JP2000247988A

JP2000247988A - 光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法

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Publication number: JP2000247988A
Application number: JP11053003A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Sugiya; 杉矢　　正; Hiroyuki Nohira; 博之野平
Original assignee: Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Current assignee: Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Priority date: 1999-03-01
Filing date: 1999-03-01
Publication date: 2000-09-12
Anticipated expiration: 2019-03-01
Also published as: US6121494A; JP3979743B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】光学純度の高い光学活性なビニルホスフィン
オキシドを工業的に有利な方法で容易に得る。【解決手段】一般式１（Ｒ^１、Ｒ^２はＲ^１、Ｒ^２は互いに異なり、Ｃ１〜１８
の直鎖または分岐状のアルキル基、置換もしくは無置換
のフェニル基を示す。Ｐ＊は不斉リン原子を示す。）の
光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸と四酢酸鉛と
を反応させて一般式２（Ｒ^１、Ｒ^２及びＰ＊は前記と同義である。）の光学活
性なビニルホスフィンオキシドを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性な化合物
を製造する場合の原料として有用な、高い光学活性を有
するビニルホスフィンオキシドの新規な製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、上市されている医薬品に占める光
学活性な医薬品の割合は年々増加する傾向にあり、最近
５年間では、光学活性な医薬品の品目は、実に３９％に
も達する。また、光学活性体に求められるものは、医薬
品に限らず、農薬、香料、甘味量、調味料、更には、強
誘電性液晶、高速液体クロマトグラフィーの充填剤など
の機能性材料の分野にまで展開されている。

【０００３】ビニル結合は、反応性の高い官能基である
ことから不斉中心をリン原子上に持つ新規な光学活性な
化合物を製造する上で、ビルディングブロックとして特
に有用であることが知られている（K.M.Pietrusiewicz,
M. Zablocka, and W. Wiesniewski, Phosphorus, Sulf
ur, and Silicon, 1990, 49/50, 263-266)。これまでに
知られている光学活性なビニルホスフィンオキシドの製
造方法としては、例えば、下記反応式：

【０００４】

【化３】

【０００５】で示されるように、フェニルジクロロホス
ファンにトリエチルアミンの存在下でブタノールを反応
させ、さらにビニルマグネシウムブロマイドでグリニャ
ール反応させる。次いで、生成物と（−）−メンチルブ
ロモ酢酸エステルを反応させた後、ベンゼンで再結晶化
させ光学活性体を分別結晶させ光学活性な（−）−（メ
ントキシカルボニルメチル）フェニルビニルホスフィン
オキシドを得、更に含水ジメチルスルフォキシド中で塩
化リチウム存在下１８０℃で２時間還流させて、目的と
する（−）−メチルフェニルビニルホスフィンオキシド
を得る方法｛(Ryszard Bodalski, Ewa rutkowska-Olma,
Tetrahedron, 36, 2353-2355)、(K. Michal Pietrusie
wicz, Maria Zablocka, and Jaroslaw Monkiewicz, J.
Org. Chem., 1984, 49, 1522-1526)｝等が提案されてい
る。

【０００６】また、光学純度の極めて高い光学活性なビ
ニルホスフィンオキシド類の製造方法として、特開昭６
４−７５４９５号公報には、下記一般式（３）：

【０００７】

【化４】

【０００８】（式中、Ａｒはアリール基、Ｒ¹及びＲ
²は、相異なる炭素数１〜６の低級炭化水素基であり、
ビニル基の例示あり。）で表されるホスフィンオキシド
類のラセミ体と２,２−ジヒドロキシ−１,１−ビナフチ
ルと有機溶媒中で接触させ、次に生成した包接錯体を分
離後、分割する製造方法が提案されている。また本発明
者等は特願平１０−２９８０３号発明において、次式
（４）：

【０００９】

【化５】

【００１０】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜１８の直鎖
または分岐状のアルキル基、置換もしくは無置換のフェ
ニル基を示す。Ａはアルキレン基を示す。Ｒ¹、Ｒ²はお
互いに異なる基を示す。）で表されるラセミ体のホスフ
ィンオキシドカルボン酸に光学活性な１−フェニルエチ
ルアミンを反応させ、生成したジアステレオマー塩を溶
媒に対する溶解度の差を利用して分離し、次いで酸を分
解して光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を製造
することを提案した。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、光学活
性なビニルホスフィンオキシドの新規な製造する方法に
ついて鋭意研究を重ねた結果、本発明者らが先に提案し
た上記特願平１０−２９８０３号記載の光学活性なホス
フィンオキシドカルボン酸を反応原料として用いたとこ
ろ、不斉構造を維持したまま全くラセミ化することな
く、光学純度の高いビニルホスフィンオキシドを得るこ
とができることを知見し本発明を完成させるに至った。

【００１２】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式（１）：

【００１３】

【化６】

【００１４】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜１８の直鎖
または分岐状のアルキル基、置換もしくは無置換のフェ
ニル基を示す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに異なる基を示し、Ｐ*
は不斉なリン原子を示す。）で表される光学活性なホス
フィンオキシドカルボン酸と四酢酸鉛とを反応させるこ
とを特徴とする下記一般式（２）：

【００１５】

【化７】

【００１６】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＰ*は、前記と同義
である。）で示される光学活性なビニルホスフィンオキ
シドの製造方法を提供するものである。また、上記の反
応は、酢酸銅及びピリジン、トリエチルアミン等の塩基
の存在下で行うことが好ましい。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。（光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸）本発明の
反応原料となる光学活性なホスフィンオキシドカルボン
酸は、上記一般式（１）で表されるものである。ここで
Ｒ¹、Ｒ²は、上記に定義したとおりであるが、具体的な
アルキル基の種類としては、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ
−オクチル、イソオクチル基、ｎ−ドデシル基、イソド
デシル基等が挙げられる。

【００１８】前記一般式（１）で表わされる光学活性な
ホスフィンオキシドカルボン酸の具体的な化合物として
は、例えば、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,
1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシ
ド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド、(−)−
(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)( 1,1,-ジメチルエチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カ
ルボキシエチル)( 1,1,-ジメチルエチル)メチル]ホスフ
ィンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)
(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチル]ホスフィンオキ
シド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-
テトラメチルブチル)エチル]ホスフィンオキシド、(−)
−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチ
ルブチル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシ
ド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィ
ンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(o-
メトキシフェニル）フェニル]ホスフィンオキシド、
(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル) (o-メトキシフ
ェニル）フェニル]ホスフィンオキシド、(−)−(Ｓ)−
[(２−カルボキシエチル)(o-エチルフェニル）フェニ
ル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキ
シエチル)(o-エチルフェニル）フェニル]ホスフィンオ
キシドなどが挙げられる。

【００１９】これら光学活性なホスフィンオキシドカル
ボン酸の製造方法は、特に、限定されないが、その一例
を示すと、先に本発明者らが提案した特願平１０−２９
８０３号記載の発明のように、下記一般式（５）：

【００２０】

【化８】

【００２１】（式中、Ｒ¹及びＲ²は前記と同義）で表さ
れるラセミ混合物を、光学活性な１−フェニルエチルア
ミンなどのアミンを用いて、ジアステレオマー塩を形成
させ、溶媒への溶解度差を利用して、光学活性体に分割
する方法が好適に用いられる。具体的には、前記一般式
（４）で示されるホスフィンオキシドカルボン酸のラセ
ミ体混合物に、光学分割剤である光学活性な１−フェニ
ルエチルアミンを、ホスフィンオキシドカルボン酸に対
して０．７〜１．０モルの割合で添加すればよい。

【００２２】反応溶媒は、アセトン、メチルエチルケト
ン、ＭＩＢＫ等のケトン類が適しており、特にアセト
ン、メチルエチルケトンが望ましい。該溶媒の使用量
は、溶解度によって異なるが、一般に溶質の５〜１０倍
量（重量比）が適当である。両者の反応は、中和反応
であるので、特別な反応条件を必要としない。混合する
方法も、任意であり、直接溶媒中に混合しても、それぞ
れの溶液を混合しても差し支えない。反応温度は、室温
ないしは加熱した場合は溶媒の沸点以下の温度において
均一な溶液とし、静置して難溶性なジアステレオマー塩
として析出させる。静置させる温度は、室温もしくは冷
蔵庫または冷凍庫などで冷却した温度でも構わない。こ
のとき、析出させようとする塩の種結晶を接種すること
も通常行われる。

【００２３】析出した塩は、濾過または遠心分離により
溶媒から分離し、必要に応じて再結晶・精製する。得ら
れた塩は、塩酸、硫酸などの強酸で処理して塩を分解さ
せ、ホスフィンオキシドカルボン酸が可溶な水と混合し
ない溶媒で抽出することにより光学活性なホスフィンオ
キシドカルボン酸が得られる。また必要に応じて再結精
製して用いることができる

【００２４】（四酢酸鉛）本発明の製造方法に使用する
もう一方の反応原料である四酢酸鉛は、工業的に入手で
きるものであれば特に限定はなく、含水物であっても無
水物であってもよい。本発明の前記一般式（２）で表わ
される光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法
は、前記一般式（１）で表わされる光学活性なホスフィ
ンオキシドカルボン酸を溶媒中で四酢酸鉛で酸化反応す
るもので、反応原料の前記一般式（１）で表わされる光
学活性なホスフィンオキシドカルボン酸の（＋）体、又
は（−）体を選択して、四酢酸鉛と反応させることによ
り目的とする前記一般式（２）で表される光学活性なビ
ニルホスフィンオキシドを所望の（＋）体、又は（−）
体を得るところに特徴がある。

【００２５】本発明の製造方法で得られる具体的な化合
物としては、例えば、(−)−［(1,1,3,3-テトラメチル
ブチル)メチルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−
［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフ
ィンオキシド、(−)−［( 1,1,-ジメチルエチル)メチル
ビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［( 1,1,-ジメチ
ルエチル)メチルビニル］ホスフィンオキシド、(−)−
［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチルビニル］ホスフ
ィンオキシド、(＋)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)
エチルビニル］ホスフィンオキシド、(−)−［(o-メト
キシフェニル）フェニルビニル］ホスフィンオキシド、
(＋)−［(o-メトキシフェニル）フェニルビニル］ホス
フィンオキシド、(−)−［(o-エチルフェニル）フェニ
ルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［(o-エチルフ
ェニル）フェニルビニル］ホスフィンオキシドなどが挙
げられる。

【００２６】四酢酸鉛の使用量は、ホスフィンオキシド
カルボン酸に対して、０．１〜２．０倍モル、好ましく
は、０．５〜１．５倍モルである。また、酢酸銅を、四
酢酸鉛に対して、０．０１〜１．０倍モル、好ましくは
０．１〜０．５倍モル使用する。ホスフィンオキシドカ
ルボン酸が、四酢酸鉛により酸化、脱炭酸されて生成し
たラジカルイオンから、水素カチオンを引き抜いて不飽
和エチレンを生成させるのに、酢酸銅が手助けとなる。
なお、酢酸銅は、無水物であっても含水物であってもよ
い。

【００２７】さらに、本発明の製造方法において、所望
により触媒としてピリジン、トリエチルアミンなどの塩
基を用いてもよい。この場合、使用量は、ごく微量で、
例えば、四酢酸鉛に対して、０．００１〜０．５倍モ
ル、好ましくは、０．０５〜０．２倍モルである。

【００２８】反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素や、クロロベンゼン、ｏ
−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジク
ロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、ｏ−
クロロトルエン、ｐ−クロロトルエン、ブロモベンゼ
ン、ｏ−ジブロモベンゼン、ｍ−ジブロモベンゼン、ｐ
−ジブロモベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素
や、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水
素や、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族
炭化水素などが好ましい。

【００２９】なお、原料の四酢酸鉛は、光により褐色に
着色するので、光を遮断した容器や、装置を用いるのが
好まく、また、空気により酸化するので、窒素などの不
活性なガスを一定量通気させながら反応させことが好ま
しい。反応温度は、用いる溶媒の沸点により異なるが、
溶媒の沸点以下の温度で、通常２０〜１５０℃、好まし
くは、５０〜１００℃であり、反応時間は、通常０．５
〜２４時間、好ましくは１〜５時間である。かくするこ
とにより得られる前記一般式（２）で表わされる光学活
性なビニルホスフィンオキシドは光学純度が高く、光学
活性な化合物の反応原料として有用である。

【００３０】

【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が本発明はこれらに限定されるものではない。（参考例１） [(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシドラセミ混合物の合成攪拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた３
００ｍｌの四つ口フラスコを十分に窒素置換し、（1、
1、3、3−テトラメチルブチル）メチルホスフィン１
６．０ｇ（０．１モル）、濃塩酸１５．６ｇ（０．１５
モル）を仕込み、２０〜２５℃に冷却して保ちながらア
クリル酸７．２ｇ（０．１モル）を滴下した。滴下後、
４０℃で２時間熟成し、エバポレーターで濃縮して、過
剰の塩酸を除去した。純水１００ｍｌを添加し、８０℃
まで昇温し、３５％過酸化水素水１０．７ｇ（０．１１
モル）を温度を保ちながら徐々に滴下した。さらに、同
温度で３時間熟成させた。濃縮することにより得られた
粘性固体をアセトンで再結晶・精製することにより、融
点１００〜１０３℃の白色結晶１５．８ｇ（収率６３．
８％）を得た。分析の結果、[(２−カルボキシエチル)
(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキ
シドのラセミ混合物であった。

【００３１】¹H-NMR(ppm,CDCl₃)： 1.06(s,9H,CH₃), 1.
35(d,6H,J_PCCH=17.6Hz,CH₃), 1.50(d,2H, C
H₂,J_PCCH=8.6Hz), 1.59(d,3H,P-CH₃,J_PCH=11.7Hz), 1.9
2-2.27(m,2H,P- CH₂-), 2.57-2.80(m,2H,-CH₂
-COO), 11.81(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.)： m/z = 249 [M+H⁺] FT-IR(KBr,cm^-1)： 2953, 2918, 1735, 1422, 1233, 11
71, 1112, 964, 903 UV-VIS(MeOH)： ε_max = 140.1、 λ_max=218.1nm

【００３２】（光学分割その１）５０ｍｌのフラスコ
に、上記の参考例１で得られた[(２−カルボキシエチ
ル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオ
キシドのラセミ混合物３．０３ｇ（１２．２ｍモル）、
アセトン４．５ｍｌを入れ、(＋)−(Ｒ)−１−フェニル
エチルアミン１．４８ｇ（１２．２ｍモル）を添加し
た。わずかに発熱して完全に溶解した。０℃で一昼夜静
置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥させ
て、０．８３ｇの白色結晶を得た。融点１３５−１３８
℃、旋光度[α]²⁵ _D＝＋３．４２(c 1.072 CH₃OH)であっ
た。塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出することに
より０．１１ｇの白色結晶を得た。融点１４５−１４６
℃、旋光度[α]²⁵ _D＝−８．１７（ｃ＝１．０４、メタ
ノール）で、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,
1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド
であった。

【００３３】¹H-NMR(ppm,CDCl₃)：1.06(s,9H,CH₃), 1.3
3(d,6H,J_PCCH=17.0Hz,CH₃), 1.50(d,2H, CH₂,
J_PCCH=8.4Hz), 1.49(d,3H,P-CH₃,J_PCH=11.7Hz), 1.78-
2.16(m,2H,P- CH₂-), 2.46-2.71(m,2H,-CH₂-C
OO), 10.34(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.)：m/z=249[M+H⁺]

【００３４】（光学分割その２）５０ｍｌのフラスコ
に、上記の参考例１で得られた[(２−カルボキシエチ
ル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオ
キシドのラセミ混合物３．０５ｇ（１２．３ｍモル）、
アセトン４．５ｍｌを入れ、(−)−(Ｓ)−１−フェニル
エチルアミン１．４８ｇ（１２．２ｍモル）を添加し、
０℃で一昼夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別
し、真空乾燥させて、０．３２ｇの白色結晶を得た。融
点１２６−１３１℃であった。塩酸で遊離させ、ジクロ
ロメタンで抽出することにより、０．１８ｇの白色結晶
を得た。融点は１４４−１４６℃、旋光度[α]²⁵ _D＝＋
６．３０（ｃ＝０．２３８、メタノール）で、(＋)−
(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチル
ブチル)メチル]ホスフィンオキシドであった。

【００３５】¹H-NMR(ppm,CDCl₃)：1.06(s,9H,CH₃), 1.3
3(d,6H,J_PCCH=17.0Hz,CH₃), 1.50(d,2H,C H₂,
J_PCCH=8.4Hz), 1.49(d,3H,P-CH₃,J_PCH=11.7Hz), 1.83-
2.22(m,2H,P-C H₂-), 2.53-2.76(m,2H,-CH₂-C
OO), 10.72(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.)：m/z=249[M+H⁺]

【００３６】（実施例１） (＋)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］
ホスフィンオキシドの合成攪拌機、温度計、コンデンサーを備えた３００ｍｌの四
つ口フラスコに、光学分割その１により得られた(−)−
(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチル
ブチル)メチル]ホスフィンオキシド５．０３ｇ（２０．
３ｍモル）、無水酢酸銅０．６５ｇ（３．６ｍモル）、
ピリジン０．１３ｇ（１．５ｍモル）、クロロベンゼン
３０ｍｌを添加して３０分間、室温で攪拌溶解させた。
さらに、窒素気流下で、四酢酸鉛８．９ｇ（２０．１ｍ
モル）を添加し、冷暗所で１時間攪拌溶解させた。窒素
気流下で、８０℃に加熱し、７時間３０分反応させた。
冷却後、エバポレーターで溶媒を濃縮し、クロロホルム
と水を添加し、クロロホルム層を分液し、無水硫酸ナト
リウムで脱水後、エバポレーターで濃縮することによ
り、緑色液体４．６４ｇを得た。粗生成物を減圧蒸留
し、８０〜８５℃／３〜４ｍｍＨｇの留分を分取するこ
とにより、無色透明液体１．２０ｇを得た。ガスクロマ
トグラフィーで分析したところ、純度８５．５％で、蒸
留収率は、２５．０％であった。光学活性カラムＣＨＩ
ＲＡＬＣＥＬＯＤ−ＲＨ（ダイセル化学工業製）、溶
離液にアセトニトリル：水＝４：１、０．５ｍｌ／分、
ＵＶ検出器（２１５ｎｍ）、温度３０℃で、光学純度を
測定したところ、光学純度は、９７．０％ e.e.であっ
た。また、旋光度は、[α]²⁴ _D ＝＋２６．３７（ｃ＝
１．８６、ＣＨＣｌ₃）であった。

【００３７】（実施例２） (−)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］
ホスフィンオキシドの合成光学分割その２により得られた(＋)−(Ｒ)−[(２−カル
ボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホ
スフィンオキシドを用いて、実施例１と同様に反応させ
た。攪拌機、温度計、コンデンサーを備えた３００ｍｌ
の四つ口フラスコに、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエ
チル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィン
オキシド７．３０ｇ（２９．４ｍモル）、無水酢酸銅
０．７４ｇ（４．０ｍモル）、ピリジン０．１５ｇ
（１．９ｍモル）、クロロベンゼン３０ｍｌを添加して
３０分間、室温で攪拌溶解させた。さらに、窒素気流下
で、四酢酸鉛１３．２５ｇ（２９．９ｍモル）を添加
し、冷暗所で１時間攪拌溶解させた。窒素気流下で、８
０℃に加熱し、３時間反応させた。冷却後、クロロホル
ムと水を添加し、クロロホルム層を分液し、無水硫酸ナ
トリウムで脱水後、エバポレーターで濃縮することによ
り、緑色液体７．７３ｇを得た。粗生成物を減圧蒸留
し、６８〜７１℃／３ｍｍＨｇの留分を分取することに
より、無色透明液体２．１２ｇを得た。ガスクロマトグ
ラフィーで分析したところ、純度９１．５％で、蒸留収
率は、３２．６％であった。光学活性カラムＣＨＩＲＡ
ＬＣＥＬＯＤ−ＲＨ（ダイセル化学工業製）、溶離液
にアセトニトリル：水＝４：１、０．５ｍｌ／分、ＵＶ
検出器（２１５ｎｍ）、温度３０℃で、光学純度を測定
したところ、光学純度は、９９．０％ e.e.であった。
また、旋光度は、[α]²³ _D ＝ −３０．０７（ｃ＝０．
７９８、ＣＨＣｌ₃）であった。

【００３８】（比較例）［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフ
ィンオキシドラセミ混合物の合成攪拌機、温度計、コンデンサーを備えた３００ｍｌの四
つ口フラスコに、前記参考例１で得たラセミ混合物であ
る[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド２４．８ｇ（１００．０
ｍモル）、無水酢酸銅４５５ｍｇ（２．５ｍモル）、ピ
リジン５４．５ｍｇ（６．６ｍモル）、クロロベンゼン
３０ｍｌを添加して３０分間、攪拌溶解させた。さら
に、窒素気流下で、四酢酸鉛２１．５ｇ（４６．５ｍモ
ル）を添加し、冷暗所で１時間攪拌溶解させた。窒素気
流下で、８５℃に加熱し、１時間３０分反応させた。冷
却後、トルエン２００ｍｌを添加し希釈後、容量の純水
で洗浄し、さらに飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回洗
浄した。有機溶媒層を分液し、無水硫酸ナトリウムで脱
水後エバポレーターで濃縮することにより、黄緑色液体
１２．２ｇを得た。

【００３９】粗生成物を減圧蒸留し、１０９〜１１２℃
／４ｍｍＨｇの留分を分取することにより、無色透明液
体６．４ｇを得た。ガスクロマトグラフィーで分析した
ところ、純度９３．４％で、蒸留収率は、３１．６％で
あった。また、得られた黄緑色液体を¹Ｈ−ＮＭＲ、³¹
Ｐ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、ＧＣ−ＭＳ及びＵＶ分析によ
り同定分析したところ、(1,1,3,3-テトラメチルブチル)
ビニルホスフィンオキシドのラセミ混合物であることが
確認された。

【００４０】＜同定データ＞¹ H-NMR(δ、CDCl₃)：1.052 ( s, 9H), 1.305 (d, J = 1
6.31Hz, J = 2.37Hz,6H), 1.451 (d, J = 11.
17 Hz, 3H), 1.564 (d, J = 4.78 Hz, 2H), 6.147-6.33
9 (m, 3H)³¹ P-NMR (δ、CDCl₃, Internal Standard; H₃PO₄)：46.
95(s) FT-IR (液膜、cm^-1)：2953.5 (C-H伸縮), 1474.3, 138
9.5, 1366.3 (C-H面内変角), 1180.2 (P=O伸縮), 989.
3, 882.3 (C-H面外変角) GC-MASS(Pos.)：m/z = 202 [M⁺] UV-VIS(MeOH)：ε_max = 2300.6、 λ_max=199.2nm

【００４１】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、光学純度の
高い光学活性なビニルホスフィンオキシドを工業的に有
利な方法で容易に得ることができる。また、本発明で得
られる光学活性なビニルホスフィンオキシドは、光学純
度が高いものが要求される化合物の反応原料として利用
価値は極めて大である。

フロントページの続きＦターム(参考） 4H006 AA02 AC26 AC81 BA05 BA32 BA51 BA69 4H039 CA21 CG40 CG90 4H050 AA02 AC20 BA05 BA32 BA51 BA69

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）：【化１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜１８の直鎖または分岐状
のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基を示
す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに異なる基を示し、Ｐ*は不斉リン
原子を示す。）で表される光学活性なホスフィンオキシ
ドカルボン酸と四酢酸鉛とを反応させることを特徴とす
る下記一般式（２）：【化２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＰ*は、前記と同義である。）で
示される光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方
法。
【請求項２】反応を、酢酸銅の存在下に行う請求項１
記載の光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方
法。
【請求項３】反応を、塩基の存在下で行う請求項１又
は２記載の光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造
方法。
【請求項４】反応を、ピリジン、トリエチルアミンか
ら選ばれる塩基の存在下で行う請求項１乃至３のいずれ
かに記載の光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造
方法。