じ条件にて成膜した各サンプルについて、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いてＴｉＮ膜の表面粗さを測定した。尚、測定長としては１０ｎｍとした。
その結果、図１５に示すように、回転テーブル２の回転数が３０ｒｐｍの場合には表面粗さが２ｎｍ程度となっていたが、１００ｒｐｍ以上では０．５ｎｍ程度もの小さい値となっていた。

Ｄ 分離領域
Ｅ 排気領域
１ 真空容器
Ｗ ウエハ
３１、３２ 反応ガスノズル
４１、４２ 分離ガスノズル
６１、６２ 排気口
９１、９２ 処理領域
１５１ 吸着膜
１５２ ＴｉＮ膜
１５３ ＴｉＮ膜

Claims (9)

1. 真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガス及びＮを含む第２の反応ガスを順番に基板の表面に供給してチタンナイトライド膜を形成する成膜装置において、
   前記真空容器内に設けられ、基板を載置するための基板載置領域が設けられたテーブルと、
   前記真空容器の周方向に互いに離れて設けられ、前記テーブル上の基板に前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを夫々供給するための第１の反応ガス供給手段及び第２の反応ガス供給手段と、
   前記第１の反応ガスが供給される第１の処理領域と前記第２の反応ガスが供給される第２の処理領域との間に設けられ、両反応ガスの混合を防止するための分離領域と、
   前記第１の処理領域と前記第２の処理領域とを基板がこの順番で位置するように、前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段と前記テーブルとを前記真空容器の周方向に相対的に回転させる回転機構と、
   前記真空容器内を真空排気する真空排気手段と、
   前記基板への成膜時に、前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段と前記テーブルとを前記回転機構を介して１００ｒｐｍ以上で回転させる制御部と、
   前記テーブル上の基板に対してＮＨ3ガスまたはＨ2ガスの少なくとも一方のガスを供給するためのガスインジェクターと、
   このガスインジェクターから供給されるガスをプラズマ化してプラズマを発生させるために高周波電力が供給される導電体と、を備え、
   この導電体及び前記ガスインジェクターからなる構成は、前記回転機構により、前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段と共に前記テーブルに対して相対的に回転するように構成され、前記相対的な回転時に前記プラズマが前記第２の処理領域と前記第１の処理領域との間において基板に供給されるように配置されていることを特徴とする成膜装置。
2. 前記分離領域は、分離ガスを供給する分離ガス供給手段を備えたことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
3. 前記分離領域は、前記分離ガス供給手段と、この分離ガス供給手段における前記周方向両側に位置し、当該分離領域から処理領域側に分離ガスが流れるための狭隘な空間を前記テーブルとの間に形成するための天井面と、を備えていることを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
4. 前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段は、前記第１の処理領域及び前記第２の処理領域における夫々の天井面から離間して基板の近傍に夫々設けられ、前記基板の方向に向けて前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを夫々供給する手段であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の成膜装置。
5. 真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガス及びＮを含む第２の反応ガスを順番に基板の表面に供給してチタンナイトライド膜を形成する成膜方法において、
   基板を載置するための基板載置領域が設けられたテーブル上に基板を載置する工程と、
   次いで、前記真空容器の周方向に互いに離れて設けられた第１の反応ガス供給手段及び第２の反応ガス供給手段から、前記テーブルの表面に対して夫々前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを供給する工程と、
   前記テーブル上の基板に対してガスインジェクターからＮＨ3ガスまたはＨ2ガスの少なくとも一方のガスを供給すると共に、導電体に高周波電力を供給することによりこのガスをプラズマ化してプラズマを発生させる工程と、
   前記第１の反応ガスが供給される第１の処理領域と前記第２の反応ガスが供給される第２の処理領域との間に設けられた分離領域において両反応ガスの混合を防止する工程と、
   前記第１の処理領域と前記第２の処理領域と前記プラズマが供給される領域とを基板がこの順番で位置するように、前記第１の反応ガス供給手段、前記第２の反応ガス供給手段、前記ガスインジェクター及び前記導電体と前記テーブルとを相対的に前記真空容器の周方向に１００ｒｐｍ以上で回転させる工程と、
   前記真空容器内を真空排気する工程と、を含むことを特徴とする成膜方法。
6. 前記両ガスの混合を防止する工程は、分離ガス供給手段から前記分離領域に分離ガスを供給する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の成膜方法。
7. 前記分離ガスを供給する工程は、前記分離ガス供給手段における前記周方向両側に位置し、前記分離領域から処理領域側に分離ガスが流れるために前記テーブルと前記真空容器の天井面との間に形成された狭隘な空間に前記分離ガス供給手段から分離ガスを供給する工程であることを特徴とする請求項６に記載の成膜方法。
8. 前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを供給する工程は、前記第１の処理領域及び前記第２の処理領域における夫々の天井面から離間して基板の近傍に夫々設けられた前記第１の反応ガス供給手段及び前記第２の反応ガス供給手段から、前記基板の方向に向けて前記第１の反応ガス及び前記第２の反応ガスを夫々供給する工程であることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか一つに記載の成膜方法。
9. 真空容器内にてＴｉを含む第１の反応ガス及びＮを含む第２の反応ガスを順番に基板の表面に供給してチタンナイトライド膜を形成する成膜装置に用いられるプログラムを格納する記憶媒体であって、
   前記プログラムは、請求項５ないし８のいずれか一つに記載の成膜方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。

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