JP5337902B2 - 気相成長装置及び方法 - Google Patents
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Description
本発明は、気相成長装置及び方法に関し、詳しくは、反応室内に設置した基板を所定温度に加熱するとともに所定の原料ガスを供給して基板面に薄膜を成長させる気相成長装置及び方法に関する。
気相成長装置として、偏平円筒状に形成したチャンバー内の下部にサセプタを回転可能に配設し、該サセプタの外周部に基板を保持する基板ホルダーを自公転可能に配置するとともに、チャンバー内の上部にサセプタ中心部から外周部に向けて原料ガスを導入するガス導入部を配設した、いわゆる自公転方式の気相成長装置が知られている。この気相成長装置は、所定温度に加熱したサセプタを回転させることによって前記基板ホルダーに保持した基板を自公転させながら、前記ガス導入部から所定の原料ガスをチャンバー内に導入することにより、基板面上に薄膜を成長させる(例えば、特許文献1参照。)。また、このような気相成長装置において、基板面に成膜を行う成膜室内のサセプタやフローチャンネル等の部材に付着した付着物を簡単に除去するため、成膜室にグローブボックスを連設したものが提案されている。
一般的な気相成長装置の反応室は、高温の基板に対向する面を、耐熱性に優れ、原料ガスとの反応性が低い石英ガラスで形成している。この石英ガラスは、赤外線の吸収がほとんど無いため、新品の状態や洗浄後の状態から気相成長を何回か繰り返し行って原料ガスに接する面に原料の分解生成物等が付着し、反応室の基板対向面がある程度汚れた状態になるまでは、反応室外部に熱(赤外線)が逃げるために熱的な環境が安定せず、薄膜の再現性が十分ではないという問題があった。
このため、新品あるいは洗浄後の反応室を使用する場合には、反応室内に原料ガスを導入して反応室内の原料ガスに接触する面を意図的に汚れた状態とし、熱的に安定な状態とすることが行われている。このため、生産性が低下するだけでなく、原料コストにも大きな影響を与えている。一方、反応室内の原料ガスに接触する面、特に基板対向面が分解生成物等が付着して汚れた状態になると、前述のように反応室内の熱環境は安定するものの、付着物に起因するパーティクルが薄膜中に混入して薄膜の性能を低下させる原因となる。
また、前記特許文献2に記載された気相成長装置のように、グローブボックスを使用して反応室を構成する部材を成膜室から取り出す場合、一般的な小型の横型気相成長装置は比較的容易に行えるが、前述の自公転方式の気相成長装置では、反応室を構成する部材が大きく、従来のように全体が石英ガラスで形成された反応室や、全体がカーボンで形成されたサセプタをグローブボックス内に取り出すことが困難であった。
そこで本発明は、反応室内の熱環境を一定に保ち、パーティクルの混入を防止して安定した成膜を行うことが可能な構造を有する自公転方式の気相成長装置及びこの装置を用いた気相成長方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成するため、本発明の気相成長装置は、外周部に複数の基板を保持して回転する円盤状のサセプタと、前記サセプタの表面に対向配置されてサセプタ中心部から外周部に向けて原料ガスを導入するガス導入管とを偏平円筒状のチャンバー内に収容した気相成長装置において、前記チャンバーを、前記サセプタ側に配置されて反サセプタ側が開口したチャンバー本体と、該チャンバー本体の前記開口に気密に装着されるチャンバー蓋とに分割形成し、該チャンバー蓋の中央部に前記ガス導入管を挿通する挿通口を設けるとともに、該挿通口の開口縁と前記ガス導入管の上部との間に円筒状の伸縮部材を気密に取り付けて前記チャンバー蓋を上下動可能に形成し、前記ガス導入管の先端とチャンバー本体外周壁との間に複数に分割形成した仕切板を設けて前記チャンバー内を上下に区画してサセプタ側に反応室を形成し、前記サセプタの反応室側の面に複数に分割形成されたサセプタカバーを設け、前記チャンバーを仕切扉を介してグローブボックスが連設された成膜室内に収容し、前記チャンバー蓋を前記チャンバー本体から離間させた状態で、前記グローブボックス内からチャンバー内の前記分割形成した仕切板及びサセプタカバーを前記成膜室からグローブボックス内に取出可能、かつ、グローブボックス内からチャンバー内に装着可能に形成したことを特徴としている。
また、本発明の気相成長方法は、上述の気相成長装置を用いた気相成長方法において、前記反応室に原料ガスを導入して前記基板面に薄膜を成長させる成膜操作を行う際に、前回の成膜操作において前記反応室で前記原料ガスに接触した前記分割形成した仕切板及びサセプタカバーを、前記グローブボックス内からのグローブ操作により、清浄な状態の前記分割形成した仕切板及びサセプタカバーと交換してから成膜操作を開始することを特徴としている。
本発明の気相成長装置によれば、成膜操作中に原料ガスに接触する仕切板及びサセプタカバーが、成膜室とグローブボックスとの間を移動可能な状態に分割形成されているので、成膜操作終了後に仕切板及びサセプタカバーをチャンバー内から取り外した後、新品あるいは洗浄後の清浄な状態の仕切板及びサセプタカバーをチャンバー内の所定位置に配置することができる。また、本発明の気相成長方法は、成膜操作を行うたびに原料ガスに接触する部材を清浄な状態の部材に交換するので、成膜操作の際の反応室内の熱環境を一定に保つことができ、安定した品質の薄膜を製造することができる。また、付着物を除去した清浄な状態の部材を使用することにより、付着物に起因するパーティクルが薄膜中に混入するおそれがなく、薄膜の性能を低下させることもない。
図1は本発明の気相成長装置の一形態例を示す説明図である。この気相成長装置は、上部中央にガス導入管11を配設した偏平円筒状のチャンバー12内に、円盤状のカーボンからなるサセプタ13と、該サセプタ13の外周部分の同心円上に等間隔で配置された複数の基板ホルダー14と、前記サセプタ13の上方に対向配置されてチャンバー12内を上下に区画し、サセプタ13側に反応室15を形成する仕切板16とを備えている。
チャンバー12は、耐食性に優れたステンレス鋼等で形成されるものであって、反サセプタ側の上方が開口したチャンバー本体17と、該チャンバー本体17の周壁上部にOリングを介して気密に装着されるチャンバー蓋18とに分割形成されている。チャンバー本体17の底部中央部には、サセプタ13を回転させるための回転駆動軸19が設けられ、該回転駆動軸19でサセプタ13を回転させることにより、基板20を保持した前記基板ホルダー14がサセプタ13の中心に対して公転するとともに、サセプタ13の外周に設けられた自転歯車機構によって自転する。
また、基板ホルダー14の下方には、基板20を加熱するためのヒーター21がリング状に配設され、サセプタ13の外周側にはリング状の排気通路22が設けられている。前記チャンバー蓋18の中央部には、前記ガス導入管11を挿通するための円筒状のガイド筒23が気密に設けられている。
前記仕切板16は、周方向及び径方向に複数に分割形成されており、外周側に配置される大径リング状の外周側仕切板16aと、その内周側で周方向に分割された複数の扇形の分割体を組み合わせた小径リング状の内周側仕切板16bとで形成されている。外周側仕切板16aは、その外周縁がチャンバー本体17の周壁内周に載置された状態で所定位置に固定される。内周側仕切板16bは、基板20に対向する位置に配置されており、その外周縁が外周側仕切板16aの内周縁上に載置されるとともに、その内周縁が前記ガス導入管11の下端に設けられたノズル24の外周縁上に載置されて着脱可能に形成され、上面には摘み部16cが突設されている。
また、前記サセプタ13及び基板ホルダー14の上面には、周方向及び径方向に複数に分割形成されたサセプタカバー25が載置されている。このサセプタカバー25は、各基板ホルダー14の上面を覆い、基板ホルダー14と共に回転するホルダーカバー25aと、ホルダーカバー25aで覆われる部分以外のサセプタ13の上面を覆うカバー本体25bとで形成されており、ホルダーカバー25aには基板20を保持するための開口が設けられている。
前記チャンバー蓋18は、外周部に設けた複数のブラケット26aを介して昇降手段26に取り付けられるとともに、前記ガイド筒23と前記ガス導入管11の上部に設けた上部フランジ11aとの間に円筒状のベローズ27を気密に取り付けており、昇降手段26を上昇方向に作動させてベローズ27を縮ませながらチャンバー蓋18を上昇させることにより、チャンバー本体17の開口を開放できるように形成されている。
前記ガス導入管11は、径の異なる複数の管を同心状に配置して複数のガス流路を区画形成した多重管からなるもので、多重管の上部外周は前記上部フランジ11aによって気密に保持されている。また、ガス導入管11の下端には外周方向に拡開してサセプタ13の中心部から外周部に向けてサセプタ上面と平行に原料ガスを導入するための前記ノズル24が設けられており、ノズル24の最上部外周縁には前記内周側仕切板16bを載置するための段部が設けられている。
このように形成された自公転方式の気相成長装置は、チャンバー12の全体が成膜室30内に収容されており、成膜室30には、仕切扉31を介してグローブボックス32が連設され、チャンバー蓋18を上昇させた状態で、グローブボックス32内からのグローブ操作により、前記内周側仕切板16bと前記ホルダーカバー25aとを着脱できるように形成されている。なお、成膜室30及びグローブボックス32には、内部への大気成分をパージするためのパージガスが流通している。
この気相成長装置を使用して基板20に薄膜を成長させる際には、1回の成膜操作が終了したときに、チャンバー蓋18を上昇させ、仕切扉31を開いて薄膜が形成された基板20を取り出すとともに、内周側仕切板16b及びホルダーカバー25aを成膜室30からグローブボックス32に取り出し、あらかじめグローブボックス32内に用意した新品又は洗浄後の清浄な状態の内周側仕切板16b及びホルダーカバー25aをチャンバー12内の所定位置に配置するとともに、新たな基板20を所定位置に設置した状態で次の成膜操作を開始する。
このように、各成膜操作毎に清浄な状態の内周側仕切板16b及びホルダーカバー25aを使用することにより、成膜操作の際の反応室15内の熱環境を一定に保つことができ、さらに、付着物が付着していない状態で成膜操作を行うので、付着物に起因するパーティクルが薄膜中に混入することもなくなる。したがって、再現性が良好で高品質な薄膜を安定して得ることができ、歩留まりの向上が図れる。また、内周側仕切板16bやホルダーカバー25aが付着物によって侵食されることも抑制できるので、これらの部品寿命も延ばすことができる。
なお、グローブボックス32及び仕切扉31の大きさや形状、成膜室30への取付位置は、気相成長装置の大きさなどの条件に応じて設定すればよく、複数のグローブボックス32を連設することもできる。また、仕切板16やサセプタカバー25の分割数や分割形状は任意であり、ガス導入管11や昇降手段26を避けてグローブにて取り扱える大きさにすればよい。さらに、グローブボックス32には、チャンバー12内から取り出した仕切板16やサセプタカバー25を洗浄場所に移送するための移送容器を着脱可能に設けておくこともできる。
チャンバー12から取り外した仕切板16やサセプタカバー25の洗浄は任意の方法で行うことができるが、Cl2,HCl,SiCl4,SiCl2H2等の塩素系ガスの少なくとも1種以上を含むガスを使用し、熱分解反応によって付着物を除去する方法で行うことが好ましい。前記塩素系ガスは、これらの塩素系ガスと反応しないガス、例えば窒素やアルゴン等の不活性ガスにより希釈して使用することができる。
大気圧下で基板上に6周期のInGaN/GaN多重量子井戸構造を持つLED膜を4回連続して成膜した。LED膜の構造は、Mg−GaN(厚さ100nm)/6×[InGaN(厚さ2.2nm)/GaN(厚さ10nm)]/SiドープGaN(厚さ4μm)/低温成長GaN(厚さ25nm)/2インチC面サファイア基板とした。窒素の原料ガスには高純度アンモニア、キャリアガスには水素と窒素の混合ガス、Inの原料にはトリメチルインジウム、Gaの原料にはトリメチルガリウム、Siの原料には窒素ベース10ppmシランを用いた。
図2に、初回のみ洗浄したものを使用して4回連続して成膜したときと、毎回洗浄したものを使用したときとにおけるフォトルミネッセンス測定装置で求めた各PL発光波長の関係を示す。また、表3に各成膜操作で得たLED膜における電流注入発光出力を示す。
大気圧下で基板上に6周期のInGaN/GaN多重量子井戸構造膜を4回連続して成膜した。膜の構造は、/6×[InGaN(厚さ2.5nm)/GaN(厚さ12nm)]/SiドープGaN(厚さ4μm)/低温成長GaN(厚さ25nm)/2インチC面サファイア基板とした。窒素の原料ガスには高純度アンモニア、キャリアガスには窒素、Inの原料にはトリメチルインジウム、Gaの原料にはトリメチルガリウム、Siの原料には窒素ベース10ppmシランを用いた。
11…ガス導入管、11a…上部フランジ、12…チャンバー、13…サセプタ、14…基板ホルダー、15…反応室、16…仕切板、16a…外周側仕切板、16b…内周側仕切板、16c…摘み部、17…チャンバー本体、18…チャンバー蓋、19…回転駆動軸、20…基板、21…ヒーター、22…排気通路、23…ガイド筒、24…ノズル、25…サセプタカバー、25a…ホルダーカバー、25b…カバー本体、26…昇降手段、26a…ブラケット、27…ベローズ、30…成膜室、31…仕切扉、32…グローブボックス
Claims (2)
- 外周部に複数の基板を保持して回転する円盤状のサセプタと、前記サセプタの表面に対向配置されてサセプタ中心部から外周部に向けて原料ガスを導入するガス導入管とを偏平円筒状のチャンバー内に収容した気相成長装置において、前記チャンバーを、前記サセプタ側に配置されて反サセプタ側が開口したチャンバー本体と、該チャンバー本体の前記開口に気密に装着されるチャンバー蓋とに分割形成し、該チャンバー蓋の中央部に前記ガス導入管を挿通する挿通口を設けるとともに、該挿通口の開口縁と前記ガス導入管の上部との間に円筒状の伸縮部材を気密に取り付けて前記チャンバー蓋を上下動可能に形成し、前記ガス導入管の先端とチャンバー本体外周壁との間に複数に分割形成した仕切板を設けて前記チャンバー内を上下に区画してサセプタ側に反応室を形成し、前記サセプタの反応室側の面に複数に分割形成されたサセプタカバーを設け、前記チャンバーを仕切扉を介してグローブボックスが連設された成膜室内に収容し、前記チャンバー蓋を前記チャンバー本体から離間させた状態で、前記グローブボックス内からチャンバー内の前記分割形成した仕切板及びサセプタカバーを前記成膜室からグローブボックス内に取出可能、かつ、グローブボックス内からチャンバー内に装着可能に形成したことを特徴とする気相成長装置。
- 請求項1記載の気相成長装置を用いた気相成長方法において、前記反応室に原料ガスを導入して前記基板面に薄膜を成長させる成膜操作を行う際に、前回の成膜操作において前記反応室で前記原料ガスに接触した前記分割形成した仕切板及びサセプタカバーを、前記グローブボックス内からのグローブ操作により、清浄な状態の前記分割形成した仕切板及びサセプタカバーと交換してから成膜操作を開始することを特徴とする気相成長方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012202327A JP5337902B2 (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 気相成長装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012202327A JP5337902B2 (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 気相成長装置及び方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007102658A Division JP2008262967A (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 気相成長方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012256937A JP2012256937A (ja) | 2012-12-27 |
JP5337902B2 true JP5337902B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=47528117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012202327A Expired - Fee Related JP5337902B2 (ja) | 2012-09-14 | 2012-09-14 | 気相成長装置及び方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5337902B2 (ja) |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63226919A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-21 | Nec Corp | 気相成長装置 |
JPS6489319A (en) * | 1987-09-29 | 1989-04-03 | Toshiba Corp | Device for formation of optically pumped film |
FR2628984B1 (fr) * | 1988-03-22 | 1990-12-28 | Labo Electronique Physique | Reacteur d'epitaxie a planetaire |
JPH0316121A (ja) * | 1989-03-15 | 1991-01-24 | Toshiba Corp | 気相成長装置 |
JPH0330259U (ja) * | 1989-07-26 | 1991-03-25 | ||
JP2505426Y2 (ja) * | 1989-09-05 | 1996-07-31 | 日本酸素株式会社 | 気相成長装置 |
JPH03120367A (ja) * | 1989-10-03 | 1991-05-22 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Cvd反応炉の覆い蓋 |
JP3146021B2 (ja) * | 1991-07-08 | 2001-03-12 | 株式会社東芝 | 半導体気相成長装置 |
JPH0888187A (ja) * | 1994-09-20 | 1996-04-02 | Hitachi Ltd | 半導体の気相成長装置及び方法 |
JP2002105644A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Dowa Mining Co Ltd | 薄膜成長方法および薄膜成長装置 |
JP4351556B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2009-10-28 | 大陽日酸株式会社 | 気相成長装置 |
JP4542860B2 (ja) * | 2004-10-04 | 2010-09-15 | 大陽日酸株式会社 | 気相成長装置 |
KR100558922B1 (ko) * | 2004-12-16 | 2006-03-10 | (주)퓨전에이드 | 박막 증착장치 및 방법 |
US7534469B2 (en) * | 2005-03-31 | 2009-05-19 | Asm Japan K.K. | Semiconductor-processing apparatus provided with self-cleaning device |
-
2012
- 2012-09-14 JP JP2012202327A patent/JP5337902B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012256937A (ja) | 2012-12-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130724 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130805 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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