JP5437658B2 - データ読出回路及び半導体記憶装置 - Google Patents

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Description

本発明は、不揮発性記憶素子のデータを読出端子から読み出すデータ読出回路に関する。
従来における不揮発性記憶素子のデータを読出端子から読み出すデータ読出回路について説明する。図4は、従来のデータ読出回路を示す図である。
信号Φ12がローに制御されると、PMOSトランジスタ62がオンする。不揮発性記憶素子61にデータ1が書き込まれることによって不揮発性記憶素子61がオンしている場合、データ読出回路はハイ(電圧VPP)のデータを読み出す。また、不揮発性記憶素子61にデータ0が書き込まれることによってオフしている場合、データ読出回路はロー(電圧VDD)のデータを読み出す(例えば、特許文献1参照)。
特開2004−294260号公報
しかし、従来の技術では、不揮発性記憶素子61がオンしてデータ読出回路がハイ(電圧VPP)のデータを読み出す時、常に不揮発性記憶素子61もPMOSトランジスタ62もオンするので、常に貫通電流が流れる。よってその分、消費電流が多くなる。
また、不揮発性記憶素子として、例えばOTP(One Time Program)素子を用いた場合、ソース・ドレイン間は常時バイアスされ、ソース・ドレイン間に電流が流れ、フローティングゲートにホットエレクトロンが注入されることにより、不揮発性記憶素子の閾値電圧の絶対値が徐々に低くなり記憶素子に保持されたデータが変わってしまう場合がある。また、EEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)素子を用いた場合、コントロールゲート・ドレイン間は常時バイアスされ、フローティングゲートとドレインとの間にトンネル電流が流れることにより、不揮発性記憶素子が書き込まれ、不揮発性記憶素子13の閾値電圧の絶対値が低くなり記憶素子に保持されたデータが変わってしまう場合がある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされ、消費電流の少なく、安定したデータ保持のできるデータ読出回路を提供する。
回路を提供する。
本発明は、上記課題を解決するため、不揮発性記憶素子のデータを読出端子から読み出すデータ読出回路において、前記データを記憶する前記不揮発性記憶素子と、前記不揮発性記憶素子と前記読出端子との間に設けられる第一スイッチと、前記読出端子と第二電源電圧供給端子との間に設けられる第二スイッチと、前記データを読み出す読出期間に、前記データを保持するラッチ回路と、を備えることを特徴とするデータ読出回路を提供する。
本発明では、ラッチ回路のデータ保持動作完了後のデータ読出期間でデータ読出回路に貫通電流が流れなくなるので、その分、データ読出回路の消費電流が少なくなる。また、ラッチ回路のデータ保持動作期間以外は不揮発性記憶素子に電圧が印加されないため、記憶素子に保持されたデータが安定する。
データ読出回路を示す図である。 データを示すタイムチャートである。 データを示すタイムチャートである。 従来のデータ読出回路を示す図である。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
まず、不揮発性記憶素子のデータを読出端子から読み出すデータ読出回路の構成について説明する。図1は、データ読出回路を示す図である。
[要素]データ読出回路は、PMOSトランジスタ11、12、不揮発性記憶素子13、NMOSトランジスタ14、及び、ラッチ回路21を備える。ラッチ回路21は、インバータ22、23を有する。インバータ22は、PMOSトランジスタ31及びNMOSトランジスタ32を有する。インバータ23は、PMOSトランジスタ41及びNMOSトランジスタ42を有する。
[要素の接続関係]PMOSトランジスタ11のゲートには信号Φ1が入力され、ソースは電源端子に接続し、ドレインは不揮発性記憶素子13のソースに接続する。PMOSトランジスタ12のゲートには信号Φ1が入力され、ソースは不揮発性記憶素子13のドレインに接続し、ドレインは読出端子Doutに接続する。NMOSトランジスタ14のゲートには信号Φ2が入力され、ソースは接地端子に接続し、ドレインは読出端子Doutに接続する。PMOSトランジスタ31のゲートはインバータ22の入力端子に接続し、ソースは電源端子に接続し、ドレインはインバータ22の出力端子に接続する。NMOSトランジスタ32のゲートはインバータ22の入力端子に接続し、ソースは接地端子に接続し、ドレインはインバータ22の出力端子に接続する。PMOSトランジスタ41のゲートはインバータ23の入力端子に接続し、ソースは電源端子に接続し、ドレインはインバータ23の出力端子に接続する。NMOSトランジスタ42のゲートはインバータ23の入力端子に接続し、ソースは接地端子に接続し、ドレインはインバータ23の出力端子に接続する。インバータ22の入力端子とインバータ23の出力端子とは接続する。インバータ22の出力端子とインバータ23の入力端子と読出端子とは接続する。
[所定要素の機能]電源端子の電圧は電源電圧VDDであり、接地端子の電圧は接地電圧VSSであり、不揮発性記憶素子13のドレインとPMOSトランジスタ12のソースとの接続点の電圧はデータD1であり、読出端子(PMOSトランジスタ12のドレインとNMOSトランジスタ14のドレインとの接続点)の電圧はデータD2であるとする。
ラッチ回路21は、不揮発性記憶素子13のデータを読み出した後、データD2を保持する。不揮発性記憶素子13は、例えばOTP(One Time Program)素子やEEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)素子やヒューズが用いられ、データを記憶する。
次に、不揮発性記憶素子13にデータ1が書き込まれることによって不揮発性記憶素子13が導通状態となっている時における、データ読出回路の動作について説明する。図2は、データを示すタイムチャートである。
[t0≦t<t1の時の動作]信号Φ1はハイであって信号Φ2はローであるよう制御される。すると、PMOSトランジスタ11、12及びNMOSトランジスタ14はオフするので、データD1、D2は不定になる。
この間、PMOSトランジスタ11、12はオフしているので、不揮発性記憶素子13のフローティングゲートとソースまたはドレインとの間に電圧が印加されず、不揮発性記憶素子13のデータが書き換わることがない。
[t=t1の時の動作]信号Φ2がハイに制御される。すると、NMOSトランジスタ14がオンするので、データD2はローになる。つまり、ラッチ回路21がクリアされる。
[t=t2の時の動作]信号Φ2がローに制御される。すると、NMOSトランジスタ14がオフするが、データD2はラッチ回路21に保持されているので、データD2はローになる。ここで、信号Φ2がハイである期間は、データD2が確実にローになることができる期間に設定される。
[t=t3の時(不揮発性記憶素子読出開始時)の動作]信号Φ1がローに制御される。すると、PMOSトランジスタ11、12はオンする。この時、不揮発性記憶素子13は導通しているので、データD1はハイになる。ここで、不揮発性記憶素子13はNMOSトランジスタ32よりも大きいドライブ能力を有するので、データD2が高くなり始める。
[t=t4の時の動作]データD2が、高くなり、インバータ23の反転電圧以上になる。すると、インバータ23の出力電圧(インバータ22の入力電圧)がローになり、データD2がハイになり、ラッチ回路21に保持される論理が反転する。つまり、この時、ラッチ回路21のデータ保持動作が完了する。
ここで、不揮発性記憶素子読出期間において、信号Φ2がローなので、NMOSトランジスタ14はオフしている。よって、NMOSトランジスタ14は電流を流さない。また、データD2がハイであるので、インバータ23の出力電圧がローになり、NMOSトランジスタ32がオフする。よって、NMOSトランジスタ32は電流を流さない。また、PMOSトランジスタ31において、ソース及びドレインが電源電圧VDDであるので、電流が流れない。すると、ラッチ回路21のデータ保持動作完了後(時間t4以後)はデータ読出回路に電流が流れなくなるので、その分、データ読出回路の消費電流が少なくなる。
[t5≦t<t6の時(データ読出期間)の動作]データD2はラッチされ、データD2を読み出し端子Doutから読み出すことができる。この間、PMOSトランジスタ11、12はオフし、NMOSトランジスタ32もオフしているので、貫通電流は流れない。また、不揮発性記憶素子13には電圧が印加されていないため、不揮発性記憶素子13に書き込まれたデータが変化することはない。
[t≧t6の時の動作]ラッチされたデータD2をリフレッシュする場合は、t6時において以上述べたt1からの動作を繰り返せばよい。
次に、不揮発性記憶素子13に0が書き込まれることによって不揮発性記憶素子13が非導通状態となっているときの、データ読出回路の動作について説明する。図3は、データを示すタイムチャートである。
[t0≦t≦t2の時の動作]ここでの動作は、上記の動作と同一である。
[t=t3の時(不揮発性記憶素子読出開始時)の動作]信号Φ1がローに制御される。すると、PMOSトランジスタ11、12はオンする。しかし、この時、不揮発性記憶素子13は非導通状態であるので、データD1は不定のままである。ここで、オンしていて読出端子から電流を引き抜くNMOSトランジスタ32により、データD2はローのままである。
[t5≦t<t6の時(データ読出期間)の動作]データD2はラッチされ、データD2を読み出し端子Doutから読み出すことができる。この間、PMOSトランジスタ11、12はオフし、NMOSトランジスタ32もオフしているので、貫通電流は流れない。また、不揮発性記憶素子13には電圧が印加されていないため、不揮発性記憶素子13に書き込まれたデータが変化することはない。
[t≧t6の時の動作]ラッチされたデータをリフレッシュする場合は、t6時において以上述べたt1からの動作を繰り返せばよい。
[効果]このようにすると、データ読出期間はデータ読出回路に電流が流れないので、その分、データ読出回路の消費電流が少なくなる。
また、データ読出期間は、不揮発性記憶素子13のフローティングゲートとソースまたはドレインとの間に電圧が印加されないので、不揮発性記憶素子13のデータが書き換わることがない。
[補足]なお、図1では、PMOSトランジスタ11があるが、図示しないが、データ読出回路の仕様に応じ、PMOSトランジスタ11が削除され、不揮発性記憶素子13のソースと電源端子とが接続しても良い。不揮発性記憶素子13を流れる電流が少ない場合等不揮発性記憶素子13のデータが書き換わる可能性が小さい場合に特に有用で、消費電流を少なくできる効果を得られ、かつ、データ読出回路の回路規模が小さくなる。
また、図1では、電源端子と読出端子との間にPMOSトランジスタ11、12及び不揮発性記憶素子13が設けられ、読出端子と接地端子との間にNMOSトランジスタ14が設けられているが、図示しないが、電源端子と読出端子との間にPMOSトランジスタが設けられ、読出端子と接地端子との間に2個のNMOSトランジスタ及び不揮発性記憶素子が設けられても良い。
11、12、31、41 PMOSトランジスタ
13 不揮発性記憶素子
14、32、42 NMOSトランジスタ
21 ラッチ回路
22、23 インバータ

Claims (2)

  1. 第一電源端子と第二電源端子との間に設けられる不揮発性記憶素子のデータを読出端子から読み出すデータ読出回路において、
    前記不揮発性記憶素子と前記読出端子との間に設けられた第一スイッチと、
    前記読出端子と第二電源端子との間に設けられた第二スイッチと、
    前記第一電源端子と前記不揮発性記憶素子との間に設けられ、前記第一スイッチがオンしているときにオンする第三スイッチと、
    前記読出端子に設けられた、前記データを保持するラッチ回路と、を備え
    前記ラッチ回路は、前記第二スイッチがオンしている期間にリセットされ、前記第一スイッチがオンしている読出期間に前記データがラッチされる、
    ことを特徴とするデータ読出回路。
  2. 第一電源端子と第二電源端子との間に設けられる不揮発性記憶素子と、前記不揮発性記憶素子のデータを読出端子から読み出すデータ読出回路と、を備える半導体記憶装置であって、
    前記データ読出回路は、
    前記不揮発性記憶素子と前記読出端子との間に設けられた第一スイッチと、
    前記読出端子と第二電源端子との間に設けられた第二スイッチと、
    前記第一電源端子と前記不揮発性記憶素子との間に設けられ、前記第一スイッチがオンしているときにオンする第三スイッチと、
    前記読出端子に設けられた、前記データを保持するラッチ回路と、を備え
    前記ラッチ回路は、前記第二スイッチがオンしている期間にリセットされ、前記第一スイッチがオンしている読出期間に前記データがラッチされる、
    ことを特徴とする半導体記憶装置。
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