JP5360208B2 - 高純度含フッ素エーテルの製造方法 - Google Patents
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Description
RfCH2OCF2CHXY (3)
(式中、Rfは含フッ素アルキル基;XおよびYは同じかまたは異なり、いずれも水素原子、塩素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基)で示される含フッ素アルキルエーテルが例示できる。
RfCH2OH (1)
(式中、Rfは含フッ素アルキル基)で示される化合物が例示できる。
CF2=CXY (2)
(式中、XおよびYは同じかまたは異なり、いずれも水素原子、塩素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基)で示される化合物が例示できる。
RfCH2OH (1)
(式中、Rfは含フッ素アルキル基)で示される含フッ素アルキルアルコールが、フッ素化オレフィンへの求核付加反応性が良好な点から好ましい。
CF2=CXY (2)
(式中、XおよびYは同じかまたは異なり、いずれも水素原子、塩素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基)で示される化合物であることが、反応性が良好な点から好ましい。
RfCH2OCF2CHXY (3)
(式中、Rf、XおよびYは前記と同じ)で示される含フッ素アルキルエーテルである。
(1)組成分析
NMR法:BRUKER社製のAC−300を使用。
19F−NMR:
測定条件:282MHz(トリクロロフルオロメタン=0ppm)
1H−NMR:
測定条件:300MHz(テトラメチルシラン=0ppm)
(2)濃度(GC%)分析
ゲルクロマトグラフィ(GC)法:SHIMADZU社製のGC−17Aを使用。カラム:DB624(Length60、I.D 0.32、Film1.8μm)。測定限界:0.001%
(3)水分含有量(質量%またはppm)
カールフィッシャー法:京都電子工業(株)製のMKC−501を使用。陰極液:三菱化学(株)製のアクアミクロンCXU、陽極液:三菱化学(株)製のアクアミクロンAKX
ステンレススチール製の6Lオートクレーブの系内を真空状態にし、水酸化カリウム401g(7.15mol。含フッ素アルキルアルコール1モルに対する比率として0.55モル量)、水(1604mL)、含フッ素アルキルアルコールとして2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール(沸点109℃、比重1.4):
HCF2CF2CH2OH
(1716g、13mol)を注入した後、室温で真空−窒素置換を20回行った。系内を真空にした後、テトラフルオロエチレンを0.1MPaとなるように満たし、反応系内が85℃になるよう加熱した。内温が85℃に達してから、反応圧が0.5〜0.8MPaを保つようにテトラフルオロエチレンを少しずつ加えていった。系内温は75〜95℃を保つように調節した。
HCF2CF2CH2OCF2CF2H
(沸点92℃、比重1.52)であり、GCで分析した下層の含フッ素エーテル生成液の組成は表1に示すとおりであった。
テトラフルオロエチレンの添加量を780g(7.8mol)に変更したほかは合成例1と同様にして含フッ素エーテルを合成した。得られた含フッ素エーテル生成液の組成を表1に示す。
テトラフルオロエチレンの添加量を910g(9.1mol)に変更したほかは合成例1と同様にして含フッ素エーテルを合成した。得られた含フッ素エーテル生成液の組成を表1に示す。
テトラフルオロエチレンの添加量を1040g(10.4mol)に変更したほかは合成例1と同様にして含フッ素エーテルを合成した。得られた含フッ素エーテル生成液の組成を表1に示す。
テトラフルオロエチレンの添加量を1170g(11.7mol)に変更したほかは合成例1と同様にして含フッ素エーテルを合成した。得られた含フッ素エーテル生成液の組成を表1に示す。
合成例1〜5でそれぞれ得た含フッ素エーテル生成液1500gを含フッ素エーテル粗液とし、ミキサー−セトラー型抽出装置を用いてつぎの条件で向流抽出処理を行った。
ミキサー−セトラー型抽出装置:(塔高3300mm、内径200mm)
段数:24段
撹拌速度:285rpm
重液供給速度:160kg/hr
軽液:純水
軽液供給速度:100kg/hr
処理温度:27℃
処理時間は0.01時間であり、各組成の含フッ素エーテル粗液に対する使用水量は表2に示す結果となった。
合成例1においてテトラフルオロエチレンに代えてヘキサフルオロプロピレンを用いたほかは同様にして反応させて、含フッ素エーテル:
HCF2CF2CH2OCF2CFHCF3
(沸点108℃、比重1.61)を合成した。
合成例6で得た含フッ素エーテル生成液1500gを含フッ素エーテル粗液とし、ミキサー−セトラー型抽出装置を用いてつぎの条件で向流抽出処理を行った。
ミキサー−セトラー型抽出装置:(塔高3300mm、内径200mm)
段数:24段
撹拌速度:285rpm
重液供給速度:160kg/hr
軽液:純水
軽液供給速度:100kg/hr
処理温度:27℃
処理時間は0.01時間であり、使用水量は0.62g/g含フッ素エーテルであった。得られた含フッ素エーテル中の含フッ素アルキルアルコール濃度は0.001GC%以下であり、含フッ素エーテル濃度は99.8GC%、水分含有量は960ppmであった。
合成例で得た含フッ素エーテル粗液は、含フッ素アルキルアルコール希薄領域(濃度8.839GC%)で分離できない気液平衡関係であり、共沸組成(含フッ素エーテル/含フッ素アルキルアルコール=97/3モル%)を形成した。念のため、バッチ蒸留にて分離の確認を行ったが、蒸留による単離は困難であった。
100mlの三口フラスコに、含フッ素エーテル:
HCF2CF2CH2OCF2CF2H
39.0gと、含フッ素アルキルアルコール:
HCF2CF2CH2OH
2.53gと、水1.33gを加え、試験用の含フッ素エーテル粗液42.85g(組成比:含フッ素エーテル91GC%/含フッ素アルキルアルコール5.9GC%/水3.1質量%)を調製した。
合成例で得られた含フッ素エーテル粗液1500g(987mL)を、同体積の水987mLを用いる洗浄と分液操作を1回の水洗処理とし、この水洗処理を含フッ素アルキルアルコールの濃度が0.001GC%以下になるまで繰り返した(所要時間6時間)。その結果を表3に示す。
原料の含フッ素アルキルアルコールをCF3CF2CH2OH、KOHをNaOHに変更したほかは合成例1と同様の手法で含フッ素エーテルを合成した。
原料の含フッ素アルキルアルコールをCF3CH2OH、KOHをNaOHに変更したほかは合成例1と同様の手法で含フッ素エーテルを合成した。
実施例7においてテトラフルオロエチレンに代えてヘキサフルオロプロピレンを用いたほかは同様にして反応させて、含フッ素エーテルCF3CF2CH2OCF2CFHCF3(沸点87℃)を合成した。
原料の含フッ素アルキルアルコールをCF3CF2CH2OHに変更し、またテトラフルオロエチレンをクロロトリフルオロエチレンに変更したほかは合成例1と同様の手法で含フッ素エーテルを合成した。
Claims (6)
- 含フッ素アルキルアルコールを不純物として含む含フッ素エーテル粗液を、水を用いる向流抽出に供する高純度含フッ素エーテルの製造方法であって、
含フッ素エーテル粗液が、塩基性化合物の存在下に含フッ素アルキルアルコールとフッ素化オレフィンを反応させて得られる反応粗液である
ことを特徴とする製造方法。 - 含フッ素エーテル粗液中の含フッ素アルキルアルコール濃度が0.2〜20GC%であり、得られる高純度含フッ素エーテル中の含フッ素アルキルアルコール濃度が0.001GC%以下である請求項1記載の製造方法。
- 含フッ素エーテル粗液中の含フッ素アルキルアルコール濃度が1〜20GC%であり、得られる高純度含フッ素エーテル中の含フッ素アルキルアルコール濃度が0.001GC%以下である請求項1または2記載の製造方法。
- 含フッ素アルキルアルコールが、式(1):
RfCH2OH (1)
(式中、Rfは含フッ素アルキル基)で示される化合物であり、フッ素化オレフィンが、式(2):
CF2=CXY (2)
(式中、XおよびYは同じかまたは異なり、いずれも水素原子、塩素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基)で示される化合物であり、含フッ素エーテルが、式(3):
RfCH2OCF2CHXY (3)
(式中、Rfは含フッ素アルキル基;XおよびYは同じかまたは異なり、いずれも水素原子、塩素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基)で示される含フッ素アルキルエーテルである請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法で得られた含フッ素エーテルを蒸留する工程を含む高純度含フッ素エーテルの製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法で得られた含フッ素エーテルの水分含有量を50ppm以下に調整する工程を含む高純度含フッ素エーテルの製造方法。
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