JP5351522B2 - 光特性補償のための温度無依存のアレイ導波路回折格子合分波器及びその製作方法 - Google Patents

光特性補償のための温度無依存のアレイ導波路回折格子合分波器及びその製作方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5351522B2
JP5351522B2 JP2008557206A JP2008557206A JP5351522B2 JP 5351522 B2 JP5351522 B2 JP 5351522B2 JP 2008557206 A JP2008557206 A JP 2008557206A JP 2008557206 A JP2008557206 A JP 2008557206A JP 5351522 B2 JP5351522 B2 JP 5351522B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
input
cutting
circuit
stripe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008557206A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009535656A (ja
Inventor
テ ヒュン リー
テ フン キム
ヒュン ジェ リー
ビョン ゴン ユー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
POINTek Inc
Original Assignee
POINTek Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by POINTek Inc filed Critical POINTek Inc
Publication of JP2009535656A publication Critical patent/JP2009535656A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5351522B2 publication Critical patent/JP5351522B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • G02B6/12009Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides
    • G02B6/12033Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides characterised by means for configuring the device, e.g. moveable element for wavelength tuning
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • G02B6/12009Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides
    • G02B6/12016Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides characterised by the input or output waveguides, e.g. tapered waveguide ends, coupled together pairs of output waveguides
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • G02B6/12009Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides
    • G02B6/12026Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides characterised by means for reducing the temperature dependence
    • G02B6/1203Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides characterised by means for reducing the temperature dependence using mounting means, e.g. by using a combination of materials having different thermal expansion coefficients
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083Constructional arrangements
    • G02B2006/12111Fibre

Description

大きい帯域幅の情報を伝送するのによく使用されるWDM通信システムは、一本の光ファイバーを用いてN個の波長を有する光信号を同時に伝送する。遠距離の通信では、最大の帯域幅が1つの光ファイバー線上で伝送される必要があるため、1.0nm以下の光間隔によって分離された多くの波長を伝送するために、DWDM伝送がよく使用される。受信器ユニットの端には、合波された多くの波長を有する光信号を分波するためのアレイ導波路回折格子(AWG: Arrayed Waveguide Grating)合分波器がよく使用される。通常の導波路回折格子は、特定温度に維持される環境下で作動されるように、外部電源を利用した温度制御を必要とする。これは、導波路回折格子が動作温度の変化に対する波長選択的敏感度を示すからである。したがって、温度無依存の導波路回折格子の必要性が急激に増加している。
図1は、通常の導波路回折格子素子を概略的に示した図である。導波路回折格子の波長合波及び分波特性は、関連式によって、特定波長を有して特定位置に集光される特性から分かる。したがって、最初入力ストライプ導波回路1aの位置が水平(図1のx方向)に移動される時、出力導波回路2に入る光の波長もシフトされるようになる。最初入力ストライプ導波回路1aの位置が入力スラブ導波路3の焦点中心から水平方向(図1のx方向)にdxだけ移動すれば、出力導波回路2における波長は、dλだけ変化するようになる。このような位置関係が式1に示されている。
[式1]
dx/dλ=[Lf*ΔL/(ns*dλo)]*ng
ここで、Lfは、スラブ導波路の焦点長さであり、ngはアレイ導波路(Arrayed Waveguides)の群屈折率である。
温度変化をTとすると、式1から式2が誘導できる。
[式2]
dx=[Lf*ΔL/(ns*dλo)]*ng*(dλ/dT)*T
前記式2から分かるように、出力ストライプ導波回路2における波長が温度変化によりシフトされても、最初入力ストライプ導波回路1aの位置が水平方向(図1のx方向)に移動されれば、波長の温度依存性は補償され得る。例えば、入力スラブ導波路3の焦点長さLが13mm、アレイ導波路の導波路 間の長さの差ΔLが40μm、アレイ導波路と出力スラブ導波路との境界面にある領域のアレイ導波路の導波路ピッチdが14μmであって、回折差数mが38である場合、温度変化による波長シフトを補償するための最初入力ストライプ導波回路1aの位置移動の距離dxは、dx=〜0.28T(μm)と計算できる。したがって、温度変化が50℃である場合の波長シフトは、入力ストライプ導波回路が水平方向(図1のx方向)に14μm移動する時に補償され得る。
温度変化により、受動的に最初入力ストライプ導波回路1aの位置を移動させるために、基板より大きい熱膨張係数(CTE)を有する横方向滑走ロッド9が付着された最初入力導波回路1aの位置を水平(x方向)に移動させる必要があって、水平移動は、横方向滑走ロッド9が熱膨張及び熱収縮される時になされる。
図1に概略的に示されたように、温度無依存のアレイ導波路回折格子は、アレイ導波路回折格子チップの二つのサブチップ部(入力サブチップ6a及び主サブチップ6b)から構成されたアレイ導波路回折格子構造と、アレイ導波路回折格子チップの二つのサブチップ部6a、6bを再整列して付着するための整列ベース基板9と、 二つのサブチップ部6a、6b間の整列間隔を調節して維持するように設計された薄膜スペーサー8と、熱膨張及び熱収縮により、最初入力ストライプ導波回路1aが位置される入力サブチップ部6aを水平方向(x方向)に移動させることにより波長シフトを補償するための横方向滑走ロッド9とを含む。合波された光波長が、光入力ファイバーからアレイ導波路回折格子チップ上の最初入力ストライプ導波回路1aに入った後、これらの波長は、入力スラブ導波路3、アレイ導波路5、出力ストライプ導波回路2に順に伝送されて、最終的に分波された波長が出力光ファイバーに到達する。しかしながら、温度無依存のアレイ導波路回折格子の有用性にも関わらず、切断工程において、基板の切断幅(dicing kerf width;切断刃により除去される幅)によって生じる光路長さの差異だけ光特性が変化することは避けられない。特に温度無依存のアレイ導波路回折格子チップ基板の切断幅による、このような光路の長さの差は、出力信号スペクトルの帯域幅における微細な変化を招き、光挿入損失(Optical insertion loss)及び他の光特性の変化をもたらす。このような変化は、たとえ微細であっても、光特性の臨界点で素子不良を招来する。結果的に、アレイ導波路回折格子チップ基板の切断幅による、変化された光特性を補償するための技術的な解決策が必要である。
本発明は、温度無依存の導波路回折格子素子の製造工程に伴われる切断除去工程による、所望しない光特性の変化を補償する温度無依存の導波路回折格子素子及びその制作方法に関する。図1に示された温度無依存の導波路回折格子の製造工程を説明すると、通常の導波路回折格子チップは、導波路回折格子の入力スラブ導波路3に連結された最初入力ストライプ導波回路1aと入力スラブ導波路3との境界面で切断される。その後、二つのサブチップ部6a、6bは、整列ベース基板7の上面上で再整列されて組み立てられる。導波路回折格子チップの主導波路回折格子体を含むサブチップ部6bは、接着剤を利用して整列ベース基板7の表面上に接着及び固定される。再整列工程において、二つのサブチップ部6a、6b間の整列間隔10の幅は、所望の間隔幅を維持するために、一定厚さの薄膜スペーサー8を挿入することにより、容易に調整できる。温度無依存の導波路回折格子のパッケージング工程は、この二つのサブチップ部6a、6bが、温度無依存の特性を受動的に維持する重要な役割をする横方向滑走ロッド9により連結され、二つの再整列されたサブチップ部6a、6bを固定することにより完了する。
温度無依存パッケージング工程のための一般的な切断方法は、シリコンウェハーのような平面基板を切断するのに最もよく使用されるダイシングソー(Dicing Saw)を利用することである。この切断工程では、導波路回折格子チップ基板は、高速に回転する切断刃(Dicing blade)によって切断されて、基板の切断幅は、切断刃の厚さによって決定される。切断刃の厚さは切断しようとする基板の厚さによって選択されるが、一般に通常の導波路チップ基板を切断するためには、少なくとも100μmの厚さを有する切断刃を使用することが好ましい。これにより、導波路回折格子チップの最初光路長12aに、基板の切断幅11に相当する不可避な変化が生じて、結局光特性も変化するようになる。
図2は、基板の切断幅11の除去による、切断前12a及び及び切断後12bの導波路回折格子チップの最初光路長さにおける光路長さの変化を示す。
基板の切断幅11による光路長さの変化により招かれる最も敏感な特性は、帯域幅の変化であって、これは、光挿入損失及び他の光特性の変化をもたらす。シリカ基板の導波路回折格子チップの場合、一般に基板の切断幅11が大きいほど帯域幅は狭くなることが分かる。図3は、基板の切断幅11の変化による帯域幅及び光挿入損失の変化を示す。
本発明では、光路長の変化により生じる光特性の変化を適宜補償するために、1)基板の切断幅11に相当する付加的な光路長12cが、導波路設計工程及び製作工程の途中に、導波路回折格子チップの切断される導波路部に付加され、補償された光路長12dが切断後にも維持される光路補償方法と、2)付加的な導波路が、基板の切断幅11に相当する距離だけシフトされた位置に付加され、付加的な導波路1bが、切断が行われた後の光路長の変化を最小化する位置補償方法と、の二つの方法を提示する。
本発明で提示する方法は、基板の切断幅11により招かれる光路長さの変化を最小化して、温度無依存の導波路回折格子の光特性変化を最小化する。結果的に、温度無依存の導波路回折格子の光学的性能の向上及び収率向上を同時に達成することができる。
上記本発明の目的と特徴及び長所は、添付図面及び以下の詳細な説明により、さらに容易に理解できる。
本発明において、光路長さの補償方法は、基板の切断幅11に相当する付加的な光路長12cを、最初入力ストライプ導波回路1a及び入力スラブ導波路3との境界面にある導波路回折格子チップの切断される部分に付加することが必要である。このような付加は、最初はフォトマスク設計工程、それから導波路回折格子チップの導波路製作工程の間になされる。特に、光路長さの変化は、基板の切断幅11に相当する長さの減少及び二つのサブチップ部6a、6b間の整列間隔10に相当する長さ増加の合により測定される。最終的な光路長さ(L)12dは、式3及び式4により決定される。
[式3]
=L+L
[式4]
=L+L+L
ここで、Lは、切断前の最初設計された光路長さ12a、Lは、切断後の光路長さ12d、Lは、光路長さ補償のための付加的な光路長さ12c、Lは、二つのサブチップ6a、6b間の整列間隔10、そしてLは、切断幅11である。
光路長さの変化の導波路回折格子特性の変化に対する効果は、導波路回折格子の個別的な敏感度によって変わる。 導波路回折格子のかかる敏感度の変化を考慮し、LがLとL間の光路差である場合、光路長さ補償のための付加的な光路長さ12cは、実際的に、Lの5%乃至200%と得られる。例えば、Lが150μmで、Lが10μmである場合、Lは、7μmから280μmの間で一般に決定される。
図4は、温度無依存の導波路回折格子の光特性補償のための、本発明による経路長さの補償方法の一例を示した概略図である。図4に示されたように、最初入力ストライプ導波回路1aと入力スラブ導波路3との境界面で最初入力ストライプ導波回路1aの一部分が切断されて除去される場合、最初入力導波回路部に付加的な経路長さLを付加することにより、光路長さは補償できる。除去されて補償される部分は、最初入力ストライプ導波回路1aの一部分だけではなく、入力スラブ導波路3の一部分、アレイ導波路5の一部分、出力スラブ導波路4の一部分を含み、温度無依存の導波路回折格子のパッケージングのためのあらゆる部分を含む。図5は、本発明により光路長さ補償方法が使用される時、導波路回折格子チップの切断される部分と補償される部分の例を示した概略図である。
さらに、フラットトップ方式の導波路回折格子の場合、フラットトップ作動機能を導波路回折格子に提供するために、特別な導波路構造を有する必要がある。このフラットトップ作動機能の導波路構造1cは、数百μmの経路長さを有するパラボラ(parabola)またはY−分岐状であり、最初入力ストライプ導波回路1aの端から入力スラブ導波路3まで形成される。導波路回折格子で有効なフラットトップ作動を得るために、このフラットトップ作動機能の導波路構造1cは、導波路回折格子チップの切断後に最初入力ストライプ導波回路1aの端に残っていなければならない。図6は、本発明により光路長さ補償方法が使用される時、フラットトップ(Flat-Top)方式の導波路回折格子の場合において、基板の切断幅11の経路長さ補償の一例を示した概略図である。
図6に図示の切断された部分は、最初入力ストライプ導波回路1aの一部分ではなく、入力スラブ導波路3の一部分である。さらに詳しくは、この切断された部分は、入力スラブ導波路3が最初入力ストライプ導波回路1aのパラボラ形態のフラットトップ作動機能の導波路構造1cから連結される時、入力スラブ導波路3の始端に存在して、切断後に必要な光路長さを維持するために、切断後の残った部分は、入力スラブ導波路3の付加的な長さを含まなければならない。導波路回折格子チップの切断後、チップは、区別される二つの部分、即ち、パラボラ形態のフラットトップ作動機能の導波路構造1cを有する最初入力導波回路1aの部分と入力スラブ導波路3の部分とに分けられる。また、図5に示されたように、除去されて補償される部分は、最初入力ストライプ導波回路1aの一部分だけではなく、入力スラブ導波路3の一部分、アレイ導波路5の一部分、出力スラブ導波路4の一部分を含み、温度無依存の導波路回折格子のパッケージングのためのあらゆる部分を含む。
位置補償方法は、導波路回折格子チップを切断する前に、光特性に対する正確な予測が難しい場合、光路長さ補償方法よりさらに効果的な方法である。 光路長さ補償方法は、基板の切断幅11に相当する付加経路長さを切断部分に付加する反面、位置補償方法では、付加的な導波路が、基板の切断幅11の距離だけシフトされた位置に付加されて、そうなると、切断後の経路長さの変化を最小化する付加的な入力ストライプ 導波回路1bが光路整列のために使用される。最初入力ストライプ導波回路1aは、導波路回折格子チップの特性検査のために、そして切断前に導波路回折格子チップの出力導波回路2に出力光ファイバーまたは光ファイバーアレイを付着するために使用される。その後、入力光ファイバーまたは入力光ファイバーアレイ13が、最初入力ストライプ 導波回路1aから、基板の切断幅11からの変化を補償するための付加的な入力ストライプ導波回路1bまでシフトされて、入力光ファイバーまたは入力ファイバーアレイ13は付着される。最終的に導波路回折格子チップは切断されて、切断されたサブチップ部6a、6bは再整列される。
図7は温度無依存の導波路回折格子の光特性補償のための、本発明による位置補償方法の一例を示した概略図である。図7において、切断前の入力光ファイバーアレイ13と最初入力ストライプ導波回路1a間の最初整列位置14aから、切断後の入力光ファイバーアレイ13と付加的な入力ストライプ導波回路1b間の最終整列位置14aへの位置シフトが示されている。さらに、付加的な入力ストライプ導波回路1bに対する光学的整列の前に、最初入力ストライプ導波回路1aに対する光学的整列が必要なわけではない。
図8は、本発明による位置補償方法において、付加的な入力ストライプ導波回路1bの詳細な構造の一例を示した概略図である。図8に示されたように、 入力光ファイバーまたは入力光ファイバーアレイの付着のために、付加的な入力導波路1bと入力スラブ導波路3間で切断される部分に、その幅が付加的な入力ストライプ導波路1bの幅より大きいダミ入力導波路1dを有することが有用である。また、ダミ導波路1dは、付加的な入力ストライプ導波路1bの端にあるパラボラ形態のフラットトップ作動機能の導波路構造1cと入力スラブ導波路3との境界面に形成される。ダミ導波路1dの相当な部分が、切断工程中に除去される必要がある。表示子15が切断角度及び切断位置を正確に表示するために使用される場合、このような除去は、切断工程中に効果的に行われるようになる。このような表示子は、導波路の製作と同時に製作される。また、図5に示されたように、除去されて補償される部分は、最初入力ストライプ導波回路1aの一部分だけではなく、入力スラブ導波路3の一部分、アレイ導波路5の一部分、出力スラブ導波路4の一部分を含み、温度無依存の導波路回折格子のパッケージングのためのあらゆる部分を含む。
図9は、本発明による温度無依存の導波路回折格子の3dB帯域幅特性の補償を示したグラフである。温度無依存の導波路回折格子の製作工程中に起こる光特性の変化を補償する温度無依存の導波路回折格子を製作するための一例が示されている。フラットトップ方式の温度無依存の導波路回折格子に対する経路長さ補償によって光特性の変化を補償するための製作例については、温度無依存の導波路回折格子において、最初入力ストライプ導波回路1aの端からY−分岐方式のフラットトップ作動機能の導波路構造1cと連結される入力スラブ導波路3の始め部分が切断されるように予め設定される。切断刃の厚さは120μmであり、二つのサブチップ部6a、6b間の整列間隔10のための薄膜スペーサー8の厚さは10μmである。110μmを基準に5%乃至200%の補償長さを想定すると、導波路回折格子チップの熱特性を基準に、100μmの補償長さが決定された。したがって、導波路回折格子チップの設計ステップにおいて、入力スラブ導波路3の長さは、付加的に100μmだけ増加するように調整されて、フォトマスクは、付加的な入力スラブ長さによって製造される。導波路回折格子チップは、薄膜蒸着、フォトリソグラフィ及び反応性イオン蝕刻のような半導体製作工程を利用して、シリコンウェハー上に製作される。その後、導波路回折格子チップは、処理されたウェハーから個別的に分離されて、個別導波路回折格子チップの面は研磨される。
入力光ファイバーアレイ及び出力光ファイバーアレイが導波路回折格子チップの各入力及び出力面に整列されて付着された後、導波路回折格子チップは、120μmの刃厚を有するダイシングソーにより切断される。この切断工程において、入力スラブ導波路3の予め設定された始め部分が切断されて、入力スラブ導波路3長から120μmの長さが切断幅11として除去される。切断された二つのサブチップ6a、6bは、整列ベース基板7上において、二つのサブチップ6a、6b間に10μm厚の薄膜スペーサー8を挿入することにより再整列される。したがって、整列間隔10を含む光路長さの総変化は、10μmである。最終的に、図1に示されたような組み立てにより、温度無依存の導波路回折格子が完成される。
位置補償による光特性の変化を補償するための一製作例は、導波路回折格子チップにおいて、最初入力導波回路1aの端にあるY−分岐方式のフラットトップ作動機能の導波路構造1cと入力スラブ導波路3との境界面にダミ導波路1dが付加されるように予め設定されて、また導波路回折格子チップがダミ 導波路1dで切断されるように予め設定される。切断刃の厚さは120μmであり、二つのサブチップ部6a、6b間の再整列間隔10のための薄膜8の厚さは、10μmである。110μmを基準に5%〜200%の補償長さを想定すると、導波路回折格子チップの熱特性を基準に、100μmの補償長さが決定された。従って、その端にダミ導波路1dを有する付加的な入力ストライプ導波回路1bが、最初入力ストライプ導波回路1aと共に、フォトマスク設計ステップで付加される。フォトマスク設計ステップにおいて、ダミ導波路1dは、300μmの幅と115μmの長さを有する。導波路回折格子チップは、薄膜蒸着、フォトリソグラフィ及び反応性イオン蝕刻のような半導体製作工程を用いて、シリコンウェハー上に製作される。その後、個別導波路回折格子チップが処理されたウェハーから分離されて、個別導波路回折格子チップの面は研磨される。入力光ファイバーアレイ及び出力光ファイバーアレイが導波路回折格子チップの最初入力ストライプ導波回路1a及び出力ストライプ導波回路2に対して整列された後、導波路回折格子チップの光特性が検査されて、その後、入力光ファイバーアレイは、最初入力ストライプ導波回路1aの位置から付加的な入力導波回路1bの位置までシフトされる。入力光ファイバーアレイ及び出力光ファイバーアレイが、付加的な入力導波回路1b及び出力ストライプ導波回路2に対して整列されて付着された後、導波路回折格子チップは、120μmの刃厚を有するダイシングソーを用いて、ダミ導波路1d部分で切断される。この切断工程において、入力スラブ導波路3の始め部分は、5μmの長さだけダミ導波路1dと共に除去される。切断された二つのサブチップ部6a、6bは、整列ベース基板7上において、付加的な入力ストライプ導波回路1bを用いて再整列されて、10μm厚の薄膜スペーサー11が二つのサブチップ部6a、6b間に挿入される。したがって、整列間隔10を含む光路長さの総変化は5μmである。最終的に、図1に示されたような組み立てにより、温度無依存の導波路回折格子が完成される。
上述の例において、フラットトップ作動機能の導波路構造1cは、常に入力ストライプ導波回路1aまたは1bを含む入力サブチップ部6aに位置して、さらに、フラットトップ作動機能の導波路構造1cは、入力ストライプ導波回路1aまたは1bと切断された面との間、入力ストライプ導波回路1aまたは1bと入力スラブ導波路3の切断された部分との間、または入力ストライプ導波回路1aまたは1bと切断されなかった入力スラブ導波路3との間に位置する。
[産業上利用可能性]
切断工程の途中に、切断刃の厚さに相応する温度無依存の導波路回折格子チップの特性部分を除去することは不可避なことであって、このような所望しない除去工程は、温度無依存の導波路回折格子の光特性、特に3dB帯域幅の変化を招来する。本発明では、光路長の変化により生じる光特性の変化を容易に補償するために、1)基板の切断幅11に相当する付加的な光路長12cが、導波路設計工程及び製作工程の途中に、導波路回折格子チップの切断される部分に付加され、補償された光路長12dが切断後にも維持される光路補償方法と、2)切断後に光路長さの変化を最小化する付加的な入力ストライプ導波回路1bの使用前に、付加的な導波路1bが基板の切断幅11に相当する距離だけシフトされた位置に付加される位置補償方法と、の二つの方法を提示する。
温度無依存の導波路回折格子の概略図である。 本発明による基板の切断幅11による温度無依存の導波路回折格子の光路長の変化(12bと12a間の差)を示した概略図ある。 本発明による基板の多様な切断幅11による温度無依存の導波路回折格子の3dB帯域幅の変化を示した概略図である。 温度無依存の導波路回折格子の光特性補償のための、本発明による経路長さの補償方法の一例を示した概略図である。 本発明により光路長さ補償方法が使用される時、導波路回折格子チップの切断される部分と補償される部分の例を示した概略図である。 本発明により光路長さ補償方法が使用される時、フラットトップ(Flat-Top)方式の導波路回折格子の場合において、基板の切断幅11の経路長さ補償の一例を示した概略図である。 温度無依存の導波路回折格子の光特性補償のための、本発明による位置補償方法の一例を示した概略図である。 本発明による位置補償方法において、付加的な入力ストライプ導波回路1bの詳細な構造の一例を示した概略図である。 本発明による温度無依存の導波路回折格子の3dB帯域幅特性の補償を示したグラフである。

Claims (8)

  1. 導波路回折格子チップの光路長が切断される際に、基板の切断された幅による光路長の減少により生じる光特性変化を補償するための、温度無依存の導波路回折格子素子を製作する方法であって、
    切断前の最初入力導波路の位置に、切断後の付加的な入力ストライプ導波回路を合わせた時に、切断前に最初入力導波路に接続するように位置決めされた入力光ファイバ(アレイ)に切断後の付加的な入力ストライプ導波回路が接続されるように最初導波路部分から切断幅に相応する特定距離だけシフトされた位置に付加的な入力ストライプ導波回路を含む導波路部分が付加される、導波路回折格子チップのためのフォトマスクを設計するステップと、
    付加的な入力ストライプ導波回路を含む導波路部分が最初入力ストライプ導波回路を含む、切断される、最初導波路部分から切断幅に相応する特定距離だけシフトされた位置に付加される、平面基板上のアレイ導波路回折格子チップを製作するステップと、
    アレイ導波路回折格子チップの光路を切断するステップと、
    その位置が切断される、最初導波路部分から切断幅に相応する特定距離だけシフトされた付加的な入力ストライプ導波回路を用いてアレイ導波路回折格子チップの光路を再整列するステップと、
    を含む光特性変化を補償するための温度無依存の導波路回折格子素子を製作する方法。
  2. アレイ導波路回折格子チップの入力導波路の一部分を切断するステップ、
    アレイ導波路回折格子チップの入力スラブ導波路の一部分を切断するステップ、
    アレイ導波路回折格子チップの入力ストライプ導波回路と入力スラブ導波路との間の境界面にある一部分を切断するステップ、
    アレイ導波路回折格子チップの入力スラブ導波路とアレイ導波路との境界面にある一部分を切断するステップ、
    アレイ導波路回折格子チップのアレイ導波路の一部分を切断するステップ、
    のいずれか一つのステップを含むことを特徴とする、請求項1に記載の光特性変化を補償するための温度無依存の導波路回折格子素子を製作する方法。
  3. 導波路回折格子チップの光路長が切断される際に、基板の切断された幅による光路長の減少により生じる光特性変化を補償するための、温度無依存の導波路回折格子素子であって、
    最初導波路部分である最初入力ストライプ導波回路1aと最初導波路部分から切断幅に相応する特定距離だけシフトされた位置に付加的な入力ストライプ導波回路1bを含む入力サブチップ部6aに位置されるアレイ導波路回折格子チップ、
    アレイ導波路回折格子チップの切断後に、アレイ導波路回折格子チップの入力ストライプ導波回路を含む入力サブチップ部6aに位置されるフラットトップ作動機能導波路構造1cと、
    二つのサブチップ部の光路の再整列の後に、アレイ導波路回折格子チップの入力ストライプ導波回路を含む入力サブチップ部6aに位置されるフラットトップ作動機能導波路構造1cと、
    を含む温度無依存の導波路回折格子素子。
  4. 入力ストライプ導波回路1aまたは付加的な入力ストライプ導波路1bと、切断された面との間に位置するフラットトップ作動機能導波路構造1c、
    入力ストライプ導波回路1aまたは付加的な入力ストライプ導波路1bと、入力スラブ導波路3の切断された部分との間に位置するフラットトップ作動機能導波路構造1c、
    入力ストライプ導波回路1aまたは付加的な入力ストライプ導波路1bと、 切断されて
    いない入力スラブ導波路3との間に位置するフラットトップ作動機能導波路構造1c、
    のいずれか1つを含むことを特徴とする、請求項3に記載の温度無依存の導波路回折格子素子のフラットトップ作動機能導波路構造。
  5. 導波路回折格子チップの切断前に、付加的な入力ストライプ導波回路1bとダミ導波路1dとの間に位置するフラットトップ作動機能導波路構造1cを含むことを特徴とする、請求項3に記載の温度無依存の導波路回折格子素子のフラットトップ作動機能導波路構造。
  6. アレイ導波路回折格子チップを切断する前に、出力光ファイバーまたは出力光ファイバーアレイを出力ストライプ導波回路に付着するステップを含むことを特徴とする、請求項1に記載の光特性変化を補償するための温度無依存の導波路回折格子素子を製作する方法。
  7. アレイ導波路回折格子チップを切断する前に、最初入力ストライプ導波回路1aを用いてアレイ導波路回折格子チップの光特性を検査するステップと、
    最初入力ストライプ導波回路1aの位置からシフトすることにより、入力光ファイバーまたは入力光ファイバーアレイを付加入力ストライプ導波回路1b及び出力ストライプ導波回路に対して整列して付着するステップと、
    を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光特性変化を補償するための温度無依存の導波路回折格子素子を製作する方法。
  8. ダミ導波路1dを、付加的な入力ストライプ導波回路1bと入力スラブ導波路3との間の切断されて除去される部分に付加するステップと、
    ダミ導波路1dの一部または全部を除去するステップと、
    を含む請求項1に記載の光特性変化を補償するための温度無依存の導波路回折格子素子を製作する方法。
JP2008557206A 2006-02-28 2007-02-27 光特性補償のための温度無依存のアレイ導波路回折格子合分波器及びその製作方法 Active JP5351522B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060019240A KR100841223B1 (ko) 2006-02-28 2006-02-28 광특성 보상을 위한 온도무의존 광도파로열 격자회로 소자및 그 제작 방법
KR10-2006-0019240 2006-02-28
PCT/KR2007/001005 WO2007100205A1 (en) 2006-02-28 2007-02-27 Temperature insensitive arrayed waveguide grating multiplexer for optical property compensation and the manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009535656A JP2009535656A (ja) 2009-10-01
JP5351522B2 true JP5351522B2 (ja) 2013-11-27

Family

ID=37138750

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008557206A Active JP5351522B2 (ja) 2006-02-28 2007-02-27 光特性補償のための温度無依存のアレイ導波路回折格子合分波器及びその製作方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7965912B2 (ja)
JP (1) JP5351522B2 (ja)
KR (1) KR100841223B1 (ja)
CN (2) CN101900854B (ja)
WO (1) WO2007100205A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5222791B2 (ja) * 2009-06-01 2013-06-26 富士通株式会社 光導波路
JP2011034056A (ja) * 2009-07-08 2011-02-17 Furukawa Electric Co Ltd:The アレイ導波路回折格子型光合分波器
JP2012014071A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Furukawa Electric Co Ltd:The アレイ導波路回折格子型光合分波器
WO2015084332A1 (en) 2013-12-03 2015-06-11 Intel Corporation Monolithic physically displaceable optical waveguides
US9500827B2 (en) 2014-06-27 2016-11-22 Intel Corporation Apparatus, method and system for spectrometry with a displaceable waveguide structure
US9553689B2 (en) * 2014-12-12 2017-01-24 Inphi Corporation Temperature insensitive DEMUX/MUX in silicon photonics
CN109471219B (zh) * 2018-11-28 2020-06-30 武汉光迅科技股份有限公司 一种awg芯片、制作方法及其调节方法
CN113589429B (zh) * 2021-07-26 2022-07-01 北京邮电大学 一种基于辅助波导的阵列波导光栅

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3436937B2 (ja) * 1997-02-14 2003-08-18 日本電信電話株式会社 光導波回路及び製造方法並びに該光導波回路を有する光導波回路モジュール
JP2001100059A (ja) * 1999-09-29 2001-04-13 Hitachi Cable Ltd 光波長合分波器
JP3434489B2 (ja) * 1999-09-24 2003-08-11 古河電気工業株式会社 アレイ導波路型回折格子
JP2002071994A (ja) * 1999-12-27 2002-03-12 Furukawa Electric Co Ltd:The アレイ導波路回折格子型光合分波器およびその製造方法
JP4413364B2 (ja) * 2000-03-13 2010-02-10 古河電気工業株式会社 平面光導波回路およびその製造方法
JP3448551B2 (ja) * 2000-06-14 2003-09-22 古河電気工業株式会社 アレイ導波路型回折格子
JP3630085B2 (ja) * 2000-09-14 2005-03-16 日本電気株式会社 アレイ導波路回折格子素子の製造方法およびアレイ導波路回折格子素子
US6591044B2 (en) * 2000-10-18 2003-07-08 The Furukawa Electric Co., Ltd. Optical waveguide circuit module
JP4477263B2 (ja) * 2001-08-27 2010-06-09 古河電気工業株式会社 アレイ導波路回折格子型光合分波器の製造方法
US6735364B2 (en) * 2001-08-27 2004-05-11 The Furukawa Electric Co., Ltd. Arrayed waveguide grating optical multiplexer/demultiplexer and method for manufacturing the same
GB2379517B (en) * 2001-09-11 2003-08-13 Kymata Netherlands B V Optical arrayed waveguide grating
US6603892B1 (en) 2001-10-24 2003-08-05 Lightwave Microsystems Corporation Mechanical beam steering for optical integrated circuits
CN2575690Y (zh) * 2002-09-30 2003-09-24 华中科技大学 温度不敏感型阵列波导光栅
CN1404253A (zh) * 2002-10-10 2003-03-19 浙江大学 温度不敏感的集成型波分复用器
KR100487216B1 (ko) * 2003-01-22 2005-05-04 삼성전자주식회사 정렬성이 향상된 온도 무의존형 파장분할 다중화/역다중화장치 및 그 정렬방법
JP2005165139A (ja) 2003-12-04 2005-06-23 Nitto Denko Corp 光導波路の製造方法
KR100763790B1 (ko) * 2005-01-07 2007-10-08 (주)포인테크 온도 무의존성 광도파로열 격자 및 그 제작방법
JP2007065562A (ja) * 2005-09-02 2007-03-15 Furukawa Electric Co Ltd:The アレイ導波路回折格子
JP4385168B2 (ja) * 2006-08-04 2009-12-16 学校法人慶應義塾 回折格子及び分散補償回路

Also Published As

Publication number Publication date
CN101375192A (zh) 2009-02-25
KR20060027844A (ko) 2006-03-28
WO2007100205A1 (en) 2007-09-07
JP2009535656A (ja) 2009-10-01
US7965912B2 (en) 2011-06-21
CN101900854B (zh) 2013-09-04
US20090263075A1 (en) 2009-10-22
CN101900854A (zh) 2010-12-01
KR100841223B1 (ko) 2008-06-26
CN101375192B (zh) 2012-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5351522B2 (ja) 光特性補償のための温度無依存のアレイ導波路回折格子合分波器及びその製作方法
KR100942070B1 (ko) 어레이 도파로 회절 격자
WO2012002250A1 (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器
JP4460031B2 (ja) アレイ導波路型回折格子
US7539364B2 (en) Method and apparatus facilitating mechanical beam steering for optical integrated circuits
JP2002071994A (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器およびその製造方法
JPWO2002033462A1 (ja) アレイ導波路型回折格子およびその光透過中心波長補正方法
JP3448551B2 (ja) アレイ導波路型回折格子
JP2011034056A (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器
JP4667927B2 (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器
US6735364B2 (en) Arrayed waveguide grating optical multiplexer/demultiplexer and method for manufacturing the same
JP4719417B2 (ja) 光集積回路用の機械的なビーム操縦
WO2012002368A1 (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器
KR101327158B1 (ko) 배열 도파로 격자
WO2014024557A1 (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器
JP4477263B2 (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器の製造方法
JP5075048B2 (ja) アレイ導波路回折格子の位置合わせ方法およびアレイ導波路回折格子の位置合わせ装置
JP4762422B2 (ja) アレイ導波路型回折格子
JP2004020737A (ja) アレイ導波路回折格子およびその製造方法
JP2001305361A (ja) アレイ導波路型回折格子およびその作製方法
JP2010204696A (ja) アレイ導波路回折格子の作製方法
JP2001330739A (ja) アレイ導波路型回折格子
JP2010097231A (ja) アレイ導波路回折格子型光合分波器

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100128

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130426

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130820

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130823

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5351522

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250