JP5319730B2 - フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 - Google Patents
フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5319730B2 JP5319730B2 JP2011105209A JP2011105209A JP5319730B2 JP 5319730 B2 JP5319730 B2 JP 5319730B2 JP 2011105209 A JP2011105209 A JP 2011105209A JP 2011105209 A JP2011105209 A JP 2011105209A JP 5319730 B2 JP5319730 B2 JP 5319730B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter aid
- fluorine
- water
- treated
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/20—Fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
- C02F1/004—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance using large scale industrial sized filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
- C02F1/281—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using inorganic sorbents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/48—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5236—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5236—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
- C02F1/5245—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents using basic salts, e.g. of aluminium and iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5281—Installations for water purification using chemical agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
- C02F1/583—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds by removing fluoride or fluorine compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/001—Upstream control, i.e. monitoring for predictive control
Description
本発明に係るろ過助剤としては、磁性体を含有する粒子を含み、一次粒子径が0.5〜5μmのものを用いる。ここで、一次粒子径は、レーザー回折法により測定されたものである。具体的には、磁性体単体で構成されている場合は、株式会社島津製作所製のSALD−DS21型測定装置(商品名)などにより測定することができる。また凝集体になっている場合は、SEM観察と画像処理を併用することにより求めることができる。一次粒子径が5μmよりも大きいと、粒子間の距離が大きくなりすぎて後述する水中の微細な析出物を通過させてしまう場合がある。また、平均粒子径が0.5μmより小さいと、粒子が緻密に凝集し、水中の微細な析出物を除去できるものの、実効的な通水量を得ることができなくなる場合もある。
(第1のフッ素回収装置)
第1のフッ素回収装置は、いわゆるプレコート法と呼ばれる手法を用いた装置であり、特に被処理水中に析出させたフッ素含有析出物(フッ化カルシウム、ポリアルミニウムクロライドのフッ化物イオンを取り込んだ析出物)の濃度が低い場合に有効である。
第2のフッ素の回収装置は、いわゆるボディーフィード法と呼ばれる手法を用いた装置であり、以下に説明するように、水中のフッ素化合物濃度が高い場合に有効である。
この回収装置においても、最初にろ過助剤と分散媒とを混合し懸濁液を調整するが、この場合に使用する分散媒は、被処理水とする。即ち、本方法では被処理水中に直接ろ過助剤を投入して懸濁液を調整する。懸濁液中のろ過助剤濃度は以下の操作によってろ過層が形成できれば特に問わないが、例えば1000〜200000mg/L程度に調整する。
また、ろ過層は、上述のように外力の作用によって形成及び保持されるので、フィルタリングは、例えば、上記フィルタ−を所定の容器の容器口を塞ぐようにして配置し、このように配置したフィルター上にろ過助剤が残留し、配列及び積層されるようにする。この場合、上記容器の壁面からの外力及び上方に位置するろ過助剤の重さに起因した下方に向けての外力(重力)によって、上記ろ過層は形成及び保持されることになる。
従って、第2のフッ素の回収装置では、特に被処理水中のフッ素化合物の量が多い場合においても、フッ素化合物の供給とろ過助剤の供給とは同時に行われることになるので、第1のフッ素の回収装置のように、過剰に吸着したフッ素化合物が、ろ過助剤の空隙を埋設してしまうことがない。このため、長時間ろ過速度を維持することができる。結果として、第2のフッ素の回収装置は、排水中のフッ素化合物濃度が高い場合に有効である。
本実施形態においては、水中のフッ化物イオンの濃度の閾値を2点(第1の閾値A,第2の閾値B、但しA>B)設定し、その濃度が第1の閾値Aを越えた場合はカルシウムと反応させ、その濃度が第2の閾値Bを超えた場合はポリアルミニウムクロライド(以下、PACと呼ぶ)と反応させる。閾値は装置の設計によって様々な値があるが、カルシウムと反応させる基準となる第1の閾値Aとしては概ね500mg/L以上を、PACを添加する第2の閾値Bとしては、排水基準または自主管理基準以下とし、概ね5mg/L程度とするのがよい。フッ素濃度を随時検出する方法としては任意の方法を用いることができるが、例えば工業用簡易フッ化物イオン濃度変換器HC−200F(HORIBA製の商品名)を用いることができる。
(ろ過助剤の準備)
(ろ過助剤A)
マグネタイト粒子(平均粒子径2μm)を準備した。
(ろ過助剤B)
マグネタイト粒子(平均粒子径0.5μm)を準備した。
(ろ過助剤C)
マグネタイト粒子(平均粒子径5μm)を準備した。
(ろ過助剤D)
マグネタイト粒子(平均粒子径0.2μm)を準備した。
(ろ過助剤E)
マグネタイト粒子凝集体(平均粒子径26μm)を準備した。
図1は、実施例1に係るフッ素の回収装置の概略図を示す。
図中の符号1は、フッ素濃度センサー2及び攪拌機3aを備えた析出槽(析出装置)を示す。この析出槽1には、フッ化物イオンを含有する被処理水や消石灰,ポリアルミニウムクロライド(PAC)が供給できるようになっている。また、析出槽1では、前記被処理水とカルシウムが反応してフッ化カルシウムが析出するようになっている。被処理水を析出槽1に供給する配管4aには、被処理水のフッ素濃度を検知するフッ素濃度センサー5が介装されている。
フッ素を含有する被処理水中のフッ化物イオン濃度は予めフッ素濃度センサー5により測定し(S1)、その濃度が第2の閾値B以上か否かを判断する(S2)。第2の閾値B以下の場合は、フッ素処理を行わず、直接排水する。
フッ素濃度が第2の閾値Bを超えた被処理水は、析出槽1に供給する。また、析出槽1内の被処理水のフッ素濃度が第1の閾値A以上の場合(S3)は、カルシウム源として消石灰を析出槽1へ投入し(S4)、被処理水と混合する。ある一定時間が経った後、フッ素濃度センサー2で被処理水のフッ化物イオン濃度を測定し、その濃度が第2の閾値B以上か否かを判断する(S5)。フッ素濃度が第2の閾値B以下であれば、ろ過器6に送って固液分離する。なお、その濃度が第2の閾値B以上第1の閾値A未満であれば、この工程は省略する。
また、この操作と平行して、ろ過器8のフィルター9上にろ過助剤の膜を作る。まず、ろ過助剤タンク7から混合槽6へろ過助剤を送り、一部再利用する処理水と混合してろ過助剤スラリーを作る。このろ過助剤スラリーを先にろ過器8に送り、フィルター9上にろ過助剤の膜を形成する。
実施例1と同じ装置を用い、ろ過助剤Aの代わりにろ過助剤Bを用いたこと以外は、実施例1と同様に試験を行った。その結果、フッ素の回収率は99%以上であった。実施例2の場合、実施例1と比較してろ過器の通水速度が1/3となったが、問題なく運転できた。
(実施例3)
実施例1と同じ装置を用い、ろ過助剤Aの代わりにろ過助剤Cを用いたこと以外は、実施例1と同様に試験を行った。その結果、フッ素の回収率は約97%であった。実施例2の場合、実施例1と比較してろ過器の通水速度がほぼ倍となったが、問題なく運転できた。
実施例1と同じ装置を用い、ろ過助剤Aの代わりにろ過助剤Dを用いたこと以外は、実施例1と同様に試験を行った。比較例1の場合、フッ素の回収を行ったところ、途中で通水できなくなった。
実施例1と同じ装置を用い、ろ過助剤Aの代わりにろ過助剤Dを用いたこと以外は、実施例1と同様に試験を行った。比較例2の場合、フッ素の回収を行ったところ、ろ液にフッ素化合物の一部が流出していた。その後、ろ過流量が著しく低下し、通水できなくなった。
図2は、実施例4に係るフッ素の回収装置の概略図を示す。但し、図1と同部材は同符号を付して説明を省略する。図2の回収装置は、図1の回収装置と比べ、第1の混合槽6及び配管4gを省くことの代わりに、ろ過助剤タンク7と析出槽1を接続する配管4iを設ける点が異なる。従って、析出槽1には、被処理水、消石灰及びPACのみならず、ろ過助剤も供給できるようになっている。
実施例1と同様に、フッ素を含有する被処理水中のフッ化物イオン濃度は予めフッ素濃度センサー5により測定され、その濃度が第2の閾値B以下の場合はフッ素処理を行わず、直接排水される。
図3は、実施例5に係るフッ素の回収装置の概略図を示す。但し、図1と同部材は同符号を付して説明を省略する。図3の回収装置は、図1の回収装置と比べ次の点が異なる。まず、析出槽1の代わりに、炭酸カルシウムの粒子が充填された吸着塔21、及び攪拌機3cを備えた第2の混合槽22からなる析出装置23を設けられている。次に、配管4aは、吸着塔21と第2の混合槽22に夫々接続されている。また、吸着塔21と配管4cは、フッ素濃度センサー2を介装した配管4jにより接続されている。この際、配管4jから分岐した配管4kは、第2の混合槽22に接続されている。
従って、前記吸着塔21及び第2の混合槽22には、フッ化物イオンを含有する被処理水が供給されるようになっている。また、第2の混合槽22にはPACも供給できるようになっている。
図4は、実施例6に係るフッ素の回収装置の概略図を示す。但し、図1〜図3と同部材は同符号を付して説明を省略する。図4の回収装置は、図2の回収装置と比べ次の点が異なる。まず、析出槽1の代わりに、炭酸カルシウムの粒子が充填された吸着塔21、及び攪拌機3cを備えた第2の混合槽22からなる析出装置23を設けられている。次に、配管4aは、吸着塔21と第2の混合槽22に夫々接続されている。また、吸着塔21と配管4cは、フッ素濃度センサー2を介装した配管4lにより接続されている。
図6は、実施例7に係るフッ素の回収装置の概略図を示す。但し、図1〜3と同部材は同符号を付して説明を省略する。図6の回収装置は、図4の回収装置と比べ、PACを使用せず、炭酸カルシウムとの反応で析出するフッ化カルシウムの除去に主眼を置き、排水中のフッ素を荒取りする前処理装置として使用している点が異なる。
実施例7では、被処理水として、フッ化物イオンを200mg/L含有するフッ化水素水溶液を準備した。
Claims (6)
- 被処理水のフッ化物イオンの濃度を測定するフッ素濃度センサーと、
前記フッ素濃度センサーによって測定したフッ化物イオンの濃度に基づいて、前記被処理水とカルシウムを反応させてフッ化カルシウムを析出させるか、又は前記被処理水とポリアルミニウムクロライドを反応させてフッ素含有析出物を析出させる析出装置と、
磁性体を含有する粒子を含むろ過助剤と分散媒を混合してスラリーを作製する混合槽と、
前記ろ過助剤を前記混合槽へ供給するろ過助剤供給装置と、
前記スラリーをろ過してフィルター上にろ過助剤を堆積させ、前記析出装置内の前記被処理水をろ過して、堆積した前記ろ過助剤上に前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を堆積させる固液分離装置と、
前記固液分離装置から堆積した前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を除去する洗浄機構と、
前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を分離する分離槽と、
前記分離槽で分離されたろ過助剤を前記ろ過助剤供給装置へ戻す返送機構とを具備することを特徴とするフッ素の回収装置。 - フッ化物イオンを含有する被処理水とポリアルミニウムクロライドを反応させてフッ素含有析出物を析出させる析出装置と、
磁性体を含有する粒子を含むろ過助剤と分散媒を混合してスラリーを作製する混合槽と、
前記ろ過助剤を前記混合槽へ供給するろ過助剤供給装置と、
前記スラリーをろ過してフィルター上にろ過助剤を堆積させ、前記析出装置内の前記被処理水をろ過して、堆積した前記ろ過助剤上に前記フッ素含有析出物を堆積させる固液分離装置と、
前記固液分離装置から堆積した前記ろ過助剤と前記フッ素含有析出物を除去する洗浄機構と、
前記ろ過助剤と前記フッ素含有析出物を分離する分離槽と、
前記分離槽で分離されたろ過助剤を前記ろ過助剤供給装置へ戻す返送機構とを具備することを特徴とするフッ素の回収装置。 - 被処理水のフッ化物イオンの濃度を測定するフッ素濃度センサーと、
前記フッ素濃度センサーによって測定したフッ化物イオンの濃度に基づいて、前記被処理水とカルシウムを反応させてフッ化カルシウムを析出させるか、又は前記被処理水とポリアルミニウムクロライドを反応させてフッ素含有析出物を析出させるとともに、前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を含む前記被処理水に磁性体を含有する粒子を含むろ過助剤を混合してスラリーを作製する析出装置と、
前記ろ過助剤を前記析出装置へ供給するろ過助剤供給装置と、
前記スラリーをろ過してフィルター上に前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を堆積させる固液分離装置と、
前記固液分離装置から堆積した前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を除去する洗浄機構と、
前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を分離する分離槽と、
前記分離槽で分離されたろ過助剤をろ過助剤供給装置へ戻す返送機構とを具備することを特徴とするフッ素の回収装置。 - フッ化物イオンを含有する被処理水とポリアルミニウムクロライドを反応させてフッ素含有析出物を析出させるとともに、前記フッ素含有析出物を含む前記被処理水に磁性体を含有する粒子を含むろ過助剤を混合してスラリーを作製する析出装置と、
前記ろ過助剤を前記析出装置へ供給するろ過助剤供給装置と、
前記スラリーをろ過してフィルター上に前記ろ過助剤と前記フッ素含有析出物を堆積させる固液分離装置と、
前記固液分離装置から堆積した前記ろ過助剤と前記フッ素含有析出物を除去する洗浄機構と、
前記ろ過助剤と前記フッ素含有析出物を分離する分離槽と、
前記分離槽で分離されたろ過助剤をろ過助剤供給装置へ戻す返送機構とを具備することを特徴とするフッ素の回収装置。 - フッ化物イオンを含有する被処理水のフッ化物イオン濃度の閾値として第1の閾値、及び該第1の閾値より低い第2の閾値の2点を設定した後、前記被処理水のフッ化物イオン濃度を測定し、第2の閾値以上かどうかを判断する第1の工程と、
第2の閾値以上と判断した時に被処理水を析出装置に導入する第2の工程と、
第1の閾値以上と判断した時に前記析出装置内で前記被処理水とカルシウムを反応させてフッ化カルシウムを析出させる第3の工程と、
カルシウムを反応させた被処理水中のフッ化物イオン濃度を測定し、第2の閾値以上かどうかを判断する第4の工程と、
第2の閾値以上と判断した時に前記析出装置内の前記被処理水にポリアルミニウムクロライドを添加してフッ素含有析出物を析出させる第5の工程と、
ろ過助剤と分散媒を混合してスラリーを作製する第6の工程と、
前記スラリーをろ過して固液分離装置のフィルター上にろ過助剤を堆積させ、前記析出装置内の前記被処理水をろ過して、堆積した前記ろ過助剤上に前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を堆積させる第7の工程と、
前記固液分離装置から堆積した前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を除去する第8の工程と、
前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を分離槽で分離する第9の工程と、
前記分離槽で分離されたろ過助剤をろ過助剤供給装置へ戻す第10の工程とを具備することを特徴とするフッ素の回収方法。 - フッ化物イオンを含有する被処理水のフッ化物イオン濃度の閾値として第1の閾値、及び該第1の閾値より低い第2の閾値の2点を設定した後、前記被処理水のフッ化物イオン濃度を測定し、第2の閾値以上かどうかを判断する第1の工程と、
第2の閾値以上と判断した時に被処理水を析出装置に導入する第2の工程と、
第1の閾値以上と判断した時に前記析出装置内で前記被処理水とカルシウムを反応させてフッ化カルシウムを析出させる第3の工程と、
カルシウムを反応させた被処理水中のフッ化物イオン濃度を測定し、第2の閾値以上かどうかを判断する第4の工程と、
第2の閾値以上と判断した時に前記析出装置内の前記被処理水にポリアルミニウムクロライドを添加してフッ素含有析出物を析出させる第5の工程と、
前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を含む前記被処理水に磁性体を含有するろ過助剤を混合してスラリーを作製する第6の工程と、
前記スラリーをろ過して固液分離装置のフィルター上に前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を堆積させる第7の工程と、
前記固液分離装置から堆積した前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を除去する第8の工程と、
前記ろ過助剤と前記フッ化カルシウム及び/又はフッ素含有析出物を分離する第9の工程と、
前記分離槽で分離されたろ過助剤を前記ろ過助剤供給装置へ戻す第10の工程とを具備することを特徴とするフッ素の回収方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011105209A JP5319730B2 (ja) | 2011-05-10 | 2011-05-10 | フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 |
US13/467,826 US8911631B2 (en) | 2011-05-10 | 2012-05-09 | Fluorine recovering apparatus and method for recovering fluorine |
SG2012034203A SG185888A1 (en) | 2011-05-10 | 2012-05-10 | Fluorine recovering apparatus and method for recovering fluorine |
CN2012101433557A CN102774980A (zh) | 2011-05-10 | 2012-05-10 | 氟回收设备和回收氟的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011105209A JP5319730B2 (ja) | 2011-05-10 | 2011-05-10 | フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012236120A JP2012236120A (ja) | 2012-12-06 |
JP5319730B2 true JP5319730B2 (ja) | 2013-10-16 |
Family
ID=47120121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011105209A Expired - Fee Related JP5319730B2 (ja) | 2011-05-10 | 2011-05-10 | フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8911631B2 (ja) |
JP (1) | JP5319730B2 (ja) |
CN (1) | CN102774980A (ja) |
SG (1) | SG185888A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120234768A1 (en) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resin composite, filter aid for water treatment, precoat material for water treatment, and water treatment method |
US8834715B2 (en) * | 2011-03-15 | 2014-09-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Copper recovery apparatus and copper recovery method |
JP5558419B2 (ja) | 2011-06-08 | 2014-07-23 | 株式会社東芝 | 銅回収装置 |
CN102963870A (zh) * | 2012-12-11 | 2013-03-13 | 中昊晨光化工研究院有限公司 | 一种氟气的提纯方法 |
JP2014133188A (ja) * | 2013-01-08 | 2014-07-24 | Toshiba Corp | 水処理方法及び水処理装置 |
JP2014151310A (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-25 | Toshiba Corp | 水処理方法及び水処理装置 |
JP5612146B2 (ja) * | 2013-03-08 | 2014-10-22 | 株式会社東芝 | 水処理装置及び水処理方法 |
JP2016013522A (ja) * | 2014-07-02 | 2016-01-28 | 株式会社東芝 | 水処理システムおよび水処理方法 |
DE102015205562B3 (de) * | 2015-03-26 | 2016-08-25 | Sgl Carbon Se | Verfahren zur Behandlung von Gasströmen |
CN105692840A (zh) * | 2016-03-31 | 2016-06-22 | 北京石油化工学院 | 一种钙基处理剂及其处理含氟废水的方法 |
CN107986546B (zh) * | 2017-11-22 | 2021-06-22 | 南京圆方环保科技有限公司 | 一种用于废水处理的充分搅拌过滤及杀菌活化设备 |
CN110683618A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-01-14 | 钟林 | 一种洗车废水处理设备 |
CN110818136B (zh) * | 2019-11-22 | 2022-07-19 | 北京翰祺环境技术有限公司 | 一种高精度除氟的污水处理系统及污水处理方法 |
CN112520924A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-03-19 | 九江学院 | 一种钽铌湿法冶炼中碱性废水的循环使用及资源化治理方法 |
CN115159756B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-09-01 | 江苏峻尚新材料科技有限公司 | 一种改善氨法脱硫污浆液性能的助滤装置及方法 |
CN117285139B (zh) * | 2023-09-22 | 2024-03-12 | 浙江沃乐科技有限公司 | 一种基于微管流化的低浓度含氟废水深度除氟装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2564252B2 (ja) | 1987-10-19 | 1996-12-18 | 千代田化工建設株式会社 | フッ素含有排水の処理法 |
JPH06114382A (ja) | 1992-10-05 | 1994-04-26 | Fuji Kasui Kogyo Kk | フッ素含有排水の処理方法 |
JP3319053B2 (ja) * | 1993-08-04 | 2002-08-26 | 栗田工業株式会社 | フッ化物含有水の処理方法 |
JPH09327611A (ja) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Toshiba Corp | 難ろ過性廃液のろ過方法およびそのろ過装置 |
JPH1085761A (ja) * | 1996-09-13 | 1998-04-07 | Japan Organo Co Ltd | フッ素含有排水処理装置及び方法 |
JP2004249251A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | フッ素含有水の処理方法 |
JP4347096B2 (ja) | 2004-03-12 | 2009-10-21 | 中国電力株式会社 | 排水中のフッ素除去装置及びフッ素除去方法 |
JP4689186B2 (ja) | 2004-04-13 | 2011-05-25 | オルガノ株式会社 | フッ素含有水の処理方法 |
JP2005324137A (ja) | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Nitto Engineering Kk | 排水中のフッ素イオン除去方法 |
JP2006159042A (ja) | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Nishi Nippon Filter Kk | フッ素イオン含有廃液の処理方法および処理装置 |
JP4661665B2 (ja) | 2006-04-06 | 2011-03-30 | 日本錬水株式会社 | イオン含有排水の凝集沈澱処理方法 |
CN101229504B (zh) | 2007-07-05 | 2010-09-15 | 中国科学院生态环境研究中心 | 氧化铁-氧化铝复合纳米除氟材料的制备及应用 |
JP5283963B2 (ja) | 2008-05-08 | 2013-09-04 | 株式会社東芝 | 樹脂複合体、およびそれを用いた水処理方法、ならびにその樹脂複合体の製造法 |
JP2010069363A (ja) | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Toshiba Corp | 有価物回収装置 |
JP5058129B2 (ja) | 2008-11-06 | 2012-10-24 | オルガノ株式会社 | 晶析反応方法 |
JP5214424B2 (ja) * | 2008-12-10 | 2013-06-19 | 株式会社東芝 | 排水処理装置 |
JP2010207755A (ja) | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Japan Organo Co Ltd | フッ素含有水の処理装置 |
JP2012187083A (ja) * | 2011-03-14 | 2012-10-04 | Toshiba Corp | 微生物の濃縮装置及び濃縮方法 |
US8834715B2 (en) * | 2011-03-15 | 2014-09-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Copper recovery apparatus and copper recovery method |
US20120234768A1 (en) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resin composite, filter aid for water treatment, precoat material for water treatment, and water treatment method |
JP5558419B2 (ja) * | 2011-06-08 | 2014-07-23 | 株式会社東芝 | 銅回収装置 |
-
2011
- 2011-05-10 JP JP2011105209A patent/JP5319730B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-05-09 US US13/467,826 patent/US8911631B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-05-10 SG SG2012034203A patent/SG185888A1/en unknown
- 2012-05-10 CN CN2012101433557A patent/CN102774980A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG185888A1 (en) | 2012-12-28 |
US20120288435A1 (en) | 2012-11-15 |
CN102774980A (zh) | 2012-11-14 |
US8911631B2 (en) | 2014-12-16 |
JP2012236120A (ja) | 2012-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5319730B2 (ja) | フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 | |
JP5823221B2 (ja) | ろ過助剤、水処理用ろ過助剤、水処理用プレコート材及び水処理方法 | |
JP2010284593A (ja) | メッキ洗浄排水からの水及び金属の回収方法 | |
JP5214424B2 (ja) | 排水処理装置 | |
JP5492243B2 (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
JP2014057920A (ja) | 水処理方法 | |
JP5826668B2 (ja) | 金属回収装置及び金属回収方法 | |
WO2013136385A1 (ja) | フッ素回収装置、フッ素回収システム及びフッ素回収方法 | |
TWI564252B (zh) | A water treatment device and a water treatment method | |
JP2014151310A (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
JP2015047534A (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
WO2014108941A1 (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
JP5818670B2 (ja) | 油分含有排水処理装置 | |
JP5502920B2 (ja) | フッ素の回収装置及びフッ素の回収方法 | |
JP5649749B2 (ja) | 水処理方法 | |
JP5502924B2 (ja) | 水処理方法 | |
Dong et al. | Investigation into a membrane-assisted crystallizer (MAC) process for Cu2+ removal and recovery from wastewater | |
JP2015211941A (ja) | リン回収システム及びリン回収方法 | |
JP5309536B2 (ja) | ニッケル含有水溶液からのニッケルの回収方法とその装置 | |
JP5315537B2 (ja) | ニッケル含有水溶液からのニッケルならびに亜燐酸の回収方法とその装置 | |
JP2010240625A (ja) | リン回収方法 | |
JP2014184413A (ja) | 水処理方法 | |
JP2014087768A (ja) | 廃水処理装置及び方法 | |
WO2015182145A1 (ja) | 水処理方法 | |
JP6305215B2 (ja) | フッ素含有廃水の処理方法及びフッ素含有廃水の処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130531 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130618 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130711 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5319730 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |