JPH0920359A - 溶液供給装置 - Google Patents

溶液供給装置

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JPH0920359A
JPH0920359A JP7169422A JP16942295A JPH0920359A JP H0920359 A JPH0920359 A JP H0920359A JP 7169422 A JP7169422 A JP 7169422A JP 16942295 A JP16942295 A JP 16942295A JP H0920359 A JPH0920359 A JP H0920359A
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JP
Japan
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cap
container
pipe
solution supply
resist
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JP7169422A
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English (en)
Inventor
Seiichi Shiono
清一 塩野
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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  • Closures For Containers (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 容器交換時、溶液と空気との接触の機会を軽
減する。 【構成】 溶液(レジスト)を収容する容器と、前記容
器の溶液供給口部に取り付けられて溶液供給口を気密的
に塞ぐキャップと、前記キャップを溶液供給口部から外
した後前記溶液供給口部に気密的に取り付けられる配管
付キャップとを有する溶液供給装置であって、前記配管
付キャップの配管はキャップ部分までとなり、前記容器
には接続時前記配管付キャップの配管と連通状態となり
前記溶液供給口部から容器底内面近傍に亘って延在する
ガイド管が設けられている。前記キャップおよび配管付
キャップは溶液供給口部に対して摺動自在となり、配管
付キャップでキャップを押し出すことによって溶液供給
口部に固定できる構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は溶液供給装置、特にIC
等半導体装置の製造におけるレジスト塗布技術に適用し
て有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造において、半導体薄板
(ウエハ)の表面にレジスト(ホトレジスト)を塗布す
る工程がある。これらの工程において、レジスト塗布装
置が使用されている。レジスト塗布技術については、た
とえば、株式会社プレスジャーナル発行「月刊Semicond
uctor World 」1985年9月号、同年8月15日発行、P187
(特開昭60-83327号公報)に記載されている。
【0003】同文献には、スピンナの載置台上のウェー
ハ上にレジストポンプによってレジストタンク内のレジ
ストを供給する構造が記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のレジストタンク
は、たとえば瓶構造の容器となり、容器の溶液供給口部
にはネジ式のキャップが取り付けられている。また、レ
ジストを供給する配管の先端部分は、前記キャップと同
様なネジ式のキャップの中心を貫通する構造(貫通型配
管付キャップ)となり、容器内に配管先端部分が挿入さ
れるようになっている。すなわち、前記配管付キャップ
の下に突出する配管先端部分は、容器内のレジストを上
層から下層に亘って配管内に案内するためのガイド管と
なる。
【0005】レジストタンク(容器)の交換において
は、貫通型配管付キャップに対して相対的に容器を回転
させて容器を外す。また、新しい容器のキャップを外
し、貫通型配管付キャップに対して相対的に回転させて
新しい容器を取り付けている。
【0006】この結果従来の容器の場合、キャップを外
し、貫通型配管付キャップを取り付けるため、容器内に
空気が混入してしまう。空気混入による塗布ムラを防止
するため、交換直後は空気が抜け切るまでレジストの空
出しをしなければならず、レジストが無駄となる。
【0007】また、容器交換時、前記ガイド管部分が空
気に晒され、ガイド管の周面に付着しているレジストが
乾燥して硬化してしまい、異物となって新しい容器内に
持ち込まれることになる。異物は塗布ムラの原因の一つ
となる。
【0008】本発明の目的は、容器交換時、溶液と空気
との接触の機会を軽減することができる溶液供給装置を
提供することにある。
【0009】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0011】(1)溶液(レジスト)を収容する容器
と、前記容器の溶液供給口部に取り付けられて溶液供給
口を気密的に塞ぐキャップと、前記キャップを溶液供給
口部から外した後前記溶液供給口部に気密的に取り付け
られる配管付キャップとを有する溶液供給装置であっ
て、前記配管付キャップの配管はキャップ部分までとな
り、前記容器には接続時前記配管付キャップの配管と連
通状態となり前記溶液供給口部から容器底内面近傍に亘
って延在するガイド管が設けられている。前記キャップ
および配管付キャップは溶液供給口部に対して摺動自在
となり、配管付キャップでキャップを押し出すことによ
って溶液供給口部に固定できる構成となっている。前記
溶液供給口部,キャップ,配管付キャップは気密を維持
できるようにゴム等の弾性体で形成されている。前記配
管付キャップには容器内に不活性の気体(窒素ガス)を
導入する導入孔が設けられ、前記溶液供給口部には容器
内と前記導入孔とを連通状態とする導孔が設けられてい
る。前記配管付キャップには配管内を気体が通過した場
合気体を検出できる気体センサが取り付けられている。
前記配管付キャップには異物供給防止用のフィルターが
設けられている。
【0012】
【作用】前記(1)の手段によれば、(a)前記配管付
キャップの配管はキャップ部分までとなり、前記容器に
は接続時前記配管付キャップの配管と連通状態となり前
記溶液供給口部から容器底内面近傍に亘って延在するガ
イド管が設けられていることから、容器交換時、容器側
のガイド管と配管付キャップ側の配管とは突き当て状態
となり、レジスト内に空気が混入し難くなり、レジスト
の空出しを少なくできレジストが無駄とならなくなる。
【0013】(b)容器交換時、容器側のガイド管と配
管付キャップ側の配管とは突き当て状態となり、従来の
ような貫通型配管付キャップの場合のように容器内に配
管先端部分を挿入しなくなり、前記ガイド管部分が空気
に晒されて異物を発生させることがない。
【0014】(c)前記キャップおよび配管付キャップ
は溶液供給口部に対して摺動自在となり、配管付キャッ
プでキャップを相対的に押し出すことによって配管付キ
ャップに溶液供給口部を固定できる構成となっているこ
とから、容器内のレジストが空気に触れる機会が少なく
なる。
【0015】(d)前記キャップおよび配管付キャップ
は溶液供給口部に対して摺動自在となり、配管付キャッ
プでキャップを押し出すことによって溶液供給口部に固
定できる構成となっていることから、作業性が良くな
る。
【0016】(e)前記溶液供給口部,キャップ,配管
付キャップは気密を維持できるようにゴム等の弾性体で
形成されていることから、供給するレジスト中に空気が
混入することがない。
【0017】(f)前記配管付キャップには容器内に窒
素ガスを導入する導入孔が設けられ、前記溶液供給口部
には容器内と前記導入孔とを連通状態とする導孔が設け
られている。したがって、前記導入孔から容器に高圧の
窒素ガスを導入することによって自動的にレジストを順
次供給できる。
【0018】(g)前記配管付キャップには配管内を気
体が通過した場合気体を検出できる気体センサが取り付
けられている。したがって、気体通過時点でレジストの
供給を停止すれば、ウエハへのレジスト塗布は停止さ
れ、レジスト塗布ムラを防止できる。
【0019】(h)前記配管付キャップには異物供給防
止用のフィルターが設けられている。したがって、容器
内に仮に異物が存在してもウエハ主面に異物が運ばれる
ことがない。
【0020】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
【0021】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【0022】(実施例1)図1は本発明の一実施例(実
施例1)による溶液供給装置の一部を示す斜視図、図2
は本実施例1の溶液供給装置における接続前の容器と配
管付キャップとを示す断面図、図3は本実施例1の溶液
供給装置における接続状態の容器と配管付キャップとを
示す断面図、図4は本実施例1の溶液供給装置における
接続後の容器と配管付キャップとを示す断面図、図5は
本実施例1の溶液供給装置を用いたレジスト塗布装置の
概略構成図である。
【0023】本実施例1の溶液供給装置が適用されるレ
ジスト塗布装置の概略構成は、図5に示すように、左側
のウエハ処理部1と、その右側の溶液供給装置2とから
なっている。
【0024】ウエハ処理部1には、スピンコート装置
(スピンナー)21が配置されている。このスピンコー
ト装置21は、スピンテーブル22と、このスピンテー
ブル22を回転させるスピンモータ23とからなってい
る。スピンテーブル22は、スピンモータ23の回転軸
24に支持されている。スピンテーブル22上には、半
導体薄板(ウエハ)25が真空吸着によって保持され
る。ウエハ25が高速で回転されている状態で、レジス
ト供給用の配管33から供給されるレジスト(溶液)8
によって、ウエハ25の主面にレジストが塗布される。
【0025】溶液供給装置2は、溶液供給部3と、レジ
スト供給を行うボンベ4等によって構成されている。
【0026】前記溶液供給部3には、容器5が収容され
ている。前記容器5は、図1乃至図5に示すように、た
とえば、上部が細い瓶構造となり、この細い部分には溶
液供給口部6が嵌合状態で取り付けられている。容器5
は耐薬品性の樹脂、たとえば、四フッ化エチレン樹脂で
形成されている。また、溶液供給口部6は、耐薬品性の
弾性体、たとえば耐薬品性のゴムで形成されている。
【0027】溶液供給口部6の中心には、ガイド管7が
貫通状態で取り付けられている。前記ガイド管7は上端
は溶液供給口部6の上面から突出しない構造となるとと
もに、下端は容器5の底内面近傍にまで延在している。
ガイド管7は容器5内の溶液、すなわちレジスト8をそ
の上層から下層に亘って容器5外に案内するため設けら
れている。
【0028】また、溶液供給口部6の中心から外れた位
置には、前記ガイド管7と同様の方向に沿って導孔9が
設けられている。この導孔9は、図5に示すように、前
記ボンベ4に接続された圧送用配管10から送り込まれ
た不活性の気体、たとえば、窒素ガス(N2 ガス)11
を容器5内に導入する孔となる。
【0029】溶液供給口部6の容器5から抜けた部分
は、図1および図2に示すように、矩形体12となって
いる。また、前記矩形体12の両側には、横方向に沿っ
て嵌合用の嵌合溝13が設けられている。溶液供給口部
6の溶液供給口14、すなわちガイド管7の上端孔部分
を塞ぐキャップ15は、図1に示すように、コの字断面
となるとともに、その両側内面に、前記嵌合溝13に摺
動自在に嵌合する嵌合凸条16を有する構造となってい
る。キャップ15は弾性体、たとえば耐薬品性のゴムで
形成されている。したがって、溶液供給口部6にキャッ
プ15を側方から摺動嵌合させることによって、溶液供
給口部6の溶液供給口14を気密的に塞ぐようになる。
また、キャップ15を外すときはキャップ15を横方向
に摺動させればよい。
【0030】前記溶液供給部3には、前記容器5の溶液
供給口部6に取り付けられる配管付キャップ30が設け
られている。
【0031】配管付キャップ30は、図1および図2に
示すように、キャップ31と、キャップ31の天井部3
2に配管33の先端部分を貫通状態で取り付けた構造と
なっている。キャップ31は前記キャップ15と同様な
構造となり、コの字断面の両側の内側に設けた嵌合凸条
34が、溶液供給口部6の嵌合溝13に摺動嵌合するよ
うになっている。配管33の先端は従来の配管付キャッ
プと異なり、天井部32の下面から外に突出しない構造
となっている。これは、キャップ31を容器5の溶液供
給口部6に横方向から摺動させて嵌合したり、摺動させ
て取り外すためである。キャップ31は弾性体、たとえ
ば耐薬品性のゴムで形成されている。これによって、配
管付キャップ30は容器5の溶液供給口部6に気密的に
取り付けられることになる。
【0032】前記配管33は、溶液供給部3からウエハ
処理部1に亘って延在し、先端はウエハ処理部1のスピ
ンテーブル22上方に位置している。この配管33は、
容器5内のレジスト8をウエハ処理部1のウエハ25上
に案内する管である。配管33は耐薬品性の透明性の樹
脂、たとえば四フッ化エチレン樹脂で形成されている。
【0033】配管付キャップ30の天井部32には、図
2に示すように、発光素子36と受光素子37とからな
る気体センサ38が内蔵されている。発光素子36と受
光素子37は、図2に示すように、配管33を挟むよう
に配置され、配管33内をレジスト8が通過している状
態と、N2 ガスや空気等の気体が通過する状態とを光学
的に検出するようになっている。これにより、ウエハ2
5上に気体が混じったレジスト8が供給されないように
なる。前記発光素子33および受光素子34から延びる
配線は、図示はしないが制御装置に接続される。なお、
図5では発光素子36,受光素子37等は省略してあ
る。
【0034】一方、前記配管33の途中には、図2に示
すように、フィルター39が取り付けられ、異物を通過
させないようになっている。前記フィルター39の取り
付け位置は限定されるものではない。たとえば、配管3
3の途中ではなく、先端(内端)に取り付けるようにす
れば、交換が容易となる。
【0035】他方、前記配管付キャップ30のキャップ
31には、前記溶液供給口部6の導孔9に連通状態とな
る導入孔40が設けられている。この導入孔40には、
前記ボンベ4に接続される圧送用配管10の先端が接続
される。ボンベ4のバルブ41の開閉制御によって、窒
素ガス11の容器5への供給,停止を制御できる。
【0036】本実施例1では、バルブ41を開くことに
よって、容器5のレジスト8の表面に窒素ガス11によ
って圧力が加わり、これによってガイド管7,配管33
内をレジスト8が流れてレジスト塗布が行われる。
【0037】本実施例1の溶液供給装置2において、配
管付キャップ30に接続されている容器5の交換を行う
ときは、配管付キャップ30の嵌合凸条34に沿う方向
に相対的に容器5を摺動させて配管付キャップ30から
容器5を外し、その後、新しい容器5を取り付ける。こ
の取付時、配管付キャップ30の嵌合凸条34と新しい
容器5のキャップ15の嵌合凸条16を同一線となるよ
うにし、その後容器5を嵌合凸条34に沿う方向に移動
させることによって、キャップ15の取り外しと、配管
付キャップ30への容器5の取り付けが同時に行え、容
器5内のレジスト8が空気に触れないようにすることが
できる。なお、配管付キャップ30から容器5を取り外
した後は、時間をおくことなく直ぐに新しい容器5を配
管付キャップ30に取り付ける。これによって、配管付
キャップ30の配管33の先端部分に付着するレジスト
の乾燥硬化を防ぐことができる。この際、乾燥化し始め
たレジストを拭いて除去した後、新しい容器5を取り付
けるようにしてもよい。
【0038】本実施例1の溶液供給装置は以下の効果が
得られる。
【0039】(1)配管付キャップ30の配管33はキ
ャップ31部分までとなり、容器5には接続時、前記配
管付キャップ30の配管33と連通状態となり前記溶液
供給口部6から容器底内面近傍に亘って延在するガイド
管7が設けられていることから、容器交換時、容器5側
のガイド管7と配管付キャップ30側の配管33とは突
き当て状態となり、レジスト8内に空気が混入し難くな
り、レジストの空出しを少なくできレジストが無駄とな
らなくなる。
【0040】(2)容器交換時、容器5側のガイド管7
と配管付キャップ30側の配管33とは突き当て状態と
なり、従来のような貫通型配管付キャップの場合のよう
に容器内に配管先端部分を挿入しなくなり、前記ガイド
管部分が空気に晒されて異物を発生させることがない。
これにより、ウエハ25の主面に異物を供給することが
防げる。
【0041】(3)キャップ15および配管付キャップ
30のキャップ31は溶液供給口部6に対して摺動自在
となり、配管付キャップ30でキャップ15を相対的に
押し出すことによって配管付キャップ30に容器5の溶
液供給口部6を固定できる構成となっていることから、
容器5内のレジスト8が空気に触れる機会が少なくな
る。これによって、レジスト8の乾燥による異物発生が
防止できる。また、レジスト8と空気の混入も防げる。
【0042】(4)キャップ15および配管付キャップ
30のキャップ31は溶液供給口部6に対して摺動自在
となり、配管付キャップ30でキャップ15を相対的に
押し出すことによって配管付キャップ30に溶液供給口
部6を固定できる構成となっていることから、作業性が
良くなる。すなわち、新しい容器5の取り付けはワンタ
ッチで行えることになる。
【0043】(5)溶液供給口部6,キャップ15,配
管付キャップ30のキャップ31は気密を維持できるよ
うにゴム等の弾性体で形成されていることから、供給す
るレジスト8中に空気が混入することがない。したがっ
て、レジストの塗布ムラが発生し難くなり、均一,均質
なレジスト塗布が達成できる。
【0044】(6)配管付キャップ30には容器5内に
窒素ガス11を導入する導入孔40が設けられ、前記溶
液供給口部6には容器5内と前記導入孔40とを連通状
態とする導孔9が設けられている。したがって、前記導
入孔40から容器5に高圧の窒素ガス11を導入するこ
とによって自動的にレジストを順次供給できる。
【0045】(7)配管付キャップ30には配管33内
を気体が通過した場合気体を検出できる気体センサ38
が取り付けられている。したがって、気体通過時点でレ
ジストの供給を停止すれば、ウエハ25へのレジスト塗
布は停止され、レジスト塗布ムラを防止できる。
【0046】(8)配管付キャップ30には異物供給防
止用のフィルター39が設けられている。したがって、
容器5内に仮に異物が存在してもウエハ主面に異物が運
ばれることがなく、塗布ムラの発生を防止できる。
【0047】(実施例2)図6は本発明の他の実施例
(実施例2)による溶液供給装置の一部を示す断面図で
ある。本実施例2では、容器5を容易に潰れるような薄
いもので形成しておく。また、溶液供給口部6には本実
施例1のような導孔9を設けない。これは、本実施例1
が外圧によるレジストの押し出しによる塗布である機構
とは異なり、配管33側からの真空吸引式によるレジス
ト供給機構によるものである。本実施例2の溶液供給装
置では、容器5がレジスト8の減少とともに潰れるた
め、容器5内のレジスト8を最後まで残さずに使い切る
ことができる効果がある。
【0048】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0049】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である半導体
装置製造におけるレジスト塗布装置に適用した例につい
て説明したが、ガラス膜を形成するSOG(Spine On G
lass)塗布技術にも適用できる。本発明は少なくとも溶
液を塗布する技術には適用できる。
【0050】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0051】(1)配管付キャップの配管はキャップ部
分までとなり、容器には接続時、前記配管付キャップの
配管と連通状態となり前記溶液供給口部から容器底内面
近傍に亘って延在するガイド管が設けられていることか
ら、容器交換時、容器側のガイド管と配管付キャップ側
の配管とは突き当て状態となり、レジスト内に空気が混
入し難くなり、レジストの空出しを少なくできレジスト
が無駄とならなくなる。
【0052】(2)容器交換時、容器側のガイド管と配
管付キャップ側の配管とは突き当て状態となり、従来の
ような貫通型配管付キャップの場合のように容器内に配
管先端部分を挿入しなくなり、前記ガイド管部分が空気
に晒されて異物を発生させることがない。これにより、
ウエハの主面に異物を供給することが防げる。
【0053】(3)キャップおよび配管付キャップのキ
ャップは溶液供給口部に対して摺動自在となり、配管付
キャップでキャップを相対的に押し出すことによって配
管付キャップに容器の溶液供給口部を固定できる構成と
なっていることから、容器内のレジストが空気に触れる
機会が少なくなる。これによって、レジストの乾燥によ
る異物発生が防止できる。また、レジストと空気の混入
も防げる。
【0054】(4)キャップおよび配管付キャップのキ
ャップは溶液供給口部に対して摺動自在となり、配管付
キャップでキャップを相対的に押し出すことによって配
管付キャップに溶液供給口部を固定できる構成となって
いることから、作業性が良くなる。すなわち、新しい容
器の取り付けはワンタッチで行えることになる。
【0055】(5)溶液供給口部,キャップ,配管付キ
ャップのキャップは気密を維持できるようにゴム等の弾
性体で形成されていることから、供給するレジスト中に
空気が混入することがない。したがって、レジストの塗
布ムラが発生し難くなり、均一,均質なレジスト塗布が
達成できる。
【0056】(6)配管付キャップには容器内に窒素ガ
スを導入する導入孔が設けられ、前記溶液供給口部には
容器内と前記導入孔とを連通状態とする導孔が設けられ
ている。したがって、前記導入孔から容器に高圧の窒素
ガスを導入することによって自動的にレジストを順次供
給できる。
【0057】(7)配管付キャップには配管内を気体が
通過した場合気体を検出できる気体センサが取り付けら
れている。したがって、気体通過時点でレジストの供給
を停止すれば、ウエハへのレジスト塗布は停止され、レ
ジスト塗布ムラを防止できる。
【0058】(8)配管付キャップには異物供給防止用
のフィルターが設けられている。したがって、容器内に
仮に異物が存在してもウエハ主面に異物が運ばれること
がなく、塗布ムラの発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例(実施例1)による溶液供給
装置の一部を示す斜視図である。
【図2】本実施例1の溶液供給装置における接続前の容
器と配管付キャップとを示す断面図である。
【図3】本実施例1の溶液供給装置における接続状態の
容器と配管付キャップとを示す断面図である。
【図4】本実施例1の溶液供給装置における接続後の容
器と配管付キャップとを示す断面図である。
【図5】本実施例1の溶液供給装置を用いたレジスト塗
布装置の概略構成図である。
【図6】本発明の他の実施例(実施例2)による溶液供
給装置における接続状態の容器と配管付キャップとを示
す断面図である。
【符号の説明】
1…ウエハ処理部、2…溶液供給装置、3…溶液供給
部、4…ボンベ、5…容器、6…溶液供給口部、7…ガ
イド管、8…レジスト、9…導孔、10…圧送用配管、
11…窒素ガス、12…矩形体、13…嵌合溝、14…
溶液供給口、15…キャップ、16…嵌合凸条、21…
スピンコート装置、22…スピンテーブル、23…スピ
ンモータ、24…回転軸、25…ウエハ、30…配管付
キャップ、31…キャップ、32…天井部、33…配
管、34…嵌合凸条、36…発光素子、37…受光素
子、38…気体センサ、39…フィルター、40…導入
孔、41…バルブ。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶液を収容する容器と、前記容器の溶液
    供給口部に取り付けられて溶液供給口を気密的に塞ぐキ
    ャップと、前記キャップを溶液供給口部から外した後前
    記溶液供給口部に気密的に取り付けられる配管付キャッ
    プとを有する溶液供給装置であって、前記配管付キャッ
    プの配管はキャップ部分までとなり、前記容器には接続
    時前記配管付キャップの配管と連通状態となり前記溶液
    供給口部から容器底内面近傍に亘って延在するガイド管
    が設けられていることを特徴とする溶液供給装置。
  2. 【請求項2】 前記キャップおよび配管付キャップは溶
    液供給口部に対して摺動自在となり、配管付キャップで
    キャップを押し出すことによって溶液供給口部に固定で
    きる構成となっていることを特徴とする請求項1記載の
    溶液供給装置。
  3. 【請求項3】 前記溶液供給口部,キャップ,配管付キ
    ャップは気密を維持できるように弾性体で形成されてい
    ることを特徴とする請求項1または請求項2記載の溶液
    供給装置。
  4. 【請求項4】 前記配管付キャップには容器内に気体を
    導入する導入孔が設けられ、前記溶液供給口部には容器
    内と前記導入孔とを連通状態とする導孔が設けられてい
    ることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1
    項記載の溶液供給装置。
  5. 【請求項5】 前記配管付キャップには配管内を気体が
    通過した場合気体を検出できる気体センサが取り付けら
    れていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいず
    れか1項記載の溶液供給装置。
  6. 【請求項6】 前記配管付キャップには異物供給防止用
    のフィルターが設けられていることを特徴とする請求項
    1乃至請求項5のいずれか1項記載の溶液供給装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011233789A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Tokyo Electron Ltd 処理液供給機構
CN103400785A (zh) * 2013-08-14 2013-11-20 上海华力微电子有限公司 一种用于光刻胶瓶的导管
JP2015034016A (ja) * 2013-08-08 2015-02-19 東京エレクトロン株式会社 ボトル交換装置、基板処理装置、及び、ボトル交換方法
JP2015035462A (ja) * 2013-08-08 2015-02-19 東京エレクトロン株式会社 ボトルキャップ、ボトルキャップ交換装置、及び、ボトルキャップ交換方法
KR20150018453A (ko) 2013-08-08 2015-02-23 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 보틀 교환 장치, 기판 처리 장치, 보틀 교환 방법, 보틀 캡, 보틀 캡 교환 장치 및 보틀 캡 교환 방법
KR20170129760A (ko) * 2015-03-26 2017-11-27 호야 가부시키가이샤 레지스트액 보관 용기, 레지스트액 공급 장치, 레지스트액 도포 장치, 레지스트액 보존 장치 및 마스크 블랭크의 제조 방법
US9989855B2 (en) 2016-02-18 2018-06-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Chemical supply unit capable of automatically replacing a canister and a substrate treatment apparatus having the same

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011233789A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Tokyo Electron Ltd 処理液供給機構
JP2015034016A (ja) * 2013-08-08 2015-02-19 東京エレクトロン株式会社 ボトル交換装置、基板処理装置、及び、ボトル交換方法
JP2015035462A (ja) * 2013-08-08 2015-02-19 東京エレクトロン株式会社 ボトルキャップ、ボトルキャップ交換装置、及び、ボトルキャップ交換方法
KR20150018453A (ko) 2013-08-08 2015-02-23 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 보틀 교환 장치, 기판 처리 장치, 보틀 교환 방법, 보틀 캡, 보틀 캡 교환 장치 및 보틀 캡 교환 방법
TWI567010B (zh) * 2013-08-08 2017-01-21 Tokyo Electron Ltd Bottle replacement device, substrate processing device, bottle replacement method, cap, cap replacement device and cap replacement method
US10000331B2 (en) 2013-08-08 2018-06-19 Tokyo Electron Limited Bottle change apparatus, substrate treatment apparatus, bottle change method, bottle cap, bottle cap change apparatus and bottle cap change method
CN103400785A (zh) * 2013-08-14 2013-11-20 上海华力微电子有限公司 一种用于光刻胶瓶的导管
KR20170129760A (ko) * 2015-03-26 2017-11-27 호야 가부시키가이샤 레지스트액 보관 용기, 레지스트액 공급 장치, 레지스트액 도포 장치, 레지스트액 보존 장치 및 마스크 블랭크의 제조 방법
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