JP5352315B2 - 表面検査装置及び表面検査方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施の形態に係る表面検査装置の全体構成を示す透視側面図である。
第1の実施の形態の変形例を図2を用いて説明する。図中、図1に示した部材と同等の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。この変形例の実施の形態は、吸気口112を、その複数の開口部がウエハチャック7の外周部の下方に位置するよう配置し、ウエハチャック7の外周部の空気を吸気口112により吸引することによって、乱流を抑制した場合のものである。
本発明の第2の実施の形態を図3を用いて説明する。図中、図1に示した部材と同等の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。本実施の形態は、第1の実施の形態における吸気口12に換えて、ウエハチャック7の外周部を囲む位置に、その外周と対向するように設けられた開口部を有する気流ガイド212を備え、ウエハチャック7の外周部の空気を吸気口112により吸引することによって、乱流を抑制した場合のものである。
本発明の第3の実施の形態を図4及び図5を用いて説明する。図中、図1に示した部材と同等の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。本実施の形態は、第1の実施の形態における吸気口12及び排気ファンユニット11に換えて、ウエハチャック7の外周部に複数のフィン312を配置し、フィン312によってウエハチャック7の外周部付近の気流を下方に導く構成とし、乱流を抑制した場合のものである。
本発明の第4の実施の形態を図6を用いて説明する。図中、図1に示した部材と同等の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。本実施の形態は、第1の実施の形態における吸気口12及び排気ファンユニット11に換えて、FFU3の給気口とウエハチャック7の間の空間に1つ以上のルーバ412を設け、ルーバ412によってFFU3から供給される清浄空気をウエハチャック7の上方に導く構成とし、その清浄空気のウエハチャック7の上方から下方への流れによって乱流を抑制した場合のものである。
本発明の第5の実施の形態を図7を用いて説明する。図中、図1に示した部材と同等の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。本実施の形態は、第1の実施の形態における吸気口12に換えて、ウエハチャック7の下方に気流吸収減衰板512を設け、ウエハチャック7の回転によって生じる乱流を吸収することにより抑制した場合のものである。
以上に本発明の幾つかの実施の形態を説明したが、これら実施の形態は本発明の精神の範囲内で種々の変形・組み合わせが可能である。例えば、図6に示した第1の実施の形態(又は変形例)は、ウエハチャック7の下方に吸気口12を配置し、吸気口12によって空気を吸引することによりウエハチャック7の周辺に生じる乱流を抑制したものであるが、図4に示した第3実施の形態及び図6に示した第3の実施の形態及び第4の実施の形態においても、第1の実施の形態と同様に、ウエハチャック7の下方に吸気口12を配置し、吸気口12によって空気を吸引することによりウエハチャック7の周辺に生じる乱流を抑制することができる。また、図7に示した第5の実施の形態は、ウエハチャック7の下方に気流吸収減衰板512を配置し、気流吸収減衰板512によってウエハチャック7の周辺に生じる乱流を吸収することにより抑制したものであるが、図4に示した第3実施の形態及び図6に示した第3の実施の形態及び第4の実施の形態においても、ウエハチャック7の下方に気流吸収減衰板512を配置し、気流吸収減衰板512によってウエハチャック7の周辺に生じる乱流を吸収することにより抑制することができる。また、図4に示した第4の実施の形態は、ウエハチャック7の外周部にフィン312を配置し、フィン312によってウエハチャック7の外周部の空気を下方に導くことによりウエハチャック7の周辺に生じる乱流を抑制したものであるが、図6図6に示した第3の実施の形態においても、ウエハチャック7の外周部にフィン312を配置し、フィン312によってウエハチャック7の外周部の空気を下方に導くことによりウエハチャック7の周辺に生じる乱流を抑制することができる。また、上述した本発明の実施の形態においては、ウエハチャック7の側方からFFU3によって清浄空気を供給するよう構成したがこれに限られず、ウエハチャック7の上方から清浄空気を供給するよう構成しても良い。
2 検査光学系
3 FFU
4 回転機構
5 水平方向移動機構
6 垂直方向移動機構
7 ウエハチャック
8 照明光学系
9 FFU
11 排気ファンユニット
12 吸気口
13 ステージ部
14 検出ユニット
15 ケース
16 支持部
17 光学系支持部
18 試料室
Claims (12)
- クリーンボックス内に設けられたステージに載置された被検査基板を検査する表面検査装置において、
前記クリーンボックス内の前記ステージの側方から前記被検査基板の周辺に清浄な空気を供給する空気供給手段と、
前記ステージの下方に設けられ前記被検査基板を回転駆動する回転駆動手段と、
前記被検査基板の周辺に生じる乱流を抑制する乱流抑制手段とを備えた表面検査装置であって、
前記乱流抑制手段は、
前記被検査基板が載置される前記ステージの外周部に設けられ、前記ステージの回転時に前記被検査基板の外周部の空気を前記ステージの下方に導く構造と、
少なくとも前記被検査基板に対して前記空気供給手段と反対側の下方に配置され、前記クリーンボックスの内部の空気を吸引する上方に向けた開口部を有する排気口と、
前記排気口を介して前記クリーンボックスの内部の空気を吸引し、クリーンボックスの外部に排出する排気手段と
を備えたことを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記排気口は、前記被検査基板の外周の下方に周方向に等間隔に複数並べて設けられたことを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記排気口の開口部は、前記被検査基板の外周部に沿って囲むように配置されたことを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記乱流抑制手段の排気口は、前記被検査基板の下方に設けられ、前記被検査基板からの空気の流れを吸収する気流吸収構造を有することを特徴とする表面検査装置。 - 請求項4記載の表面検査装置において、
前記気流吸収構造は、複数の孔を設けた板状の部材を複数、層状に重ね、空気の流れを吸収および減衰するように相互にラビリンス構造を有することを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記ステージの外周部に設けられた前記構造は、前記ステージの外周部の径方向外側に周方向に等間隔に複数設けられ、前記ステージの平面に対して傾けて取り付けられた板状のフィンであることを特徴とする表面検査装置。 - クリーンボックス内に設けられたステージに載置された被検査基板を検査する表面検査方法において、
前記クリーンボックス内の前記ステージの側方から前記被検査基板の周辺に清浄な空気を供給する手順と、
前記ステージの下方に設けられ前記被検査基板を回転駆動し、前記被検査基板が載置される前記ステージの外周部に設けられた構造によって前記被検査基板の外周部の空気を前記ステージの下方に導く手順と、
少なくとも前記被検査基板に対して前記空気供給手段と反対側の下方に配置され、上方に向けた開口部を有する排気口によって、前記クリーンボックスの内部の空気を吸引し、クリーンボックスの外部に排出する手順と
を有することを特徴とする表面検査方法。 - 請求項7記載の表面検査方法において、
前記排気口は、前記被検査基板の外周の下方に周方向に等間隔に複数並べて設けられたことを特徴とする表面検査方法。 - 請求項7記載の表面検査方法において、
前記排気口の開口部は、前記被検査基板の外周部に沿って囲むように配置されたことを特徴とする表面検査方法。 - 請求項7記載の表面検査方法において、
前記乱流抑制手段の排気口は、前記被検査基板の下方に設けられ、前記被検査基板からの空気の流れを吸収する気流吸収構造を有することを特徴とする表面検査方法。 - 請求項10記載の表面検査方法において、
前記気流吸収構造は、複数の孔を設けた板状の部材を複数、層状に重ね、空気の流れを吸収および減衰するように相互にラビリンス構造を有することを特徴とする表面検査方法。 - 請求項7記載の表面検査方法において、
前記ステージの外周部に設けられた前記構造は、前記ステージの外周部の径方向外側に周方向に等間隔に複数設けられ、前記ステージの平面に対して傾けて取り付けられた板状のフィンであることを特徴とする表面検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009083491A JP5352315B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 表面検査装置及び表面検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009083491A JP5352315B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 表面検査装置及び表面検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010236948A JP2010236948A (ja) | 2010-10-21 |
JP5352315B2 true JP5352315B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=43091411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009083491A Expired - Fee Related JP5352315B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 表面検査装置及び表面検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5352315B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5894854B2 (ja) | 2012-05-11 | 2016-03-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
JP6255152B2 (ja) | 2012-07-24 | 2017-12-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
CN105652790B (zh) * | 2014-11-30 | 2018-08-07 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种微环境控制系统 |
JP7018368B2 (ja) * | 2018-07-12 | 2022-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置及び検査装置の清浄化方法 |
JP2022043361A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-03-16 | 株式会社日立ハイテク | 検査装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07230037A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 精密検査測定装置 |
JP4085538B2 (ja) * | 1999-10-15 | 2008-05-14 | ソニー株式会社 | 検査装置 |
DE102004062592B3 (de) * | 2004-12-24 | 2006-06-08 | Leica Microsystems Jena Gmbh | System zur Untersuchung eines scheibenförmigen Substrats |
JP2006352099A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-12-28 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
JP4896591B2 (ja) * | 2006-06-01 | 2012-03-14 | 積水化学工業株式会社 | 基材外周処理装置及び方法 |
JP5054988B2 (ja) * | 2007-01-24 | 2012-10-24 | 三菱重工業株式会社 | 燃焼器 |
JP2009016595A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
-
2009
- 2009-03-30 JP JP2009083491A patent/JP5352315B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010236948A (ja) | 2010-10-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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