JP5328015B2 - 画像表示システム及びその製造方法 - Google Patents
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Description
mobility)(>20cm2/Vsec)を有するため、LTPSトランジスタは、それに応じた好ましい寸法と、比較的大きな開孔率と、比較的低い消費電力とを有する。また、低温ポリシリコンのプロセスは、同一基板で駆動回路と薄膜トランジスタとを同時に製造することが可能であり、表示パネルの信頼性を向上させて表示パネルの製造コストを削減することができる。
drain/source; LDD)領域140、144と、ソース/ドレイン領域142、146とを同時に形成する。注意するのは、N+ドーピングプロセスがゲート電極の形成後に行われることから、上述のゲート電極130、132と、134がチャネル領域112a、114aと、115aのマスクとなることができる。
junction)の現象が生じる。1つの好ましい実施例では、接触孔152cを下電極116とソース/ドレイン領域146の互いに近接した、または隣接した位置に設置して、導線154cを接触孔152cの中に入れ、ここで生じた電子と正孔を導き出すことができる。これによって、PN接合現象の発生を防ぐことが可能になる。
102、202 緩衝層
104、204 駆動領域
106、206 画素領域
108 半導体層
110、122、138、232、244 ドーピングプロセス
112、114、208、210 活性層
112a、114a、115a、208a、210a、212a チャネル領域
114b、142、146、236、242、246 ソース/ドレイン領域
115、212 ドープされた半導体層
116、212b 下電極
118、120 パターン化されたフォトレジスト層
124、214 ゲート絶縁層
125、216 誘電材料層
126、127、128、129、226、228、230 誘電体層
126a、127a、128a、226a、228a、230a 延伸部
130、132、134、218、220、222 ゲート電極
136、224 上電極
140、144、234、238 軽ドープソース/ドレイン領域
148、248 層間絶縁層
150、250 保護層
152a、152b、152c、252a、252b、252c 接触孔
154a、154b、154c、254a、254b、254c 導線
156、256 平坦層
158、258 開口
160、260 画素電極
162、262 N型金属酸化膜半導体素子
164、264 P型金属酸化膜半導体素子
166、266 薄膜トランジスタ
168、268 蓄積キャパシタ
242、243 フォトレジスト材料
300 画像表示システム
310 表示パネル
320 制御ユニット
Claims (9)
- 画像表示システムであって、
基板、
前記基板上に形成された第1活性層、
前記第1活性層を覆うゲート絶縁層、
前記ゲート絶縁層上に位置され、延伸部を有する誘電体層、及び
前記誘電体層上に形成され、前記延伸部を露出する第1ゲート電極を含む低温ポリシリコンの駆動回路と薄膜トランジスタ、
前記基板上に形成され、上電極と下電極を含む蓄積キャパシタ、
前記ゲート絶縁層の中に形成され、且つ前記下電極が前記第1活性層と隣接した領域を露出する接触孔、
前記基板の上方に形成されて駆動電極と薄膜トランジスタを電気的に接続する複数の導線、及び
前記薄膜トランジスタに電気的に接続される画素電極、
前記蓄積キャパシタの前記下電極はドーパントを含み、前記ドーパントと前記第1活性層に含まれるドーパントは相反する導電型を有する画像表示システム。 - 前記第1活性層は、
第1ゲート電極に対応した第1チャネル領域、
前記第1チャネル領域に隣接した第1軽ドープソース/ドレイン領域、及び前記第1軽ドープソース/ドレイン領域に隣接した第1ソース/ドレイン領域を含む請求項1に記載の画像表示システム。 - 前記駆動回路は、
前記基板上に形成され、第2チャネル領域と前記第2チャネル領域に隣接したソース/ドレイン領域を有する第2活性層、
前記ゲート絶縁層上に形成された第2誘電体層、及び
前記第2誘電体層上に形成され、前記第2チャネル領域に対応した第2ゲート電極を更に含む請求項2に記載の画像表示システム。 - 前記第2ゲート電極の底部幅は、前記第2チャネル領域の長さより大きく、前記第2チャネル領域の長さは、前記第1チャネル領域の長さより小さい請求項3に記載の画像表示システム。
- 前記第2ゲート電極の底部幅は、前記第2チャネル領域の長さより大きく、前記第2ゲート電極の底部幅は、前記第1ゲート電極の底部幅より大きい請求項3に記載の画像表示システム。
- 前記低温ポリシリコンの駆動回路と薄膜トランジスタを含む表示パネル、及び
前記表示パネルに接続され、前記表示パネルを制御する制御ユニットを更に含む請求項1に記載の画像表示システム。 - 前記画像表示システムは、前記表示パネルを用いた電子装置を含み、前記電子装置は、携帯電話、デジタルカメラ、PDA、ノート型パソコン、デスクトップ型パソコン、テレビ、カーディスプレイ、全地球測位システム(GPS)、航空機用ディスプレイ、またはポータブルDVDプレーヤーを含む請求項6に記載の画像表示システム。
- 画像表示システムの製造方法であって、
基板を提供するステップ、
前記基板上に第1活性層と第2活性層を形成するステップ、
前記基板上にフォトレジスト材料を形成するステップ、
前記フォトレジスト材料をパターン化して一部の前記第2活性層を露出するステップ、
第2ドーピングプロセスを行って、第2活性層の中にチャネル領域と第2ソース/ドレイン領域、及び蓄積キャパシタの下電極を形成するステップ、
前記フォトレジスト材料を除去するステップ、
前記基板の上方に誘電材料層を堆積するステップ、
前記誘電材料層上に金属層を堆積するステップ、
前記金属層をパターン化して、第1活性層と第2活性層の上方に第1ゲート電極と第2ゲート電極をそれぞれ形成し、且つ前記蓄積キャパシタの上電極を形成するステップ、
前記第1ゲート電極と第1活性層との間に延伸部を有する誘電体層を同時に形成するステップ、
前記第2活性層の前記チャネルの長さが前記第2ゲート電極の底部幅より小さく、
第1ドーピングプロセスを行って前記第1活性層の中に軽ドープソース/ドレイン領域とソース/ドレイン領域を同時に形成するステップを含む低温ポリシリコンの駆動回路と薄膜トランジスタを製造するステップ、
前記基板上に保護層を形成し、前記駆動回路と、前記薄膜トランジスタと、前記蓄積キャパシタとを覆うステップ、及び
前記保護層をパターン化して前記保護層の中に、前記下電極と前記第1ソース/ドレイン領域が隣接した領域を露出する接触孔を形成するステップ、
前記基板上に複数の導線を形成して前記駆動電極と前記薄膜トランジスタを電気的に接続するステップ、及び
前記基板上に画素電極を形成して前記薄膜トランジスタを電気的に接続するステップ、を含み
前記蓄積キャパシタの前記下電極はドーパントを含み、前記ドーパントと前記第1活性層に含まれるドーパントは相反する導電型を有する画像表示システムの製造方法。 - 前記金属層のパターン化は、
一部の前記金属層上にパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップ、及び
オーバーエッチングステップを行い、一部の前記金属層と一部の前記誘電材料層とを除去して、前記第1と第2ゲート電極と、前記延伸部を有する前記誘電体層とを形成するステップ、及び
前記パターン化されたフォトレジスト層を除去するステップを含む請求項8に記載の画像表示システムの製造方法。
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