JPH10289872A

JPH10289872A - 薬液供給装置

Info

Publication number: JPH10289872A
Application number: JP11341197A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Morita; 彰彦森田; Masami Otani; 正美大谷; Yasuo Imanishi; 保夫今西; Masao Tsuji; 雅夫辻; Masaki Iwami; 優樹岩見; Joichi Nishimura; 讓一西村; Kazuhiro Nishimura; 和浩西村
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-04-14
Filing date: 1997-04-14
Publication date: 1998-10-27

Abstract

(57)【要約】【課題】薬液吐出ノズルの吐出口と薬液供給源とを薬
液送液管により接続する必要がない薬液供給装置を提供
することを目的とする。【解決手段】薬液供給装置１は、基板Ｗに供給すべき
薬液を貯留する薬液貯留部３２と、アクチュエータ３３
の駆動により薬液貯留部３２内を往復移動するピストン
３４と、薬液貯留部３２に連通する薬液の吐出口３５お
よび吸引口３６と、吐出口３６および吸引口３７に各々
設けられたエアオペレート弁３７、３８と、薬液貯留部
３２内に貯留された薬液の温度を調整するためのヒータ
３９とを有する薬液吐出ノズル６と、薬液貯留部３２に
供給するための薬液を貯留する薬液貯留槽７と、薬液供
給源としての薬液瓶８とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板に薬液を供給するための薬液供給装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、回転する基板の表面にレジスト
を供給することにより基板の表面にレジストを塗布する
レジスト塗布装置や、回転する基板の表面に現像液を供
給することにより基板表面の露光済レジストを現像処理
する現像装置においては、基板の表面にレジストや現像
液等の薬液を供給するために薬液吐出ノズルが使用され
る。

【０００３】この薬液吐出ノズルは、基板に薬液を吐出
するための吐出口をその先端に備える。この吐出口は、
薬液送液管を介して薬液供給源と接続されている。そし
て、基板に薬液を供給する際には、薬液供給ノズルを、
スピンチャックに保持されて回転する基板の外縁より外
側の位置に配置された回転軸を中心に揺動させることに
より、薬液供給ノズル先端の吐出口をスピンチャックに
保持されて回転する基板の回転中心付近と対向する位置
まで移動させた後、この吐出口から薬液を吐出すること
により、回転する基板の表面に薬液を供給している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の薬液
吐出ノズルにおいては、吐出口と薬液供給源とを薬液送
液管を介して接続する必要があることから、次のような
問題点が発生する。

【０００５】すなわち、基板への薬液供給時における薬
液吐出ノズルの揺動に伴い、薬液送液管も往復移動を繰
り返す。このため、薬液送液管に繰り返し付与される応
力により薬液送液管に損傷を生じやすい。また、薬液送
液管の往復移動に伴い、薬液送液管が他の部材と摺動し
てパーティクルを生じる場合もある。薬液送液管内の薬
液を温度制御するため、薬液送液管の外周に薬液送液管
を覆う温度調整用配管を配設した場合には、温度調整用
配管についても上記同様の問題点が生ずる。

【０００６】また、薬液吐出ノズルの揺動に伴い薬液送
液管も往復移動する構成であるため、薬液吐出ノズルを
揺動させるために大きな動力が必要となり、さらには、
薬液送液管が往復移動するためのスペースを確保してお
く必要も生ずる。

【０００７】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、薬液吐出ノズルの吐出口と薬液供給源
とを薬液送液管により接続する必要がなく、上記問題点
を解消することのできる薬液供給装置を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、薬液を貯留する薬液貯留部と、前記薬液貯留部に貯
留された薬液を基板に向けて吐出するための吐出口とを
有する薬液吐出ノズルと、前記薬液吐出ノズルにおける
薬液貯留部に薬液を供給するための薬液供給手段と、前
記薬液吐出ノズルを、前記薬液供給手段から前記薬液貯
留部に薬液を供給するための薬液供給位置と、前記吐出
口から基板の表面に薬液を吐出するための薬液吐出位置
との間で移動させるノズル移動手段とを備えたことを特
徴とする。

【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記薬液吐出位置は、前記吐出口がス
ピンチャックに保持されて回転する基板の回転中心付近
と対向する位置となっており、前記薬液供給位置は、前
記薬液吐出ノズルがスピンチャックに保持されて回転す
る基板の外縁より外側に退避した位置となっている。

【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２いずれかに記載の発明において、前記薬液供給手段
は、前記薬液供給位置において前記薬液貯留部に供給す
るための薬液を貯留する薬液貯留槽と、薬液供給源から
前記薬液貯留槽に薬液を送液する送液手段とを有してい
る。

【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の発明において、前記薬液吐出ノズルは、前記薬液貯留
槽に貯留された薬液を前記薬液貯留部に吸引するととも
に、前記薬液貯留槽から薬液貯留部に吸引された薬液を
前記吐出口から吐出させるシリンジ機構をさらに備えて
いる。

【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
いずれかに記載の発明において、前記吐出口を開閉する
ための開閉手段を有している。

【００１３】請求項６に記載の発明は、請求項３または
４いずれかに記載の発明において、前記薬液貯留槽に当
該薬液貯留槽に貯留された薬液の温度を調整する温度調
節手段を配設している。

【００１４】請求項７に記載の発明は、請求項１乃至６
いずれかに記載の発明において、前記薬液吐出ノズルに
前記薬液貯留部に貯留された薬液の温度を調整する温度
調節手段を配設している。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明の第１実施形態
に係る薬液供給装置１の概要図であり、図２はこの薬液
供給装置１を適用した基板処理装置の概要図である。

【００１６】先ず、基板処理装置の構成について説明す
る。この基板処理装置は、フォトリソ工程で使用される
レジストを薬液として使用し、基板（半導体ウエハ）Ｗ
を回転させながら、この基板Ｗの表面に薬液を塗布する
ものである。

【００１７】この基板処理装置は、この発明に係る薬液
供給装置１と、基板Ｗを保持して回転するスピンチャッ
ク３と、このスピンチャック３の外側に配設された飛散
防止用カップ４と、薬液供給装置１、スピンチャック３
および飛散防止用カップ４を覆うチャンバ５とを備え
る。

【００１８】薬液供給装置１は、後程詳細に説明する薬
液吐出ノズル６を有する。この薬液吐出ノズル６は、昇
降および回転可能な駆動軸１１に連結されており、駆動
軸１１の軸芯を中心として揺動することにより、後述す
る薬液吐出位置と薬液供給位置との間を往復移動するよ
う構成されている。

【００１９】前記スピンチャック３は、モータ２２の駆
動により鉛直方向を向く軸芯回りに回転する回転軸２３
と、この回転軸２３に連結された吸着保持部２４とを有
し、この吸着保持部２４により基板Ｗの裏面を吸着保持
して回転する構成となっている。

【００２０】このスピンチャック３の周囲には、前記飛
散防止用カップ４が配設されている。この飛散防止用カ
ップ４は、図示しない昇降機構により上下移動可能に構
成されている。このため、この飛散防止用カップ４は、
基板Ｗの搬入、搬出時には基板Ｗを搬送する搬送用アー
ムと干渉しない位置まで下降し、後述する薬液の塗布時
には基板Ｗから飛散する薬液を捕獲しうる位置まで上昇
する。なお、飛散防止用カップ４により捕獲された薬液
は、排液管２５を介して搬出される。

【００２１】前記チャンバ５の側壁には、基板Ｗを搬送
する図示しない搬送用アームが通過するための開口部２
６が設けられている。この開口部２６は、シャッター２
７により開閉可能となっている。また、チャンバ５の上
方には、清浄な空気流を導入するための送気口２８が配
設されている。

【００２２】次に、薬液供給装置１の構成について説明
する。この薬液供給装置１は、図１に示すように、薬液
吐出ノズル６と、薬液貯留槽７と、薬液供給源としての
薬液瓶８とを備える。

【００２３】薬液吐出ノズル６は、基板Ｗに供給すべき
薬液を貯留する薬液貯留部３２と、ステッピングモータ
等のアクチュエータ３３の駆動により薬液貯留部３２内
を往復移動するピストン３４と、薬液貯留部３２に連通
する薬液の吐出口３５および吸引口３６と、薬液貯留部
３２内に貯留された薬液の温度を調整するためのヒータ
３９とを有する。薬液の吐出口３５および吸引口３６
は、その内部に薬液の流通孔を有する管形状を成し、こ
れらの吐出口３５および吸引口３６には、各々、エアオ
ペレート弁３７、３８が配設されている。この薬液吐出
ノズル６においては、薬液貯留部３２はシリンダとして
機能し、薬液貯留部３２およびピストン３４によりシリ
ンジ機構が構成される。

【００２４】なお、図３に示すように、吐出口３５の下
端部には吐出ポート５２が配設されている。この吐出ポ
ート５２は吐出口３５に対し着脱自在に装着されている
ことから、必要に応じこの吐出ポート５２のみを交換す
ることができる。また、図４に示すように、吸引口３６
の下面には、十字状の切り欠き５３が形成されている。

【００２５】薬液貯留槽７は、図２に示すように、スピ
ンチャック３に保持されて回転する基板Ｗの外縁より外
側の位置に配置されている。この薬液貯留槽７は、図１
に示すように、その内部に貯留した薬液の温度を調整す
るためのヒータ４２と、薬液貯留槽７上方の開口部４５
を閉鎖するために薬液貯留槽７内に配設された薬液より
比重が小さいボール４３と、薬液の液位を検出する液面
センサ４４とを備える。

【００２６】この薬液貯留槽７は、送液管４６を介して
薬液瓶８と連通されている。この薬液瓶８には窒素ガス
が供給されており、薬液瓶８内の薬液は窒素ガスにより
常に加圧されている。また、送液管４６には、薬液貯留
槽７の液面センサ４４と電気的に接続された図示しない
電磁弁によって駆動するエアオペレート弁４７が配設さ
れている。

【００２７】薬液吐出ノズル６は、前述したように、図
示しないモータ機構に連結された昇降および回転可能な
駆動軸１１の駆動により、薬液吐出位置と薬液供給位置
との間を往復移動する。この薬液吐出位置は、図２にお
いて二点鎖線で示すように、薬液吐出ノズル６の吐出口
３５がスピンチャック３に保持されて回転する基板Ｗの
回転中心付近と対向する位置である。また、薬液供給位
置は、薬液吐出ノズル６がスピンチャック３に保持され
て回転する基板Ｗの外縁より外側に退避し、薬液吐出ノ
ズル６の薬液貯留部３２がスピンチャック３に保持され
て回転する基板Ｗの外縁より外側の位置に配置された薬
液貯留槽７から薬液の供給を受ける位置である。

【００２８】次に、基板処理装置において処理を行う基
板Ｗに対し、この薬液供給装置１により薬液を供給する
供給動作について説明する。

【００２９】先ず、駆動軸１１の駆動により薬液吐出ノ
ズル６を図２において実線で示す位置まで移動させる。
この状態においては、図１に示すように、薬液吐出ノズ
ル６の吸引口３６は薬液貯留槽７における開口部４５の
上方に位置している。そして、薬液吐出ノズル６を下降
させる。すると、吸引口３６の下端部は、ボール４３を
押しのけて薬液貯留槽７内の薬液中に浸漬する。これに
より、薬液吐出ノズル６は薬液供給位置に配置されたこ
とになる。

【００３０】次に、エアオペレート弁３８を開放すると
ともに、アクチュエータ３３の駆動によりピストン３４
を薬液吐出ノズル６内で上昇させる。これにより、薬液
貯留槽７内の温度制御された薬液が吸引口３６から薬液
貯留部３２内に吸引される。このとき、吸引口３６の下
面には、図４に示す十字状の切り欠き５３が形成されて
いることから、吸引口３６の下面とボール４３の表面と
が密着したとしても、薬液の吸引に支障は生じない。

【００３１】続いて、薬液吐出ノズル６を図１に示す位
置まで上昇させた後、再度ピストン３４を薬液吐出ノズ
ル６内で若干上昇させることにより、吸引口３６内に残
存する薬液を完全に薬液貯留部３２内に吸引する。薬液
が薬液貯留部３２内に吸引されれば、エアオペレート弁
３８を閉止する。

【００３２】上記動作の後、薬液貯留槽７においては、
液面センサ４４が薬液の液位の低下を検出し、エアオペ
レート弁４７を開放する。これにより、薬液瓶８内の加
圧された薬液が送液管４６を介して薬液貯留槽７内に送
液される。薬液貯留槽７内の薬液の液位が回復すれば、
エアオペレート弁４７は閉止される。

【００３３】続いて、薬液吐出ノズル６を図２において
二点鎖線で示す薬液吐出位置まで移動させる。このと
き、スピンチャック３は、基板Ｗを保持して回転してい
る。この状態において、エアオペレート弁３７を開放す
るとともに、アクチュエータ３３の駆動によりピストン
３４を薬液吐出ノズル６内で下降させる。これにより、
薬液貯留部３２内に貯留されヒータ３９により温度制御
された薬液が、吐出口３５からスピンチャック３に保持
されて回転する基板Ｗの回転中心付近に吐出される。こ
の薬液は、基板Ｗの回転に伴う遠心力により、基板Ｗの
表面全域に供給される。

【００３４】基板Ｗ表面への薬液の供給が終了すれば、
エアオペレート弁３７を閉止するとともに、薬液吐出ノ
ズル６を薬液供給位置まで復帰させる。そして、前述し
た動作により、薬液貯留槽７から薬液貯留部３２内に新
たな薬液を吸引する。

【００３５】上述した薬液供給装置１によれば、薬液吐
出ノズル６の吐出口３５と薬液供給源としての薬液瓶８
とを薬液送液管により接続する必要がない。このため、
薬液送液管の損傷の問題や薬液送液管を往復移動するた
めに必要となる動力やスペースの問題を解消することが
可能となる。

【００３６】また、上述した薬液供給装置１によれば、
シリンダとして機能する薬液貯留部３２とピストン３４
とにより構成されるシリンジ機構により薬液の吸引と吐
出とを実行することから、粘度の高い薬液を使用した場
合であっても、この薬液を確実に薬液貯留部３２に吸引
して吐出口３５から吐出することができる。

【００３７】なお、上述した薬液供給装置１において
は、薬液を薬液貯留部３２に吸引するための吸引口３６
と、薬液貯留部３２内の薬液を吐出するための吐出口３
５とを個別に設けているが、これらを共用するようにし
てもよい。また、上述した実施の形態においては、吐出
口３５および吸引口３６にエアオペレート弁３７、３８
を配設しているが、逆止弁等を使用してもよい。

【００３８】次に、この発明の他の実施の形態について
説明する。図５はこの発明の第２実施形態に係る薬液供
給装置２の概要図である。なお、図１に示す薬液供給装
置１と同一の部材については同一の符号を付して詳細な
説明を省略する。

【００３９】この薬液供給装置２は、前述した基板処理
装置において処理を行う基板Ｗに対して薬液を供給する
ものであり、薬液吐出ノズル１６と、薬液貯留槽１７
と、薬液供給源としての薬液瓶８とを備える。

【００４０】薬液吐出ノズル１６は、基板Ｗに供給すべ
き薬液を貯留する薬液貯留部６２と、薬液貯留部６２に
連通する薬液の吐出口６５と、この突出口６５に配設さ
れたエアオペレート弁６７と、薬液貯留部６２内に貯留
された薬液の温度を調整するためのヒータ６９とを有す
る。

【００４１】また、薬液貯留槽１７は、第１実施形態に
かかる薬液供給装置１と同様、スピンチャック３に保持
されて回転する基板Ｗの外縁より外側の位置に配置され
ている。この薬液貯留槽１７は、薬液貯留槽１７下端の
開口部７５を閉鎖するために薬液貯留槽１７内に配設さ
れた薬液より比重が大きい閉止部材７３と、薬液の液位
を検出する液面センサ４４とを備える。

【００４２】この薬液貯留槽１７は、送液管４６を介し
て薬液瓶８と連通されている。この薬液瓶８には窒素ガ
スが供給されており、薬液瓶８内の薬液は常に加圧され
ている。また、送液管４６には、薬液貯留槽１７の液面
センサ４４と電気的に接続された図示しない電磁弁にて
駆動するエアオペレート弁４７が配設されている。

【００４３】薬液吐出ノズル１６は、第１実施形態に係
る薬液供給装置１と同様、図示しないモータ機構に連結
された昇降および回転可能な駆動軸１１の駆動により、
薬液吐出位置と薬液供給位置との間を往復移動する。こ
の薬液吐出位置は、吐出口６５がスピンチャック３に保
持されて回転する基板Ｗの回転中心付近と対向する位置
である。また、薬液供給位置は、薬液吐出ノズル１６が
スピンチャック３に保持されて回転する基板Ｗの外縁よ
り外側に退避し、薬液吐出ノズル１６の薬液貯留部６２
がスピンチャック３に保持されて回転する基板Ｗの外縁
より外側の位置に配置された薬液貯留槽１７から薬液の
供給を受ける位置である。

【００４４】次に、基板処理装置において処理を行う基
板Ｗに対し、この薬液供給装置２により薬液を供給する
供給動作について説明する。

【００４５】先ず、駆動軸１１の駆動により薬液吐出ノ
ズル１６を図５に示す位置まで移動させる。この状態に
おいては、薬液吐出ノズル１６の薬液貯留部６２は薬液
貯留槽１７における開口部７５の下方に位置する。この
状態で、薬液吐出ノズル１６を上昇させる。

【００４６】これにより、薬液貯留槽１７下端の開口部
７５を閉止していた閉止部材７３が、薬液吐出ノズル１
６に付設された押上部材６４により押し上げられ、薬液
貯留槽１７内に貯留された薬液は開口部７５から流下す
る。そして、この薬液は薬液吐出ノズル１６の薬液貯留
部６２に流入し、薬液貯留部６２内に貯留される。薬液
貯留槽１７内の薬液が全て薬液貯留部６２に流入すれ
ば、薬液吐出ノズル１６を下降させる。

【００４７】上記動作の後、薬液貯留槽１７において
は、液面センサ４４が薬液の液位の低下を検出し、エア
オペレート弁４７を開放する。これにより、薬液瓶８内
の加圧された薬液が送液管４６を介して薬液貯留槽１７
内に送液される。薬液貯留槽１７内の薬液の液位が回復
すれば、エアオペレート弁４７は閉止される。

【００４８】続いて、薬液吐出ノズル１６を、吐出口６
５がスピンチャック３に保持されて回転する基板Ｗの回
転中心付近と対向する薬液吐出位置まで移動させる。そ
して、この状態において、エアオペレート弁６７を開放
する。これにより、薬液貯留部６２内に貯留されヒータ
６９により温度制御された薬液が、吐出口６５からスピ
ンチャック３に保持されて回転する基板Ｗの回転中心付
近に吐出される。

【００４９】基板Ｗ表面への薬液の供給が終了すれば、
エアオペレート弁６７を閉止するとともに、薬液吐出ノ
ズル１６を薬液供給位置まで復帰させる。そして、前述
した動作により、薬液貯留槽１７から薬液貯留部６２内
に新たな薬液を供給する。

【００５０】上述した薬液供給装置２によれば、第１実
施形態にかかる薬液供給装置１と同様、薬液吐出ノズル
１６の吐出口６５と薬液供給源としての薬液瓶８とを薬
液送液管により接続する必要がない。このため、薬液送
液管の損傷の問題や薬液送液管を往復移動するために必
要となる動力やスペースの問題を解消することが可能と
なる。

【００５１】上述した第１、第２実施形態に係る薬液供
給装置１、２においては、薬液貯留部３２、６２の側方
に、薬液貯留部３２、６２内に貯留された薬液の温度を
調整するための温度調節手段としてのヒータ３９、６９
が配設されている。このため、基板Ｗに供給される直前
の薬液の温度を調整できることから、最低量の薬液の温
度を調整することにより、基板に供給される薬液の温度
制御を効率的に実行することができる。なお、ヒータ３
９、６９に換えて、ペルチェ素子等を使用してもよい。
また、同様に、第１実施形態にかかる薬液供給装置１の
薬液貯留槽７における温度調節手段としてのヒータ４２
に換えて、ペルチェ素子等を使用することもできる。

【００５２】また、第１、第２実施形態に係る薬液供給
装置１、２においては、基板Ｗに薬液を供給する度に、
薬液貯留槽７、１７から薬液貯留部３２、６２に薬液を
供給しているが、薬液貯留部３２、６２内に貯留された
薬液がある程度消費された後に、薬液貯留槽７、１７か
ら薬液貯留部３２、６２に薬液を供給するようにしても
よい。

【００５３】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、薬液供
給位置において薬液吐出ノズルにおける薬液貯留部に薬
液を供給し、薬液吐出位置において薬液貯留部に貯留さ
れた薬液を基板に向けて吐出する構成であることから、
薬液吐出ノズルの吐出口と薬液供給源とを薬液送液管等
により接続する必要がなくなる。このため、薬液送液管
の往復移動による薬液送液管の損傷の問題や、薬液送液
管を往復移動するために必要となる動力やスペースの問
題を解消することが可能となる。

【００５４】請求項２に記載の発明によれば、薬液吐出
ノズルがスピンチャックに保持されて回転する基板の外
縁より外側に退避した薬液供給位置において薬液供給手
段から供給された薬液を、スピンチャックに保持されて
回転する基板の回転中心付近に供給することにより、基
板の全面に薬液を供給することができる。

【００５５】請求項３に記載の発明によれば、薬液供給
源から送液された薬液を、薬液貯留槽を介して薬液貯留
部に供給することから、薬液を効率的に薬液貯留部に供
給することができる。

【００５６】請求項４に記載の発明によれば、シリンジ
機構を有することから、粘度の高い薬液を使用した場合
であっても、この薬液を確実に薬液貯留部に吸引して吐
出口から吐出することができる。

【００５７】請求項５に記載の発明によれば、吐出口を
開閉するための開閉手段を有することから、吐出口から
の薬液の流出を防止することができるとともに、貯留さ
れた液の変質を防止することができる。

【００５８】請求項６に記載の発明によれば、薬液貯留
槽に当該薬液貯留槽に貯留された薬液の温度を調整する
温度調節手段を配設したことから、基板に供給する薬液
の温度を一定温度に維持することができる。

【００５９】請求項７に記載の発明によれば、薬液吐出
ノズルに薬液貯留部に貯留された薬液の温度を調整する
温度調節手段を配設したことから、基板に供給する薬液
の温度を一定温度に維持することができる。このとき、
基板に供給される直前の薬液の温度を調整できることか
ら、基板に供給される薬液の温度を効率的に調整するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施形態に係る薬液供給装置１
の概要図である。

【図２】薬液供給装置１を適用した基板処理装置の概要
図である。

【図３】吐出口３５下端部の拡大図である。

【図４】吸引口３６下面の拡大図である。

【図５】この発明の第２実施形態に係る薬液供給装置２
の概要図である。

【符号の説明】

１、２薬液供給装置３スピンチャック６薬液吐出ノズル７薬液貯留槽８薬液瓶１１駆動軸１６薬液吐出ノズル１７薬液貯留槽３２薬液貯留部３３アクチュエータ３４ピストン３５吐出口３６吸引口３７、３８エアオペレート弁３９、４２ヒータ４６送液管４７エアオペレート弁６２薬液貯留部６５吐出口６７エアオペレート弁６９ヒータＷ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者今西保夫京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者辻雅夫京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者岩見優樹京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者西村讓一京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者西村和浩京都市伏見区羽束師古川町322番地大日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】薬液を貯留する薬液貯留部と、前記薬液
貯留部に貯留された薬液を基板に向けて吐出するための
吐出口とを有する薬液吐出ノズルと、前記薬液吐出ノズルにおける薬液貯留部に薬液を供給す
るための薬液供給手段と、前記薬液吐出ノズルを、前記薬液供給手段から前記薬液
貯留部に薬液を供給するための薬液供給位置と、前記吐
出口から基板の表面に薬液を吐出するための薬液吐出位
置との間で移動させるノズル移動手段と、を備えたことを特徴とする薬液供給装置。
【請求項２】請求項１に記載の薬液供給装置におい
て、前記薬液吐出位置は、前記吐出口がスピンチャックに保
持されて回転する基板の回転中心付近と対向する位置で
あり、前記薬液供給位置は、前記薬液吐出ノズルがスピ
ンチャックに保持されて回転する基板の外縁より外側に
退避した位置である薬液供給装置。
【請求項３】請求項１または２いずれかに記載の薬液
供給装置において、前記薬液供給手段は、前記薬液供給位置において前記薬
液貯留部に供給するための薬液を貯留する薬液貯留槽
と、薬液供給源から前記薬液貯留槽に薬液を送液する送
液手段とを有する薬液供給装置。
【請求項４】請求項３に記載の薬液供給装置におい
て、前記薬液吐出ノズルは、前記薬液貯留槽に貯留された薬
液を前記薬液貯留部に吸引するとともに、前記薬液貯留
槽から薬液貯留部に吸引された薬液を前記吐出口から吐
出させるシリンジ機構をさらに備えた薬液供給装置。
【請求項５】請求項１乃至４いずれかに記載の薬液供
給装置において、前記吐出口を開閉するための開閉手段を有する薬液供給
装置。
【請求項６】請求項３または４いずれかに記載の薬液
供給装置において、前記薬液貯留槽に当該薬液貯留槽に貯留された薬液の温
度を調整する温度調節手段を配設した薬液供給装置。
【請求項７】請求項１乃至６いずれかに記載の薬液供
給装置において、前記薬液吐出ノズルに前記薬液貯留部に貯留された薬液
の温度を調整する温度調節手段を配設した薬液供給装
置。