JP5457759B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 半導体基板の上に、第1の多結晶シリコン膜と、導電型または不純物濃度が前記第1の多結晶シリコン膜とは異なる第2の多結晶シリコン膜とを形成する形成工程と、
前記第1の多結晶シリコン膜のうち第1の除去領域を除去することによって第1のパターンを形成し、前記第2の多結晶シリコン膜のうち第2の除去領域を除去することによって第2のパターンを形成するパターニング工程と、を含み、
前記パターニング工程は、
前記第1の除去領域を第1の深さまでエッチングするとともに、前記第2の除去領域を前記第1の深さとは異なる第2の深さまでエッチングする第1のエッチング工程と、
前記第1のエッチング工程でエッチングがなされた前記第1の多結晶シリコン膜および前記第2の多結晶シリコン膜における当該エッチングによって露出した側面を酸化して前記側面に酸化膜を形成するとともに、前記第1のエッチング工程の後に残っている前記第1の除去領域および前記第2の除去領域のそれぞれの上面を酸化して前記上面に酸化膜を形成する酸化工程と、
前記半導体基板の表面が露出するまで、前記第1の除去領域の前記上面に形成された前記酸化膜および前記第2の除去領域の前記上面に形成された前記酸化膜と、前記第1の除去領域および前記第2の除去領域とをエッチングする第2のエッチング工程と、を含み、
前記第2のエッチング工程において前記第1の除去領域の下にある前記半導体基板の表面と前記第2の除去領域の下にある前記半導体基板の表面とが同時に露出するように、前記酸化工程において形成される前記第1の除去領域の上面の酸化膜の膜厚および前記第2の除去領域の上面の酸化膜の膜厚が規定されることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第1の多結晶シリコン膜および前記第2の多結晶シリコン膜は、n型の不純物を含み、前記第1の多結晶シリコンのn型の不純物の濃度は、前記第2の多結晶シリコンのn型の不純物の濃度より高く、
前記第1の深さは、前記第2の深さより大きく、
前記酸化工程で前記第1の除去領域に形成される前記酸化膜は、前記酸化工程で前記第2の除去領域に形成される前記酸化膜より厚い
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記酸化工程では、水を含んだガスを用いて酸化を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体装置は、撮像センサを含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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