KR20130034603A - 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치 및 세정 방법 - Google Patents

기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치 및 세정 방법 Download PDF

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KR20130034603A
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니폰 파이오니쿠스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 베어링에 의한 회전 기구를 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터를 내장하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치로서, 기상 성장 후의 기판 홀더, 서셉터 등의 기상 성장 장치 구성 부품에 부착되는 부착물 혹은 퇴적물을 효율적으로 제거하는 세정 장치 및 세정 방법을 제공하는 것으로, 서셉터 및 기판 홀더의 수납부, 서셉터를 회전시키는 수단 및/또는 기판 홀더를 회전시키는 수단, 히터, 세정 가스 도입부 및 세정 가스 배출부를 구비하여 이루어지는 세정 장치로 하여, 상기 세정 장치에 기상 성장에 사용한 후의 기판 홀더를 보유한 서셉터를 수납하여 서셉터 및/또는 기판 홀더를 회전시키는 동시에, 세정 가스를 도입하여 기상 성장시에 부착된 부착물 혹은 퇴적물을 제거한다.

Description

기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치 및 세정 방법{CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD FOR COMPONENTS OF METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE}
본 발명은 기상 성장시에 기상 성장 장치(MOCVD 장치)의 구성 부품에 부착된 반응물을 효율적으로 제거하기 위한 세정 장치 및 세정 방법에 관한 것이다.
유기 금속 화합물 기상 성장법(MOCVD법)은 분자선 에피택시법(MBE법)과 그리고 질화물 반도체의 결정 성장에 자주 이용된다. 특히 MOCVD법은 MBE법에 비해 결정 성장 속도도 빠르고, 또 MBE법과 같이 고진공 장치 등도 필요 없다는 점으로부터 산업계의 화합물 반도체 양산 장치에서 널리 이용되고 있다. 최근, 청색 또는 자외 LED 및 청색 또는 자외 레이저 다이오드의 보급에 따라, 질화 갈륨, 질화 인듐 갈륨, 질화 알루미늄 갈륨의 결정 성장과 관련된 양산성을 향상시키기 위해서, MOCVD법의 대상이 되는 기판의 대구경(大口徑)화, 다수매(多數枚)화와 관련된 연구가 많이 이루어지고 있다.
이와 같은 기상 성장 장치로는, 예를 들면 특허문헌 1~5에 나타내는 바와 같이, 기판(기판 홀더)을 보유하는 서셉터, 서셉터의 반대면, 기판을 가열하기 위한 히터, 서셉터와 서셉터의 반대면의 틈새로 이루어진 반응로, 반응로의 중심부로부터 주변부를 향해 원료 가스를 공급하는 원료 가스 도입부 및 반응 가스 배출부를 가지는 기상 성장 장치를 들 수 있다. 이들 기상 성장 장치에서는, 복수의 기판 홀더가 서셉터에 마련되어 있으며, 모터 등의 구동 수단 및 회전 전달 수단에 의해 서셉터가 자전하는 동시에, 기판 홀더가 자공전(自公轉)하는 구성으로 되어 있다. 또, 기상 성장 장치의 형태로는, 주로 결정 성장면을 상향으로 한 것(페이스업형), 결정 성장면을 하향으로 한 것(페이스다운형)의 2종류가 제안되고 있다.
이와 같은 기상 성장 장치를 이용해 기상 성장을 행할 때에는 각종 원료 가스는 고온으로 가열 보유된 기판 표면에서 분해되어 결정화되지만, 히터에 의해 기판 홀더 및 서셉터의 기판 보유부 근변도 가열되어, 이들 표면에서 원료 가스가 반응해 반응물이 부착, 퇴적되고, 성장 시간 혹은 성장 회수의 증가와 함께 부착량 혹은 퇴적량이 증가한다. 그 결과, 다음의 기판 상의 결정 성장에 악영향을 미치므로, 적절히 이들 부품을 기상 성장 장치로부터 떼어내어 각 부품마다 세정할 필요가 있었다.
이들 기판 홀더, 서셉터 등의 기상 성장 장치 구성 부품의 세정은 예를 들면, 특허문헌 6, 7에 나타내는 바와 같이 전용 세정 장치 내에서, 가열 하에서 세정 가스와 접촉시킴으로써 행해진다.
일본 특개 2002-175992호 공보 일본 특개 2007-96280호 공보 일본 특개 2007-243060호 공보 일본 특개 2009-99770호 공보 일본 특원 2011-91388 일본 특개 2006-332201호 공보 일본 특개 2007-109928호 공보
그렇지만, 특허문헌 1과 같이 베어링을 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터, 혹은 베어링을 통해 서셉터를 회전 자재로 보유하는 베이스 플레이트를 내장하는 구성의 기상 성장 장치의 경우에는, 부품마다 세정을 실시하는 종래의 세정 방법에서는 구성 부품의 하나인 베어링이 다수 있기 때문에 서셉터로부터 기판 홀더를 떼어내고, 서셉터에 대한 기판 홀더의 부착 등에 시간이 든다는 불편함이 있었다. 따라서, 본 발명이 해결하려고 하는 과제는 상기와 같은 기상 성장 장치에 있어서, 기상 성장 후의 기판 홀더, 서셉터 등의 기상 성장 장치 구성 부품에 부착되는 부착물 혹은 퇴적물(이하, 「반응물」이라고 함)을 효율적으로 제거하는 세정 장치 및 세정 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 이들 과제를 해결하기 위하여 열심히 검토한 결과, 전술한 바와 같은 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치에 있어서, 서셉터를 회전시키는 수단, 기판 홀더를 회전시키는 수단을 마련해 이것들을 회전시키는 동시에, 세정 가스를 도입함으로써, 베이스 플레이트로부터 서셉터를 떼어내는 일 없이, 또 서셉터로부터 기판 홀더를 떼어내는 일 없이, 서셉터, 기판 홀더 및 베어링 등에 부착된 반응물을 효율적으로 용이하게 제거할 수 있다는 것을 알아내어 본 발명의 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치 및 세정 방법에 도달했다.
즉, 본 발명은 베어링에 의한 회전 기구를 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터를 내장하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치로서, 서셉터 및 기판 홀더의 수납부, 서셉터를 회전시키는 수단 및/또는 기판 홀더를 회전시키는 수단, 히터, 세정 가스 도입부 및 세정 가스 배출부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치이다.
또, 본 발명은 상기 세정 장치에, 기상 성장에 사용한 후의 기판 홀더를 보유한 서셉터를 수납해, 서셉터 및/또는 기판 홀더를 회전시키는 동시에, 세정 가스를 도입하여 기상 성장시에 부착된 반응물을 제거하는 것을 특징으로 하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 방법이기도 하다.
본 발명에서는 서셉터, 기판 홀더 및 베어링 등의 구성 부품의 세정 전의 분해, 떼어내기 및 이들 구성 부품 세정 후의 조립이 불필요하므로, 세정 전후의 작업 시간이 단축화된다. 또, 상기의 작업은 통상은 사람의 손에 의해 행해지지만, 본 발명에서는 상기 작업은 생략할 수 있으므로, 세정 공정을 자동 제어에 의해 행하는 것이 가능하고, 나아가 구성 부품을 공기와 접촉시키는 일 없이 세정할 수 있으므로, 효율적으로 반응물의 제거를 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 세정 장치(서셉터 수납 전)의 일례를 나타내는 단면 구성도이다.
도 2는 본 발명의 세정 장치(서셉터 수납 후)의 일례를 나타내는 단면 구성도이다.
도 3은 본 발명의 도 1 이외의 세정 장치(서셉터 수납 전)의 일례를 나타내는 단면 구성도이다.
도 4는 본 발명의 도 1, 도 3 이외의 세정 장치(서셉터 수납 전)의 일례를 나타내는 단면 구성도이다.
도 5는 본 발명에서의 서셉터와 서셉터 회전판의 형태의 일례를 나타내는 평면도이다.
도 6은 본 발명에서의 기판 홀더와 기판 홀더 회전판의 형태의 일례를 나타내는 평면도이다.
본 발명은 베어링을 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터를 가지는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치 및 세정 방법에 적용된다. 본 발명에서의 기상 성장 장치로는, 예를 들면, 갈륨, 인듐, 알루미늄으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속과 질소의 화합물로 이루어진 질화물 반도체의 결정 성장을 행하기 위한 기상 성장 장치를 들 수 있다. 본 발명은 특히, 서셉터를 회전시키면 이것에 연동해 기판 홀더가 회전하는 회전 기구를 가지는 기상 성장 장치, 또한 반응물이 서셉터의 반대면 표면에 퇴적하기 어렵게 서셉터의 표면에 퇴적하기 쉬운 기상 성장면을 하향으로 한 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정에 매우 적합하게 적용된다.
이하, 본 발명의 세정 장치 및 세정 방법에 대해서, 도 1~도 6에 근거해 상세하게 설명하지만, 본 발명이 이것들에 의해 한정되는 것은 아니다.
또한, 도 1은 본 발명의 세정 장치(서셉터 수납 전)의 일례를 나타내는 단면 구성도, 도 2는 본 발명의 세정 장치(서셉터 수납 후)의 일례를 나타내는 단면 구성도, 도 3, 도 4는 본 발명의 도 1 이외의 세정 장치(서셉터 수납 전)의 일례를 나타내는 단면 구성도, 도 5는 본 발명에서의 서셉터와 서셉터 회전판의 형태의 일례를 나타내는 평면도 및 도 6은 본 발명에서의 기판 홀더와 기판 홀더 회전판의 형태의 일례를 나타내는 평면도이다.
본 발명의 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치는 세정 대상의 서셉터를 수납하기 전에는 도 1, 세정 대상의 서셉터를 수납한 후에는 도 2에 나타내는 구성의 장치이다. 즉, 베어링에 의한 회전 기구를 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 도 5에 나타내는 서셉터를 내장하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치로서, 도 1에 나타내는 바와 같이 서셉터 및 기판 홀더의 수납부(1), 서셉터를 회전시키는 수단(서셉터 회전판(5), 서셉터 회전축(6), 회전 모터 등의 회전 구동 수단) 및/또는 기판 홀더를 회전시키는 수단(기판 홀더 회전판(7), 기판 홀더 회전축(8), 회전 모터 등의 회전 구동 수단), 히터(2), 세정 가스 도입부(3) 및 세정 가스 배출부(4)를 구비하여 이루어지는 세정 장치이다.
다음에, 본 발명의 세정 장치에서의 서셉터를 회전시키는 수단에 대해서 설명한다. 통상의 기상 성장 장치에 있어서, 베어링에 의한 회전 기구를 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터는, 예를 들면 특허문헌 1에 기재되어 있듯이, 서셉터 아래에 장치에 고정되어 베이스 플레이트가 설치되고, 베어링을 통해 서셉터를 회전 자재로 보유하는 구성으로 되어 있다. 또한, 외부로부터의 회전 구동 수단에 의해 서셉터로부터 외주측의 구동 기어가 회전하여, 서로의 톱니바퀴를 통해 서셉터가 회전하는 구성으로 되어 있다. 또, 그 밖의 기상 성장 장치의 예로는, 예를 들면 특허문헌 4에 기재되어 있듯이, 중앙부에 서셉터를 회전시키기 위한 회전 구동축을 구비한 기상 성장 장치도 있다.
본 발명에서는 특허문헌 1에 기재되어 있는 기상 성장 장치의 서셉터 등을 세정하는 경우, 도 1, 도 3에 나타내는 바와 같이, 베이스 플레이트를 보유하는 베이스 플레이트 보유판(9)(통상은 링 모양)이 구비된 세정 장치를 이용할 수 있다. 이때, 도 2에 나타내는 바와 같이, 베이스 플레이트(10)로부터 서셉터(11)를 떼어내는 일 없이, 또 베어링을 포함하는 구성 부품을 분해하는 일 없이, 이것들이 베이스 플레이트 보유판(9) 위에 설치된다. 또, 외주에 톱니바퀴를 가지는 서셉터(11)는 도 5에 나타내는 바와 같이, 외주에 상기의 톱니바퀴와 서로 맞물리는 톱니바퀴를 가지는 서셉터 회전판(5)과 서로 맞물린다. 서셉터(11)는 세정시에 회전 모터 등의 회전 구동 수단(도시하지 않음)으로부터의 회전력이 서셉터 회전축(6), 서셉터 회전판(5)을 통해 전달됨으로써 회전한다. 또한, 기판 홀더만이 회전해 서셉터의 하부에 베어링 기구가 없는 구성의 경우에는 서셉터를 직접 베이스 플레이트 보유판(9)에 설치해도 된다.
다음에, 본 발명의 세정 장치에서의 기판 홀더를 회전시키는 수단에 대해서 설명한다. 베어링에 의한 회전 기구를 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터로는, 예를 들면 특허문헌 5에 기재되어 있듯이, 복수의 기판 홀더 아래에 서셉터가 배치되어 베어링을 통해 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 구성으로 되어 있는 것이 있다. 본 발명에서는 이와 같은 기상 성장 장치의 기판 홀더 등을 세정하는 경우, 도 2에 나타내는 바와 같이 서셉터(11)로부터 기판 홀더(12)를 떼어내는 일 없이, 또 베어링을 포함하는 구성 부품을 분해하는 일 없이, 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 서셉터가 베이스 플레이트 보유판(9) 위에 설치된다. 이때, 외주에 톱니바퀴를 가지는 기판 홀더(12)는 도 5에 나타내는 바와 같이, 외주에 상기 톱니바퀴와 서로 맞물리는 톱니바퀴를 가지는 기판 홀더 회전판(7)과 서로 맞물린다. 기판 홀더(12)는 세정시에 회전 모터 등의 회전 구동 수단(도시하지 않음)으로부터의 회전력이 기판 홀더 회전축(8), 기판 홀더 회전판(7)을 통해 전달됨으로써 회전한다.
또한, 특허문헌 1에 기재되어 있는 기상 성장 장치는 서셉터를 회전시키면 이것에 연동해 기판 홀더가 회전하는 회전 기구를 가지는 기상 성장 장치이다. 따라서, 이와 같은 기상 성장 장치의 서셉터를 세정할 때에는, 기판 홀더 회전판(7) 및 기판 홀더 회전축(8), 및 이것들을 회전시키기 위한 회전 구동 수단은 불필요하다. 단, 기판 홀더(기판 트레이)의 자전을 발생시키기 위한 고정 기어 또는 이와 같은 효과를 발휘할 수 있는 부재가 필요하다.
또, 특허문헌 4에 기재되어 있는 기상 성장 장치는 중앙부에 서셉터 회전판 및 서셉터 회전축을 가지는 기상 성장 장치이다. 이와 같은 기상 성장 장치의 서셉터를 세정할 때에는 도 1의 본 발명의 세정 장치의 기판 홀더 회전판(7) 및 기판 홀더 회전축(8)을 도 3에 나타내는 바와 같이, 서셉터 회전판(5) 및 서셉터 회전축(6)으로서 이용할 수 있다. 이 경우에는 도 1에서의 서셉터 회전판(5), 서셉터 회전축(6) 및 이것들을 회전시키기 위한 회전 구동 수단은 불필요하다.
본 발명의 세정 장치는 도 4에 나타내는 바와 같이, 추가로 서셉터(기판 홀더)의 수납 위치와 히터(2)의 사이에 광 투과성 세라믹스판(13)을 구비할 수 있다. 광 투과성 세라믹스판(13)의 재질로는 석영, 사파이어 등을 들 수 있다. 광 투과성 세라믹스판을 설치하는 목적은 고온의 세정 가스로부터 히터를 보호하기 위해서이다. 또, 히터(2)와 광 투과성 세라믹스판(13) 사이의 공간에 질소 등의 불활성 가스를 도입하여 히터(2)의 보호를 강화할 수도 있다. 또한, 도 1, 도 3에서는 세정 가스 도입부(3)는 세정 장치의 중앙부, 및 세정 가스 배출부(4)는 세정 장치의 주변부에 설치되어 있지만, 이들 위치로 한정되는 일은 없다.
본 발명의 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 방법은 이상과 같은 세정 장치에 기상 성장에 사용한 후의 기판 홀더를 보유한 서셉터를 수납하여 서셉터 및/또는 기판 홀더를 회전시키는 동시에, 세정 가스를 도입하여 기상 성장시에 부착된 반응물을 제거하는 세정 방법이다.
본 발명의 세정 방법에 이용되는 세정 가스의 종류로는, 특별히 제한되는 일은 없지만, 예를 들면 염소 또는 염화 수소를 0.1~5 vol％ 포함하는 수소 가스, 염소 또는 염화 수소를 0.1~5 vol％ 포함하는 불활성 가스 등을 들 수 있다. 세정시의 서셉터, 기판 홀더의 온도는 질화물 반도체의 결정 성장을 행했을 경우에는 통상은 900~1200℃이다.
실시예
다음에, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 이것들에 의해 한정되는 것은 아니다.
[ 실시예 1]
(기상 성장)
베어링에 의한 회전 기구를 통해 5개의 기판 홀더를 회전 자재로 보유하는 원판 모양의 서셉터(SiC 코트 카본제, 직경 600㎜, 두께 20㎜)를 내장하는 특허문헌 5에 기재된 형태의 기상 성장 장치를 이용하여, 3인치 크기의 사파이어로 이루어진 기판 5매의 표면에 질화 갈륨(GaN)의 성장을 행했다.
최초로 수소를 흘리면서 기판의 온도를 1050℃까지 상승시키고 기판의 클리닝을 행한 후, 기판의 온도를 510℃까지 내리고, 원료 가스로서 트리메틸갈륨(TMG)과 암모니아, 캐리어 가스로서 수소를 이용하여 사파이어 기판 상에 GaN으로 이루어진 버퍼층을 약 20㎚의 막 두께로 성장시켰다.
버퍼층 성장 후에 TMG만 공급을 정지하고 온도를 1050℃까지 상승시켰다. 그 후, 원료 가스로서 트리메틸갈륨(TMG)과 암모니아, 캐리어 가스로서 수소 등 (질소를 포함함)을 반응로에 흘려 질화 갈륨을 3시간 성장시켰다. 또한, 버퍼층을 포함한 모든 성장은 기판을 10rpm, 서셉터를 1rpm의 회전 속도로 행했다.
이상과 같이 질화물 반도체를 성장시킨 후, 온도를 내리고, 기판 홀더를 보유한 서셉터를 반응 용기로부터 꺼내고, 5매의 기판을 떼었다.
(세정 장치의 제작)
원판 모양의 서셉터(SiC 코트 카본제, 직경 600㎜, 두께 20㎜) 및 3인치 크기의 기판을 재치할 수 있는 5개의 기판 홀더가 수납 가능한 도 1에 나타내는 세정 장치를 제작했다. 또한, 서셉터 회전판(5)의 직경은 80㎜, 기판 홀더 회전판(7)의 직경은 200㎜였다. 또, 베이스 플레이트 보유판(9)은 내경이 500㎜, 외경이 700㎜인 링 모양이었다. 이들 부재는 모두 카본제이다. 서셉터 회전판(5)은 회전 모터로부터의 회전력이 서셉터 회전축(6)을 통해 전달됨으로써 회전하며, 기판 홀더 회전판(7)은 상기와는 별도의 회전 모터로부터의 회전력이 기판 홀더 회전축(8)을 통해 전달됨으로써 회전하는 구성으로 되어 있다.
(서셉터 및 기판 홀더의 세정)
다음에, 전술한 기상 성장 후의 기판 홀더를 보유한 서셉터를 세정 장치의 소정의 장소에 수납하고, 서셉터의 표면을 1050℃의 온도로 가열하는 동시에 세정 가스 도입부로부터 염화 수소를 1 vol％ 포함하는 수소 가스를 100 L/분의 유량으로 공급하여 서셉터 및 기판 홀더의 세정을 7시간 행했다. 그 동안, 기판을 10rpm, 서셉터를 1rpm의 회전 속도로 회전시켰다.
이상과 같이 서셉터 및 기판 홀더의 세정을 행한 후, 온도를 내리고 이것들을 세정 장치로부터 꺼냈다. 서셉터의 표면에는 반응물이 확인되지 않았다. 또, 서셉터 및 기판 홀더를 분해해 평가한 결과, 이들 내부 및 베어링에도 반응물이 확인되지 않았다.
[ 실시예 2]
실시예 1과 동일하게 하여 기상 성장을 행했다. 다음에, 실시예 1의 서셉터 및 기판 홀더의 세정에 있어서, 기판 홀더의 회전 속도를 5rpm, 서셉터의 회전 속도를 0.5rpm로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 서셉터 및 기판 홀더의 세정을 행했다. 그 후, 온도를 내려 이것들을 세정 장치로부터 꺼냈다. 서셉터의 표면에는 반응물이 확인되지 않았다. 또, 서셉터 및 기판 홀더를 분해해 평가한 결과, 이들 내부 및 베어링에도 반응물이 확인되지 않았다.
[ 실시예 3]
실시예 1과 동일하게 하여 기상 성장을 행했다. 다음에, 실시예 1의 서셉터 및 기판 홀더의 세정에 있어서, 서셉터 및 기판 홀더의 세정을 4시간으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 서셉터 및 기판 홀더의 세정을 행했다. 그 후, 온도를 내려 이것들을 세정 장치로부터 꺼냈다. 서셉터의 표면에는 반응물이 확인되지 않았다. 또, 서셉터 및 기판 홀더를 분해해 평가한 결과, 이들 내부 및 베어링에 약간의 반응물이 확인되었다.
[ 비교예 1]
실시예 1과 동일하게 하여 기상 성장을 행했다. 다음에, 서셉터를 회전시키는 수단 및 기판 홀더를 회전시키는 수단을 가지지 않는 세정 장치를 이용한 것을 상정하고, 실시예 1의 서셉터 및 기판 홀더의 세정에 있어서 기판 홀더 및 서셉터를 회전시키지 않았던 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 서셉터 및 기판 홀더의 세정을 행했다. 서셉터의 표면에는 반응물이 확인되지 않았다. 또, 서셉터 및 기판 홀더를 분해해 평가한 결과, 이들 내부 및 베어링에는 다량의 반응물이 확인되었다.
이상과 같이, 본 발명의 세정 장치 및 세정 방법에서는 서셉터, 기판 홀더 및 베어링 등의 구성 부품의 분해, 떼어내기를 하는 일 없이, 이것들을 효율적으로 세정할 수 있다는 것이 확인되었다.
1 서셉터 및 기판 홀더의 수납부
2 히터
3 세정 가스 도입부
4 세정 가스 배출부
5 서셉터 회전판
6 서셉터 회전축
7 기판 홀더 회전판
8 기판 홀더 회전축
9 베이스 플레이트 보유판
10 베이스 플레이트
11 서셉터
12 기판 홀더
13 광 투과성 세라믹스판
14 기판 홀더를 재치하기 위한 구멍

Claims (7)

  1. 베어링에 의한 회전 기구를 통해 복수의 기판 홀더를 회전 자재(自在)로 보유하는 서셉터를 내장하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치로서, 상기 서셉터 및 상기 기판 홀더의 수납부, 상기 서셉터를 회전시키는 수단 및/또는 상기 기판 홀더를 회전시키는 수단, 히터, 세정 가스 도입부 및 세정 가스 배출부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 서셉터를 회전시키는 수단이 서셉터 회전판, 서셉터 회전축 및 회전 구동 수단으로 이루어진 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판 홀더를 회전시키는 수단이 중앙부에 설치된 기판 홀더 회전판, 기판 홀더 회전축 및 회전 구동 수단으로 이루어진 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 서셉터의 수납부와 상기 히터의 사이에 광 투과성 세라믹스판을 추가로 구비하여 이루어지는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 기상 성장 장치가 상기 서셉터를 회전시켜면 이것에 연동하여 상기 기판 홀더가 회전하는 회전 기구를 가지는 기상 성장 장치인 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 기상 성장 장치가 기상 성장면을 하향으로 한 기상 성장 장치인 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치.
  7. 청구항 1에 기재된 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 장치에 기상 성장에 사용한 후의, 상기 기판 홀더를 보유한 상기 서셉터를 수납하고, 이 서셉터 및/또는 이 기판 홀더를 회전시키는 동시에 세정 가스를 도입하여 기상 성장시에 부착된 반응물을 제거하는 것을 특징으로 하는 기상 성장 장치의 구성 부품의 세정 방법.
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