JP5371091B2 - モノスルホン酸エステルの製造方法 - Google Patents
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Description
一般式(I):
で表される1,2−エタンジオール誘導体を、塩基及びスズ化合物存在下、炭化水素系溶媒中で、一般式:R2SO2X[式中、R2は、置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基であり、Xはハロゲン原子である。]で表されるスルホン酸ハライドと反応させることを含む、下記一般式(II):
で表されるモノスルホン酸エステルの製造方法。
置換基としては、例えば、C1〜C10炭化水素基(例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、ナフチル、インデニル、トリル、キシリル、ベンジル等)、C1〜C10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、C6〜C12アリールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等)、アミノ基、水酸基、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)又はシリル基などを挙げることができる。この場合、置換基は、置換可能な位置に1個以上導入されていてもよく、好ましくは1個〜4個導入されていてもよい。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
その使用量は、理論当量(モル)以上であればよい。具体的には、1,2−エタンジオール誘導体に対して、1.0〜1.5当量が好ましく、1.0〜1.1当量であることがさらに好ましい。その使用量を1.5当量以下とすることにより、ジスルホン酸エステル誘導体の生成による収率の低下を防ぐことができる。一方、使用量を1.0当量以上とすることにより、未反応のジオールの残存による収率の低下を防ぐことができる。
当該塩基の添加方法は限定されない。例えば、反応時に反応に必要な全量が存在していても良いし、反応中に一括で添加することもできる。本発明では、塩基を反応中に何回かに分けて添加すること(分割添加)がより好ましい。副生成物であるジスルホン酸エステルの生成を抑制することができるからである。また、反応開始時点の反応液の温度から、±2℃の範囲内に反応を制御するように、塩基を滴下することがさらに好ましい。
炭化水素系溶媒の使用量は、1,2−エタンジオール誘導体に対して5〜50倍量(質量)が好ましく、7〜20倍量(質量)であることがより好ましい。その使用量を50倍量(質量)以下とすることにより、後処理での濃縮に時間を要するという欠点を防ぐことができる。一方、使用量を5倍量(質量)以上とすることにより、反応により生成するスルホン酸塩が析出し、攪拌ができなくなるという欠点を防ぐことができる。
〔分析条件〕
モノスルホン酸エステルの高速液体クロマトグラフィーによる純度分析
試料調製方法 :試料25mgを溶離液25mLに溶解
装置 :カラムオーブン 日本分光社製 865−CO
UV日本分光社製 870−UV
ポンプ 日本分光社製 880−PU
インテグレーター 島津製作所社製 C−R3A
カラム :ODS−2(GLサイエンス社製)
キャリヤー :アセトニトリル:純水=50/50
カラム温度 :40℃
流速 :1mL/min
波長 :230nm
[実施例1]
攪拌機及び温度計を付した50mLの三口フラスコに、R−1−(3−クロロフェニル)−1,2−エタンジオール43.7g(0.25mol)、塩化p−トルエンスルホニル50.7g(0.27mol)、触媒としてジブチルスズオキシド1.3g(0.01mol)をトルエン345mLに溶解した。反応液を20℃に調整し、トリエチルアミン26.9g(0.27mol)を内温19〜21℃(20±1℃)の範囲で1時間かけて滴下した。その後、20℃で2時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析し、転化率94%、選択率94%、光学純度99%ee以上でR−2−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル4−トルエンスルホネートを取得した。
[実施例2]
反応温度(アミン滴下前の反応液の温度)を40℃とした以外は、実施例1と同様の方法で行った。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析し、転化率97%、選択率99%、光学純度99%ee以上でモノトシル体を取得した。
[実施例3]
反応温度を60℃(アミン滴下前の反応液の温度)とした以外は、実施例1と同様の方法で行った。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析し、転化率94%、選択率99%、光学純度99%ee以上でモノトシル体を取得した。
[比較例1]
触媒をジメチルスズジクロライドとした以外は、実施例1と同様の方法で行った。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析し、転化率76%、選択率99%、光学純度99%ee以上でモノトシル体を取得した。
攪拌機及び温度計を付した50mLの三口フラスコに、R−1−(3−クロロフェニル)−1,2−エタンジオール43.7g(0.25mol)、塩化p−トルエンスルホニル50.7g(0.27mol)、トリエチルアミン26.9g(0.27mol)をトルエン345mLに溶解した。反応液を20℃に調整し、ジブチルスズオキシド1.3g(0.01mol)を添加した。反応温度は発熱により25〜29℃となった。その後、20℃で2時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、転化率86%、選択率90%、光学純度99%ee以上でモノトシル体を取得した。
[比較例3]
攪拌機及び温度計を付した50mLの三口フラスコに、R−1−(3−クロロフェニル)−1,2−エタンジオール43.7g(0.25mol)、塩化p−トルエンスルホニル50.7g(0.27mol)をトルエン345mLに溶解した。反応液を20℃に調整し、トリエチルアミン26.9g(0.27mol)を内温19〜21℃の範囲で1時間かけて滴下した。その後、20℃で2時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析し、転化率26%、選択率90%、光学純度99%ee以上でモノトシル体を取得した。
Claims (3)
- 一般式(I):
[式中、R1は置換基を有していてもよいアリール基である。]
で表される1,2−エタンジオール誘導体を、スズ化合物存在下、炭化水素系溶媒中で、40〜80℃の温度で、一般式:R2SO2X[式中、R2は、置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基であり、Xはハロゲン原子である。]で表されるスルホン酸ハライドと反応させ、当該炭化水素系溶媒にトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン又はN−メチルモルホリンの少なくとも1種の塩基を分割添加する、
下記一般式(II):
[式中、R1及びR2は前記と同じである。]
で表されるモノスルホン酸エステルの製造方法。
- スズ化合物が、ジブチルスズオキシド、ブチルスズトリクロライド、ジブチルスズジクロライド、ジフェニルスズジクロライド及びトリブチルスズクロライドからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1記載の製造方法。
- 炭化水素系溶媒が、ノルマルヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ノルマルヘプタン、トルエン及びキシレンからなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項1又は2記載の製造方法。
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