JP5434781B2 - 処理液供給機構 - Google Patents

Description

本発明は、レジストなどの処理液が貯留され、加圧用ガスにより当該処理液を圧送する容器本体に用いる処理液供給機構に関する。

半導体デバイスの製造工程におけるフォトリソグラフィ工程では、基板例えば半導体ウエハ（以下ウエハと記載する）にレジストなどの様々な処理液が供給される。

図１５に示すように、レジスト１１０が貯留された液ボトル１０１には、当該液ボトル１０１に着脱自在のレジスト供給機構１０２が設けられている。レジスト供給機構１０２は、液ボトル１０１の開口部１０３を塞ぐボトルキャップ１０４を備えており、ボトルキャップ１０４に設けられる加圧ガス供給管１０５を介して、加圧ガス例えば窒素（Ｎ2）ガスが液ボトル１０１内に供給される。それによって、下端が液面下に浸漬された処理液供給管１０６内へレジスト１１０が流入し、ウエハへ圧送される。レジストが消費されて、少なくなると液ボトル１０１が交換される。

ボトルキャップ１０４の下部には、処理液供給管１０６の高さ位置を固定するロック機構１０７が設けられている。ロック機構１０７は、例えば外周にねじが切られたリング部材であり、ボトルキャップ１０４に締め込むことで、その内周と処理液供給管１０６との摩擦が増加し、処理液供給管１０６がボトルキャップ１０４に固定されるように構成されている。

ところで、レジスト１１０は高額な場合があるため、液ボトル１０１の交換は、液ボトル１０１内のレジスト１１０を使い切ってから行うことが好ましく、そのためには液ボトル１０１の底面に処理液供給管１０６の下端が接するように処理液供給管１０６の高さ位置が調整されることが要求される。そこで、次のような工程で、ボトルキャップ１０４を液ボトル１０１に取り付ける。

先ず、ロック機構１０７によるロックを解除した状態でレジスト供給機構１０２を液ボトル１０１に取り付け、処理液供給管１０６の高さ位置を調整し、処理液供給管１０６の下端が液ボトル１０１の底に接触する位置を探る。続いて、処理液供給管１０６とボトルキャップ１０４との互いの位置がずれないように、キャップ１０４を液ボトル１０１から取り外し、ロック機構１０７により処理液供給管１０６をボトルキャップ１０４にロックする。ロック後、再度キャップ１０４を液ボトル１０１に取り付ける。

しかし、処理液供給管１０６の高さ位置を探った後、ロックするまでに、処理液供給管１０６及びボトルキャップ１０４の位置関係を正確に保てるかは、交換を行う作業者の経験や技能に影響される。そして、液ボトル１０１が置かれるクリーンルーム内の雰囲気において、レジスト１１０の変質を防ぐために液ボトル１０１は遮光性部材で構成される。そのため、液ボトル１０１の外側から液ボトル１０１内での処理液供給管１０６の下端の位置を目視で確認することができない。従って、作業者が上記の手順で処理液供給管１０６をロックしても、実際には処理液供給管１０６の下端が液ボトル１０１の底面から浮き上がってしまい、浮き上がった分のレジストが液ボトル１０１に残留してしまう場合が有る。

また、処理液の種類によっては、液ボトル１０１は透明度の高い部材により構成してもよいが、処理液が遮光性であるために処理液供給管１０６の下端の位置が液ボトル１０１の外側から確認できない場合も有る。この場合も処理液供給管１０６の下端が液ボトル１０１の底面から浮き上がってしまう場合が有る。

図１５のレジスト供給機構１０２では、ロック機構１０７がボトルキャップ１０４の下側からロックを行うが、ボトルキャップ１０４の上側からロックを行うように構成される場合もある。その場合はボトルキャップ１０４を容器本体１０１に取り付けたまま、ロックを行うことができるが、処理液供給管１０６の位置がロック機構１０７のねじ込みにより、下方側へずれて、処理液供給管１０６の下端が折れ曲がってしまうおそれが有る。そこで、作業者は、ねじ込みによりずれる分だけ処理液供給管１０６を上に引き上げてからロックする必要がある。この引き上げ量についても、作業者の経験や技量により差が出るため、処理液が残留してしまう場合が有る。

さらに液ボトル１０１の形状は様々であり、液ボトル１０１を交換するたびに上記のような処理液供給管１０６の位置調整を行わなければならない場合が有り、手間がかかる。特許文献１には、上記の処理液供給機構の一例について示されているが、上記の問題については記載されておらず、当該問題を解決できるものではない。また、特許文献２には、ハンドルキャップの構成について示されているが、このハンドルキャップはガソリンタンクに用いるためのものであり、本発明との関連性が低く、上記の問題を解決できるものではない。

特開２００８−６３２５ 特開昭６０−２５１０４７

本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、容器本体に処理液の残留を防ぐことができる処理液供給機構を提供することである。

本発明の処理液供給機構は、容器本体とこの容器本体の上面開口部を塞ぐ蓋部とからなる容器の内部に貯留された処理液を、加圧用ガスにより圧送するための処理液供給装置において、
前記蓋部から容器本体の上方へ突出し、周面にねじが切られた固定筒部と、
この固定筒部と同軸に当該固定筒部の内側または外側に螺合して設けられた移動筒部と、
前記固定筒部と前記移動筒部と前記蓋部とを、当該固定筒部及び前記蓋部に対して軸方向に移動自在に貫通し、その下端は前記容器本体の底面に対して近接すると共に移動筒部に対して軸方向の位置が固定された処理液供給管と、
前記移動筒部と同軸に設けられた環状部分を有する回転操作部と、
前記移動筒部及び前記環状部分に夫々設けられ、前記回転操作部を回転させたときに互いに係合して移動筒部が回転し、また移動筒部に加わるトルクが大きくなると係合が解除されるように構成された係合部及び被係合部と、
を備え、
回転操作部を回転させて処理液供給管の下端が容器本体の底面に当接することにより係合部と被係合部との係合が解除されて回転操作部が空回りすることを特徴とすることを特徴とする。

本発明の具体的態様を挙げると例えばこのようになる。
（ａ）固定筒部は、移動筒部の内側に位置する。
（ｂ）前記環状部分は、移動筒部の外側に当該移動筒部を囲むように設けられている。
（ｃ）前記処理液供給管には、処理液の流路とは区画された前記加圧用ガスの供給路が設けられる。
（ｄ）前記処理液供給管の軸は、前記容器本体の縦軸に対して傾斜し、前記処理液供給管の下端が容器本体の底面の周縁部に当接することにより、前記係合が解除される。

本発明によれば、回転操作部を回転させたときに、処理液供給管の軸方向の位置が固定された移動筒部が回転し、移動筒部に加わるトルクが大きくなると、係合が解除されるように移動筒部及び環状部分に夫々係合部及び被係合部が設けられている。従って、容器が遮光性であっても、処理液供給部の下端を容器本体の底部に接触させることができ、当該容器本体の液残りを抑えることができる。

本発明の実施の形態に係るレジスト供給機構を含む加圧式レジスト供給容器の斜視図である。 前記加圧式レジスト供給容器の縦断側面図である。 前記加圧式レジスト供給容器を構成するレジスト供給機構の縦断側面図である。 前記レジスト供給機構の斜視図である。 前記レジスト供給機構の分解図である。 レジスト供給機構を構成する上部側キャップの横断平面図である。 前記上部側キャップが回転する様子を示した説明図である。 加圧式レジスト供給容器が適用されるレジスト塗布装置の概略図である。 レジスト供給機構を液ボトルに取り付ける手順を示した工程図である。 レジスト供給機構を液ボトルに取り付ける手順を示した工程図である。 他のレジスト供給機構の斜視図である。 他のレジスト供給機構の縦断側面図である。 他のレジスト供給機構の横断平面図である。 他のレジスト供給機構の概略縦断側面図である。 従来の処理液供給機構の縦断側面図である。

本発明の実施形態であるレジスト供給機構１を備えた加圧式レジスト供給容器２について、図１の斜視図及び図２の縦断側面図を参照しながら説明する。加圧式レジスト供給容器２は、加圧式レジスト供給容器２は容器本体である液ボトル２１と、レジスト供給機構１とにより構成されており、レジスト供給機構１は液ボトル２１に対して着脱自在に構成されている。

レジスト供給機構１は、処理液供給管であるレジスト供給管３と、ボトルキャップ５と、を備えている。液ボトル２１には処理液であるレジスト２０が貯留される。レジスト供給管３は、前記レジスト２０を液ボトル２１から外部のウエハへ供給する。ボトルキャップ５は、レジスト供給管３の下端が液ボトル２１の底部に接するように高さ位置を調整すると共に当該高さ位置にレジスト供給管３を固定する役割を有する。

液ボトル２１について説明する。液ボトル２１の上側には開口部２２が設けられている。開口部２２に連なるレジストの貯留空間２３は、その上側が当該開口部２２に向かって窄むように構成されている。開口部２２を囲む液ボトル２１の側壁は起立し、その外周２４にはねじが切られている。液ボトル２１の底面２５の中央部は盛り上がり、重力によりレジスト２０が底面２５の周縁部へと流れるようになっている。液ボトル２１は、レジスト２０の変質を防ぐために遮光性の容器として構成されている。

ここで、液ボトル２１が遮光性であるとは、液ボトル２１が置かれる雰囲気において、液ボトル２１内のレジスト供給管３から反射される光が遮光されることである。即ち、前記雰囲気において液ボトル２１の外側からレジスト供給管３が見えないことを言う。液ボトル２１は、レジスト供給管３が鉛直向きになるように前記クリーンルーム内の所定の位置に設置される。

レジスト供給管３は、上側が屈曲し、側面視逆さＬ字状に形成されている。レジスト供給管３の一端から他端に向けてレジストの流路３１が設けられており、レジスト供給管３の下端側の側壁３２は、図２の点線の枠内に示すように前記液ボトル２１の底面２５の形状に合わせて内方に向かって傾斜するように形成されている。それによって、レジスト供給管３の下端の開口部３３が底面２５に、より近接し、液ボトル２１内でのレジスト２０の残留がより確実に抑えられるようになっている。

レジスト供給管３の上部側の外径は、下部側の外径よりも大きく構成され、当該上部側は、拡径部３４として構成されている。以降は、図３の拡径部３４の縦断側面図も参照しながら説明を続ける。拡径部３４には加圧用ガスであるＮ2ガスの流路３５が、レジスト流路３１と並行するように上方から下方へ向かって形成されており、拡径部３４の下端に開口している。レジスト流路３１とＮ2ガス流路３５とは互いに区画されている。

拡径部３４には、周に沿って上下に間隔をおいて溝３６、３６が形成されており、これら溝３６、３６には各々Ｏリング３７が埋設されている。また、溝３６、３６の上側には、フランジ３８、３９が上下に間隔をおいて形成されている。図４に示すように、フランジ３８、３９の上側にはＮ2ガス供給配管４１を接続するための供給ポート４２が設けられている。Ｎ2ガス供給配管４１の上流側は後述のＮ2ガスの供給源１９に接続されており、この供給源から供給されたＮ2ガスは供給ポート４２を介してＮ2ガス流路３５に供給され、Ｎ2ガス流路３５から開口部２２に供給されて、液ボトル２１内が加圧される。

また、レジスト供給管３の上流端は配管４３を接続する接続ポート４４として構成されている。Ｎ2ガスにより液ボトル２１内が加圧されると、レジスト２０がレジスト流路３１を介して配管４３に流れ込み、ポンプに供給され当該ポンプで下流側への供給量が制御されて、ウエハＷに供給される。この例ではＮ2ガス供給配管４１及び配管４３が同じ高さから同じ方向に向かって引き出されるようにレジスト供給管３が構成されているため、配管４１、４３を束ね、これら配管４１,４３の強度を高めることで、配管４１、４３の折れ曲がりを防止することができるようになっている。

レジスト供給管３については、後述のように高さ位置を調整する際に液ボトル２１の底部２５に当接しても曲がらない肉厚を持つように構成される。材質としては、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーティクルフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）などにより構成される。

続いて、ボトルキャップ５についてその分解図である図５も参照しながら説明する。ボトルキャップ５は下側キャップ５１と、上側キャップ７１とにより構成されている。上側キャップ７１はレジスト供給管３に対してその高さ位置が固定されており、下側キャップ５１に対してその高さ位置を自在に変更できるように構成されている。従って、上側キャップ７１の下側キャップ５１に対する高さ位置を変更すると、レジスト供給管３の下側キャップ５１に対する高さ位置も変更される。

下側キャップ５１は、液ボトル２１の開口部２２を塞ぐ蓋部をなすキャップ本体部５２と、上側リング６１と、下側リング６２と、により構成されており、上側リング６１及び下側リング６２は、キャップ本体部５２を液ボトル２１に対して固定する役割を有する。キャップ本体部５２は、上下方向に開口した円筒状の内筒部５３を備えている。固定筒部である内筒部５３の下方側は外方及び内方へ向けて広がり、内筒部５３の外径よりもその外径が大きく、内筒部５３の内径よりもその内径が小さいリング状の支持部５４を構成している。

内筒部５３の内周面５５は、レジスト供給管３の拡径部３４を囲み、レジスト供給管３の高さを調節する際に拡径部３４を内筒部５３の軸方向にガイドする。それによって、レジスト供給管３の下端が、液ボトル２１の底面２５の周縁に当接できるようになっている。前記内周面５５と拡径部３４との間は、前記Ｏリング３７、３７によりシールされる。また、レジスト供給管３は内筒部５３の軸回りに回転自在に構成される。内筒部５３の外周５６にはねじが切られている。

支持部５４の下方にはシール部材５８が設けられている。シール部材５８はリング状に形成されており、液ボトル２１に接する箇所が肉厚になっている。ボトルキャップ５が液ボトル２１に取り付けられたときに、シール部材５８を介して支持部５４の下面は液ボトル２１の上縁に密着し、支持部５４と液ボトル２１との間がシールされ、液ボトル２１内が気密に保たれる。シール部材５８としては、例えばＯリング、ガスケット及びパッキンなどが用いられる。

上側リング６１の内縁及び下側リング６２の内縁は、シール部材５８の外縁及び支持部５４の外縁を上下から挟むように設けられており、留め具６３により互いに固定されている。下側リング６２の内周６４にはねじが切られている。前記ねじは液ボトル２１の開口部２２の外周２４に切られたねじと螺合し、ボトルキャップ５が液ボトル２１に固定される。

ところで、液ボトル２１の容積としては様々であり、例えば３．７９Ｌ、０．９５Ｌ、１Ｌである。この液ボトル２１の容積に応じて液ボトル２１の開口部２２の大きさは夫々異なっており、上側リング６１及び下側リング６２はその開口部２２の大きさに合わせて、適宜設計される。また、前記容積に応じて液ボトル２１の開口部２２から底面２５までの高さも様々であり、レジスト供給管３は前記高さに応じて、適宜設計される。例えばキャップ本体部５２及び上側キャップ７１は、液ボトル２１の容積によらず、共通の部品として構成される。

上側キャップ７１は、回転操作部であるハンドル７２と、外筒部７３とにより構成されている。ハンドル７２はレジスト供給管３を囲む扁平なリング状の部材として構成されており、内筒部５３と同軸に設けられている。ハンドル７２の上側の内縁はレジスト供給管３のフランジ２８、２９間へ食い込んでいる。そして、ハンドル７２の外縁は下方へ屈曲され、環状の側壁部７４を構成している。図６は図５のＡ−Ａ矢視断面図である。側壁部７４の内周側にはハンドル７２の中央部側へ伸び出した弾性を有するアーム７５が形成されており、各アーム７５の先端にはハンドル７２の中心に向かう爪部７６が設けられている。ハンドル７２の周方向における爪部７６の一方側、他方側には夫々係合面７７、７８が形成されている。なお、図ではアーム７５は４本のみ記載しているが、本数としては４本に限られるものではなく、例えば８本でもよい。

移動筒部である外筒部７３は、内筒部５３と同軸に設けられ、円筒部８１、８２が上下に連接されて形成されている。円筒部８１の外径は、円筒部８２の外径に比べて小さく構成されている。円筒部８１はハンドル７２の側壁部７４に囲まれており、円筒部８１の上縁は内側に突出し、フランジ３８、３９間へ進入している。このようにフランジ３８、３９が円筒部８１の上縁及びハンドル７２の内縁を挟むことで、上側キャップ７１の高さに対するレジスト供給管３の高さが固定されている。円筒部８１の外周には周方向に適宜間隔をおいて歯部８３が当該円筒部８１の外方に向けて突接されており、歯部８３は周方向の一方側、他方側に夫々係合面８４,８５を備えている。

円筒部８２の内周８６にはねじが切られており、当該ねじは内筒部５３の外周５６のねじと螺合する。そして、外筒部７３が軸回りに回転することで、キャップ本体部５２に対して外筒部７３が軸方向に進退し、それによってレジスト供給管３の高さ位置が、当該レジスト供給管３の長さ方向に沿って変化する。

ここで、ボトルキャップ５の動作について説明する。レジスト供給管３の下端が液ボトル２１の底面２５から浮いた状態で、上から見てハンドル７２を例えば時計回りに回すときには、図７（ａ）に示すように爪部７６の係合面７７と歯部の係合面８４とが互いに係合し、ハンドル７２の回転に応じて外筒部７３も時計回りに回転する。それによって、上側キャップ７１は下側キャップ５１に対してレジスト供給管３の長さ方向に沿って下方へ移動する。既述のようにレジスト供給管３の高さ方向に対して上側キャップ７１の位置は固定されているため、上側キャップ７１が下側キャップ５１に対して下方に移動すると、レジスト供給管３も下側キャップ５１に対して下方に移動する。

そして、レジスト供給管３の下端が液ボトル２１の底面２５に接触すると、外筒部７３を回転させるために必要なトルクが大きくなることで、図７（ｂ）に示すようにアーム７５の先端側が外方へ向けて撓み、爪部７６が歯部８３に乗り上げ、係合面７７と係合面８４との係合が外れる。ハンドル７２の回転が進み、爪部７６が歯部８３を乗り越えるとアーム７５はその復元力により元の形状に戻る。さらにハンドル７２の回転が進み、爪部７６が再び歯部８３に当接すると、同様にアーム７５が撓み、爪部７６が歯部８３に乗り上げる。

このように爪部７６と歯部８３との係合が解除され、ハンドル７２が空回りして外筒部７３が回転しなくなる。それによってレジスト供給管３の下端が液ボトル２１の底面２５に接した状態に固定される。このようにボトルキャップ５は、外筒部７３のトルクが所定の値よりも増大したときに、当該外筒部７３の回転を停止させる、いわゆるトルクリミッタ付きのキャップとして構成されている。

また、上から見てハンドル７２を例えば反時計回りに回すときは、図７（ｃ）に示すように爪部７６の係合面７８と歯部８３の係合面８５とが互いに係合し、ハンドル７２の回転に応じて外筒部７３も反時計回りに回転する。それによって上側キャップ７１は下側キャップ５１に対して上昇し、それによってレジスト供給管３も下側キャップ５１に対して上昇する。このようにレジスト供給管３を上昇させるときは、爪部７６と歯部８３との係合の解除が起こらないように、これら爪部７６及び歯部８３が形成されている。

図８は、これまで説明した加圧式レジスト供給容器２が適用されるレジスト塗布装置１２の構成を示している。配管４３の下流にはレジスト供給ノズル１３が設けられている。また、配管４３にはマスフローコントローラなどを備えた流量制御部１４が介設されており、レジスト２０の流量を制御する。図中１５はウエハＷの裏面側中央を水平に保持すると共にウエハＷを鉛直軸回りに回転させて、供給されたレジストをスピンコーティングするスピンチャックである。スピンチャック１５の周囲にはレジストの飛散を抑えるカップ１６が設けられている。カップ１６には排液口１７と、排気口１８とが設けられている。

Ｎ2ガス供給配管４３に介設されるバルブＶ１が開くと、Ｎ2ガス供給源１９からＮ2ガスが液ボトル２１に供給され、液ボトル２１内が加圧される。そして、レジスト供給管３のレジスト流路３１にレジスト２０が流入し、レジスト２０はレジスト供給ノズル１３からウエハＷの中心部に吐出される。吐出されたレジスト２０は遠心力によりウエハＷの周縁部へと展伸され、ウエハＷの表面全体にレジスト２０が塗布される。

続いて、クリーンルーム内でユーザが、レジスト供給機構１を液ボトル２１に取り付けて、レジスト供給管３の位置調整を行う手順について説明する。先ず、上側キャップ７１を下側キャップ５１に対して、比較的上方に位置するように調整しておく。レジスト２０が貯留された液ボトル２１を用意し、当該液ボトル２１の開口部２２からレジスト供給管３を液ボトル２１内に進入させる（図９（ａ））。開口部２２の外周２４のねじと、下側リング６２の内周６４のねじとを螺合させて、レジスト供給機構１を液ボトル２１に固定し、液ボトル２１内を密閉する（図９（ｂ））。このときには、レジスト供給管３の下端は液ボトル２１の底面２５から浮いている。

続いて、レジスト供給管３の高さを下げるために、ユーザは既述のようにハンドル７２を回す。図７（ａ）に示したように、外筒部７３もハンドル７２と同じ方向に回転し、上側キャップ７１の高さ位置が下がり、それに合わせてレジスト供給管３の高さ位置も下がる（図１０（ａ））。レジスト供給管３の下端が液ボトル２１の底部に接触すると、図７（ｂ）に示したようにハンドル７２が空回りし、レジスト供給管３の下降が停止する（図１０（ｂ））。このようにハンドル７２が空回りするようになったら、ユーザはハンドル７２の回転を停止させる。そして、レジスト供給管３が鉛直向きになるように、液ボトル２１をクリーンルームの所定の載置場所に設置する。

液ボトル２１を交換する場合は、レジスト供給機構１を液ボトル２１に取り付けたときとは逆の動作で取り外す。続いて、レジスト供給管３の高さを下げたときとは逆方向にハンドル７２を回す。図７（ｃ）に示したようにハンドル７２の回転と同方向に外筒部７３も回転し、下側キャップ５１に対する上側キャップ７１の高さ位置が上がる。その後は、新しいレジスト２０が入った液ボトル２１を用意し、改めてレジスト供給機構１を既述のように取り付ける。

このようなレジスト供給機構１によれば、レジスト供給管３の高さを下げるためにハンドル７２を回転させるときに、レジスト供給管３の下端が液ボトル２１の底面２５に接触し、レジスト供給管３に対してその高さが固定される外筒部７３のトルクが大きくなると、ハンドル７２に設けられる爪部７６と、外筒部７３に設けられる歯部８３との係合が解除され、ハンドル７２が空回りする。従って、液ボトル２１の外部からレジスト供給管３の下端の高さ位置が目視できなくても、ユーザの技量や経験によらずにレジスト供給管３の下端を液ボトル２１の底面２５に接触した状態で固定することができる。その結果として、液ボトル２１でのレジストの液残り量を抑えることができ、処理コストが増加することを防ぐことができる。

また、レジスト供給機構１では、レジスト供給管３の高さ調整とボトルキャップ５に対する固定とを、ハンドル７２を回す一つの作業で行うことができる。従って、背景技術の項目に記載したように、レジスト供給管３の位置調整を行った後にレジスト供給管３の位置を固定する場合に比べて、ユーザの作業工程数を少なくすることができるのでユーザの負担を減らすことができるし、作業時間の短縮化を図ることができる。

また、Ｎ2ガス流路３５がレジスト供給管３に形成されているため、レジスト供給管３とは別に下流端が液ボトル２１内に進入するＮ2ガス供給管を設ける構造とする場合に比べて、レジスト供給機構１の継手を少なくすることができる。従って、レジスト供給機構１の構造が簡素化されると共に液ボトル２１内の処理液やガスの漏れを、より確実に防ぐことができる。

上記の例では、処理液としてレジスト２０を使用しているが、例えばシンナーやＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）などの他の液体を処理液としてもよい。シンナーは例えばウエハＷにおけるレジストの濡れ広がりを改善するためにレジスト２０の前にウエハに供給される。ＨＭＤＳは、ウエハ表面を疎水化してレジストの密着性を高める。

また、液ボトル２１が設置される雰囲気において、液ボトル２１により遮光される代わりに、処理液により遮光され、それによって処理液供給管３の下端が見えない場合にも、本発明は上記のように処理液供給管３の下端の高さ位置を底面２５に接触させて固定できるため有効である。

続いてレジスト供給機構１の変形例であるレジスト供給機構９について、その斜視図である図１１及び縦断側面図である図１２を参照しながら、レジスト供給機構１との差異点を中心に説明する。なお、レジスト供給機構１との同一部分には同一符号を付して、説明を省略する。このレジストのレジスト供給管３にはＮ2ガス流路３５が形成されていない。下側キャップ５１の支持部５４の上側に突起部９２が設けられ、突起部９２の上端から支持部５４の下端に向けてＮ2ガスの流路９３が設けられている。

流路９３の下端は、液ボトル２１の開口部２２に開口しており、図中５３ａは流路９３に合わせてシール部材５８に形成された開口部である。突起部９２にはＮ2ガス供給ポート４２が設けられている。このようにＮ2ガスの流路９３を構成しても、液ボトル２１内へＮ2ガス供給を行うＮ2ガス供給管を、下側キャップ５１に別途設ける場合に比べて、レジスト供給機構９の継手を少なくすることができる。

なお、ハンドル７２と円筒部８１とを係合させるための構造は、上記の例に限られない。図１３の例では、円筒部８１の外周に被係合部である凹部９４が設けられている。また、ハンドル７２の内周から中心へ向けてバネ９５により付勢される係合部である係合片９６が設けられている。レジスト供給管３が液ボトル２１から浮いた状態で当該レジスト供給管３の高さ位置を下げるときには、図に示すように係合片９６と凹部９４とが係合することでハンドル７２と共に円筒部８１が回転する。レジスト供給管３の下端が液ボトル２１の下端に接すると、係合片９６が凹部９４から出て、前記係合が解除される。

上記の例ではレジスト供給管３と共に移動する移動筒部をなす上側キャップ７１が、液ボトル２１に固定された固定筒部をなす下側キャップ５１の外側に位置している。しかし、上側キャップ７１が下側キャップ５１の外側に位置していてもよい。つまり、下側キャップ５１の内筒部５３の内側に上側キャップ７１の円筒部８２が位置しており、円筒部８２の外周と前記内筒部５３の内周とが互いに螺合するように、ねじが切られていてもよい。

また、ハンドル７２も外筒部７３の外側に位置することに限られない。図１４は、ハンドル７２と外筒部７３との位置関係を示す概略図である。ハンドル７２の内縁側は下方に突出し、外筒部７３の内側に進入するリング状の突出部９７を構成している。例えば突出部９７の外周面には歯部８３が、外筒部７３の内周面には、爪部７６及びアーム７５が設けられる。そして、上記の例と同様にハンドル７２を回転させ、外筒部７３のトルクが大きくなると、爪部７６と歯部８３との係合が解除される。

また、上記の例では外筒部７３のトルクが大きくなったときにアーム７５が変形して爪部７６、歯部８３との係合が解除されるが、このようなアーム７５を設ける代わりに爪部７６または歯部８３が弾性を有するように構成し、前記トルクが大きくなったときには、当該爪部７６または歯部８３が変形することにより係合が解除されてもよい。

１ レジスト供給機構
２ 加圧式レジスト供給容器
３ レジスト供給管
５ ボトルキャップ
１２ レジスト塗布装置
２０ レジスト
２１ 液ボトル
２２ 開口部
５１ 下側キャップ
５２ キャップ本体部
５３ 内筒部
５４ 支持部
７１ 上側キャップ
７２ ハンドル
７３ 外筒部
７５ アーム
７６ 爪部
８３ 歯部

Claims (5)

1. 容器本体とこの容器本体の上面開口部を塞ぐ蓋部とからなる容器の内部に貯留された処理液を、加圧用ガスにより圧送するための処理液供給装置において、
   前記蓋部から容器本体の上方へ突出し、周面にねじが切られた固定筒部と、
   この固定筒部と同軸に当該固定筒部の内側または外側に螺合して設けられた移動筒部と、
   前記固定筒部と前記移動筒部と前記蓋部とを、当該固定筒部及び前記蓋部に対して軸方向に移動自在に貫通し、その下端は前記容器本体の底面に対して近接すると共に移動筒部に対して軸方向の位置が固定された処理液供給管と、
   前記移動筒部と同軸に設けられた環状部分を有する回転操作部と、
   前記移動筒部及び前記環状部分に夫々設けられ、前記回転操作部を回転させたときに互いに係合して移動筒部が回転し、また移動筒部に加わるトルクが大きくなると係合が解除されるように構成された係合部及び被係合部と、
   を備え、
   回転操作部を回転させて処理液供給管の下端が容器本体の底面に当接することにより係合部と被係合部との係合が解除されて回転操作部が空回りすることを特徴とすることを特徴とする処理液供給機構。
2. 前記処理液供給管の軸は、前記容器本体の縦軸に対して傾斜し、前記処理液供給管の下端が前記容器本体の底面の周縁部に当接することにより、前記係合が解除されることを特徴とする請求項１記載の処理液供給機構。
3. 固定筒部は、移動筒部の内側に位置することを特徴とする請求項１または２記載の処理液供給機構。
4. 前記環状部分は、移動筒部の外側に当該移動筒部を囲むように設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の処理液供給機構。
5. 前記処理液供給管には、処理液の流路とは区画された前記加圧用ガスの供給路が設けられることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の処理液供給機構。

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