JP5270761B2 - ゲート駆動回路 - Google Patents
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Description
この発明は、半導体スイッチング素子を駆動するゲート駆動回路に関するものであり、特に半導体スイッチング素子を高速にスイッチングできるゲート駆動回路に関する。
従来のゲート駆動回路においては、半導体スイッチング素子であるMOSFET(Metal−Oxide−Semiconductor Field−Effect Transistor)のゲート駆動回路として、トランジスタやMOSFETを直列接続したバッファ回路を用いることが一般的である。この回路ではバッファの基準電位に負バイアスを印加することによって、MOSFETがオフ時にはゲート電圧を負にすることができるので、半導体スイッチング素子のスイッチングの誤動作を防止することができる(例えば、特許文献1参照)。
半導体スイッチング素子は、スイッチング時の過渡状態期間で導通損失を発生する。半導体スイッチング素子の大容量化に伴い、導通損失も増加してきたが、従来は、半導体スイッチング素子の高速スイッチング化によって過渡状態期間を短縮し、導通損失の低減を図ってきた。近年、ワイドバンドギャップ半導体によって形成した半導体スイッチング素子の実用化に伴い、更なる高速スイッチングが可能となり、導通損失の低減が期待される。しかしながら、MOSFETの駆動回路の駆動能力が不足して、半導体スイッチング素子の能力を充分に引き出せないという問題があった。また、半導体スイッチング素子の大容量化に伴う導通損失を低減するために、半導体スイッチング素子のオン抵抗を小さくすることで導通損失の低減を図ってきた。しかしながら、一般的にオン抵抗値は半導体スイッチング素子のスイッチング閾値電圧とトレードオフ関係にあり、オン抵抗を小さくすれば半導体スイッチング素子の閾値電圧も低下してノイズの影響を受けやすくなり、スイッチングの誤動作の可能性が高くなるという問題があった。
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、半導体スイッチング素子を高速にスイッチングできるゲート駆動回路を得るものである。
この発明に係るゲート駆動回路は、相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子およびオフ用スイッチング素子を有し、半導体スイッチング素子を駆動するバッファ回路と、オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、ゲート駆動回路の基準電位に負極が接続された第1の直流電圧源と、オフ用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、基準電位に負極が接続された第2の直流電圧源とを備えたものである。
また、この発明に係るゲート駆動回路は、相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子およびオフ用スイッチング素子を有し、半導体スイッチング素子を駆動するバッファ回路と、オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、ゲート駆動回路の基準電位に負極が接続された直流電圧源と、オン用スイッチング素子のゲートおよびオフ用スイッチング素子のゲートに対して電圧パルスを出力する駆動ロジックとを備え、電圧パルスの高電位側の電位がオン用スイッチング素子のソースの電位より第1のオフセット電圧分だけ高く、かつ、電圧パルスの低電位側の電位がオフ用スイッチング素子のソースの電位に設定されるか、電圧パルスの高電位側の電位がオン用スイッチング素子のソースの電位に、かつ、電圧パルスの低電位側の電位がオフ用スイッチング素子のソースの電位より第2のオフセット電圧分だけ低く設定されるか、または、電圧パルスの高電位側の電位がオン用スイッチング素子のソースの電位より第1のオフセット電圧分だけ高く、かつ、電圧パルスの低電位側の電位がオフ用スイッチング素子のソースの電位より第2のオフセット電圧分だけ低く設定されるものである。
この発明は、相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子およびオフ用スイッチング素子を有し、半導体スイッチング素子を駆動するバッファ回路と、オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、ゲート駆動回路の基準電位に負極が接続された第1の直流電圧源と、オフ用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、基準電位に負極が接続された第2の直流電圧源とを備えたので、オフ用スイッチング素子を高速にターンオフさせることができ、半導体スイッチング素子を高速にターンオンさせることができる。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。ゲート駆動回路1は、半導体スイッチング素子であるMOSFET10を駆動するものである。図1において、ゲート駆動回路1は、MOSFET10を駆動するバッファ回路であるバッファ4と、第1の直流電圧源6と、第2の直流電圧源12とよって構成されている。
図1は、この発明の実施の形態1におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。ゲート駆動回路1は、半導体スイッチング素子であるMOSFET10を駆動するものである。図1において、ゲート駆動回路1は、MOSFET10を駆動するバッファ回路であるバッファ4と、第1の直流電圧源6と、第2の直流電圧源12とよって構成されている。
バッファ4は、トーテムポール接続されて相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子であるPチャネルMOSFET2およびオフ用スイッチング素子であるNチャネルMOSFET3を有している。オン用スイッチング素子であるPチャネルMOSFET2がターンオンすることによってMOSFET10がオンし、オフ用スイッチング素子であるNチャネルMOSFET3がターンオンすることによってMOSFET10がオフする。第1の直流電圧源6の正極はPチャネルMOSFET2のソースに接続され、負極はゲート駆動回路1の基準電位(VS)5に接続されている。また、第2の直流電圧源12の正極はNチャネルMOSFET3のソースに接続され、負極はゲート駆動回路1の基準電位5に接続されている。第2の直流電圧源12は、NチャネルMOSFET3のソース電位を基準電位5より上昇させることができる。
また、ゲート駆動回路1は、MOSFET10のオン時ゲート抵抗7と、オフ時ゲート抵抗8と、駆動信号(SD)を取り込んでPチャネルMOSFET2のゲートおよびNチャネルMOSFET3のゲートへゲート電圧を出力する駆動ロジック9を備えている。駆動ロジック9は、第1の直流電圧源6の正極にも接続されており、第1の直流電圧源6から直流電圧の供給を受けている。また、駆動ロジック9は、基準電位5にも接続されている。駆動ロジック9から出力されるゲート電圧は、PチャネルMOSFET2およびNチャネルMOSFET3を相補的にオン・オフさせるために、高電位(例えば、直流電圧Vout)と低電位(例えば、基準電位)とを交互に変化する電圧パルスとなる。ゲート電圧が高電位になるとPチャネルMOSFET2がオン状態になり、MOSFET10がオン状態になる。ゲート電圧が低電位になるとNチャネルMOSFET3がオン状態になり、MOSFET10がオフ状態になる。
実施の形態1の説明に先立ち、本発明を良く理解するために、従来の一般的なゲート駆動回路について説明する。図2は、従来のゲート駆動回路の一例を示した概略の構成図である。実施の形態1におけるゲート駆動回路1では、NチャネルMOSFET3と基準電位5との間に設けられた第2の直流電圧源12の正極がNチャネルMOSFET3のソースに接続されている。一方、従来のゲート駆動回路21では、NチャネルMOSFET3と基準電位5との間に設けられた直流電圧源22の負極がNチャネルMOSFET3のソースに接続されており、この点が実施の形態1との相違点である。その他の構成については、実施の形態1におけるゲート駆動回路1と従来のゲート駆動回路21は同じである。
このような従来のゲート駆動回路21において、駆動対象であるMOSFET10がオフ状態のときに、直流電圧源22によってMOSFET10のゲート−ソース間電圧(以下、Vgsと表記)は基準電位5に対して負バイアス状態となる。このため、ノイズによるMOSFET10のスイッチングの誤動作を防止することができる。ここで、MOSFET10がターンオンするときのバッファ4の動作に注目する。MOSFET10がターンオンするためには、まず、バッファ4のNチャネルMOSFET3がターンオフした後にPチャネルMOSFET2をオンする必要がある。MOSFET10を高速にターンオンするためには、できるだけ短時間でNチャネルMOSFET3をターンオフすることが望ましい。
図3に、NチャネルMOSFET3がターンオフする際のNチャネルMOSFET3のVgsの過渡応答波形の一例を示す。図3において、縦軸はVgsであり、ソース電位をNチャネルMOSFET3のゲート−ソース間に印加される電位差を表している。ここで、図2に示したゲート駆動回路21の場合、Vgs=0Vに相当する電位は基準電位5に対して直流電圧源22による直流電圧Vbuffer分だけマイナスの電位となる。NチャネルMOSFET3はVgsが一定の閾値電圧(以下、Vthと表記)より小さくなったときにターンオフするが、NチャネルMOSFET3をオフしてからターンオフするまでの遷移時間である立ち下がり時間(以下、toffと表記)によってVgsの電圧変化率(傾き)dV/dtは異なる。図4に、NチャネルMOSFETのドレイン電流(以下、Idと表記)とVgsとの代表的な関係の一例を示す。図4に示したIdとVgsとの関係から、Vgsが大きくなるとIdの電流変化率が大きくなることがわかる。つまり、Vthを大きくした方が電流変化率も大きいので、Idを早く遮断することができる。このため、NチャネルMOSFET3のtoffの短縮につながる。toffは駆動対象であるMOSFET10の立ち上がり時間の一部であるので、MOSFET10を高速駆動するために、NチャネルMOSFET3のtoffを短縮する必要がある。
次に、本実施の形態のゲート駆動回路の動作について説明する。本実施の形態のゲート駆動回路1では、第2の直流電圧源12が印加する電圧(以下、Vnbufferと表記)によってNチャネルMOSFET3のソース電位を基準電位5よりVnbufferだけ上昇させることができる。なお、NチャネルMOSFET3のソース電位がVnbufferだけ上昇するので、駆動ロジック9から出力されるゲート電圧の高電位側も相対的にVnbufferだけ高く設定し、Vout+Vnbufferのゲート電圧を出力する。これにより、第2の直流電圧源12によってNチャネルMOSFET3のソース電位が上昇しても、オン動作時のNチャネルMOSFET3のVgsは同じ値に設定される。なお、VoutやVnbufferはNチャネルMOSFET3のスペックに合せて任意に設定することができる。一例を示すと、Voutを15V、Vnbufferを5Vに設定することができる。もちろん、この電圧値に限られるわけではない。
図5に、ゲート駆動回路1におけるNチャネルMOSFET3がターンオフする際のNチャネルMOSFET3のVgsの過渡応答波形を示す。図5において、縦軸はVgsであり、NチャネルMOSFET3のゲート−ソース間に印加される電位差を表している。図中の破線は第2の直流電圧源12を備えていない場合(Case2)であり、図3に示した過渡応答波形と同じである。また、図中の実線は第2の直流電圧源12を備えた場合(Case1)である。ソース電位は、NチャネルMOSFET3のオン・オフ動作に関係なく一定の電位(+Vnbuffer)である。ゲート電位は、NチャネルMOSFET3のオン動作時にはソース電位に対してVoutだけ高く設定されているが、オフ動作時にはソース電位に対してVnbufferだけ低くなる。このため、NチャネルMOSFET3がターンオフ動作を始める場合、Vgsは+Voutから−Vnbufferまで変化する。つまり、第2の直流電圧源12を備えない場合に比べてVnbuffer分だけ大きく変化する。このように、第2の直流電圧源12を備えることによって、VgsをVout+Vnbufferの電圧差で変化させることができるが、実際にNチャネルMOSFET3のゲート−ソース間に印加される最大電圧はVoutであり、第2の直流電圧源12を備えない場合と同じである。つまり、NチャネルMOSFET3のオン動作時のVgsの耐電圧のスペックを変える必要がない。
図5に示すように、第2の直流電圧源12の有無によってターンオフ後のVgs変化の時定数は変わらないので、Vgsの電圧変化を大きくする方が電圧変化率を高くすることができる。このため、第2の直流電圧源12を備えない場合に比べて第2の直流電圧源12を備えてソース電圧をVnbufferだけ高くした方が、NチャネルMOSFET3のVgsが早くVthに達し、VgsがVthに至るまでの時間をΔtoffだけ短くすることができる。また、第2の直流電圧源12を備えない場合に比べて、Vth到達時のVgsの電圧変化率も高くすることができ、toffを短縮することができる。このように、NチャネルMOSFET3のオン時のVgsの値を変えずに、ターンオフ動作時のゲート電位をVnbuffer分だけ大きく変化させることができるので、NチャネルMOSFET3を高速にターンオフすることができる。このため、PチャネルMOSFET2をオンするまでの時間が短くなり、MOSFET10を高速にターンオンさせることができる。
なお、本実施の形態では、NチャネルMOSFET3のソースを負バイアスとしていないが、駆動対象となるMOSFET10のVthは用途や種類によって異なり、MOSFET10に印加されるノイズの大きさも使用環境によって大きく異なる。このため、MOSFET10のVthがノイズに対して充分に余裕があったり、ノイズが充分に小さい場合には、Vgsを積極的に0[V]に近づけたり、負バイアスにしたりする必要はない。
以上のように、第2の直流電圧源12の正極をNチャネルMOSFET3のソースに接続する構成にすることによって、NチャネルMOSFET3を高速にターンオフさせることができ、ゲート駆動回路1はMOSFET10を高速駆動することができる。
実施の形態2.
図6は、この発明の実施の形態2におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。図6において、図1と同一の符号を付したものは、同一またはこれに相当するものであり、このことは明細書の全文において共通することである。本実施の形態のゲート駆動回路11は、正極をMOSFET10のソースに接続し、負極を基準電位5に接続する第3の直流電圧源13を備えた点が実施の形態1と異なる。
図6は、この発明の実施の形態2におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。図6において、図1と同一の符号を付したものは、同一またはこれに相当するものであり、このことは明細書の全文において共通することである。本実施の形態のゲート駆動回路11は、正極をMOSFET10のソースに接続し、負極を基準電位5に接続する第3の直流電圧源13を備えた点が実施の形態1と異なる。
第3の直流電圧源13が印加する電圧をVoffsetとすると、第3の直流電圧源13は、MOSFET10のソース電位を基準電位5よりVoffset上昇させることができ、MOSFET10のVgsを調節することができる。例えば、Vnbuffer<Voffsetの関係となるようにMOSFET10のVgsを調節することによって、MOSFET10のオフ時のVgsを負バイアスとすることができる。負バイアスとすることによって、ノイズによるMOSFET10の誤動作を防止することができる。
このように、第2の直流電圧源12の正極をNチャネルMOSFET3のソースに接続し、第3の直流電圧源13の正極をMOSFET10のソースに接続することによって、ゲート駆動回路11は、NチャネルMOSFET3を高速にターンオフさせてMOSFET10を高速駆動する機能と、ノイズによるMOSFET10の誤動作を防止する機能とを両立させることができる。なお、VnbufferとVoffsetの関係はノイズ耐量などを勘案してVnbuffer<Voffsetに限らず任意に設定可能であることは言うまでもない。
実施の形態3.
図7は、この発明の実施の形態3におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。本実施の形態のゲート駆動回路14は、正極を第1の直流電圧源17の正極に接続し、負極をPチャネルMOSFET2のソースに接続する第4の直流電圧源16を、PチャネルMOSFET2と第1の直流電圧源17との間に挿入した点が実施の形態2と異なる。実施の形態1および実施の形態2におけるゲート駆動回路は、MOSFET10のターンオンの速度を速くするものであるが、MOSFET10のターンオフの速度も速くすることができれば、MOSFET10のスイッチング損失の低減などのメリットをさらに享受することができる。本実施の形態のゲート駆動回路は、MOSFET10のターンオフを速くするために、バッファ4のPチャネルMOSFET2のターンオフの速度を速くするものである。
図7は、この発明の実施の形態3におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。本実施の形態のゲート駆動回路14は、正極を第1の直流電圧源17の正極に接続し、負極をPチャネルMOSFET2のソースに接続する第4の直流電圧源16を、PチャネルMOSFET2と第1の直流電圧源17との間に挿入した点が実施の形態2と異なる。実施の形態1および実施の形態2におけるゲート駆動回路は、MOSFET10のターンオンの速度を速くするものであるが、MOSFET10のターンオフの速度も速くすることができれば、MOSFET10のスイッチング損失の低減などのメリットをさらに享受することができる。本実施の形態のゲート駆動回路は、MOSFET10のターンオフを速くするために、バッファ4のPチャネルMOSFET2のターンオフの速度を速くするものである。
図7において、第1の直流電圧源17の負極は基準電位5に接続され、第4の直流電圧源16の正極と第1の直流電圧源17の正極同士が接続されている。第4の直流電圧源16から発生される直流電圧(以下、Vpbufferと表記)は、第1の直流電圧源17から発生される直流電圧Voutよりも低く設定されている。このようなゲート駆動回路14の構成では、第4の直流電圧源16が印加する電圧VpbufferによってPチャネルMOSFET2のソース電位を第1の直流電圧源17と第4の直流電圧源16との接続点の電位よりVpbufferだけ下降させることができる。PチャネルMOSFET2のソース電位がVpbufferだけ下降するので、第1の直流電圧源17の電圧を相対的にVpbuffer高く設定する。駆動ロジック9から出力されるゲート電圧の高電位側も相対的にVpbufferだけ高く設定し、Vout+Vpbufferのゲート電圧を出力する。第1の直流電圧源17の電圧を相対的にVpbuffer高く設定しているので、第4の直流電圧源16によってソース電位がVpbuffer下降しても、オン動作時のPチャネルMOSFET2のVgsは同じ値に設定される。VoutやVpbufferはPチャネルMOSFET2のスペックに合せて任意に設定することができる。なお、第2の直流電圧源12および第3の直流電圧源13の動作については実施の形態2と同様であるため説明を省略する。
図8に、ゲート駆動回路14におけるPチャネルMOSFET2がターンオフする際のVgsの過渡応答波形を示す。図8において、縦軸はVgsであり、PチャネルMOSFET2のゲート−ソース間に印加される電位差を表している。図中の破線は第4の直流電圧源16を備えていない場合(Case4)であり、図3に示した過渡応答波形と同じである。また、図中の実線は第4の直流電圧源16を備えた場合(Case3)である。ソース電位は、PチャネルMOSFET2のオン・オフ動作に関係なく一定の電位である。本実施の形態では、ゲート電位は、PチャネルMOSFET2のオン動作時にはソース電位に対してVoutだけ低く設定されているが、オフ動作時にはソース電位に対してVpbufferだけ高くなる。このため、PチャネルMOSFET2がターンオフ動作を始める場合、Vgsは−Voutから+Vpbufferまで変化する。つまり、第4の直流電圧源16を備えない場合に比べてVpbuffer分だけ大きく変化する。このように、第4の直流電圧源16を備えることによって、VgsをVout+Vpbufferの電圧差で変化させることができるが、実際にPチャネルMOSFET2のゲート−ソース間に印加される最大電圧はVoutであり、第4の直流電圧源16を備えない場合と同じである。つまり、PチャネルMOSFET2のオン動作時のVgsの耐電圧のスペックを変える必要がない。
図8に示すように、第4の直流電圧源16の有無によってターンオフ後のVgs変化の時定数は変わらないので、Vgsの電圧変化を大きくする方が電圧変化率を高くすることができる。このため、第4の直流電圧源16を備えない場合に比べて第4の直流電圧源16を備え、ソース電圧をVpbufferだけ高くした方が、PチャネルMOSFET2のVgsが早くVthに達し、VgsがVthに至るまでの時間をΔtoffだけ短くすることができる。また、第4の直流電圧源16を備えない場合に比べて、Vth到達時のVgsの電圧変化率も高くすることができ、toffを短縮することができる。このように、PチャネルMOSFET2のオン時のVgsの値を変えずに、ターンオフ動作時のゲート電位をVpbuffer分だけ大きく変化させることができるので、PチャネルMOSFET2を高速にターンオフすることができる。このため、NチャネルMOSFET3をオンするまでの時間が短くなり、MOSFET10を高速にターンオフさせることができる。
また、実施の形態1、2において説明したように、第2の直流電圧源12によってNチャネルMOSFET3のソース電位が基準電位5より上昇することによってNチャネルMOSFET3がターンオフするまでの時間を短縮することができる。さらに、実施の形態2において説明したように、第3の直流電圧源13によって駆動対象であるMOSFET10のVgsを調節することができ、MOSFET10の誤動作を防止することができる。なお、実施の形態1と同様に、MOSFET10のVthがノイズに対して充分に余裕があったり、ノイズが充分に小さい場合には、第3の直流電圧源13を備えてVgsを負バイアスにする必要はない。また、MOSFET10を高速にターンオフさせることだけを目的とする場合は、図9に示すようなゲート駆動回路15のように第2の直流電圧源12を備えない構成にしてもよい。
以上のように、第4の直流電圧源16の負極をPチャネルMOSFET2のソースに接続し、第2の直流電圧源12の正極をNチャネルMOSFET3のソースに接続する構成にすることによって、PチャネルMOSFET2およびNチャネルMOSFET3をそれぞれ高速にターンオフさせることができ、ゲート駆動回路14はMOSFET10を高速駆動することができる。また、第3の直流電圧源13の正極を駆動対象であるMOSFET10のソースに接続することによって、ノイズによるMOSFET10の誤動作を防止することができる。
実施の形態4.
実施の形態1〜実施の形態3においては、バッファのスイッチング速度を向上させるために、バッファ内部のMOSFETのソース電位を直流電圧源でオフセットして、オン時のVgsの値を変えずにゲート電位を大きく変化させる方法を用いた。オン時のVgsの値を変えずにゲート電位を大きく変化させる方法としては、駆動ロジックからバッファへ出力されるゲート電圧を調節する方法があり、同様の動作を行うことができる。図10は、この発明の実施の形態4におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。本実施の形態のゲート駆動回路18は、PチャネルMOSFETのソースに正極を接続する直流電圧源を備えず、駆動ロジック9の代わりに駆動ロジック19を備えた点が実施の形態2と異なる。
実施の形態1〜実施の形態3においては、バッファのスイッチング速度を向上させるために、バッファ内部のMOSFETのソース電位を直流電圧源でオフセットして、オン時のVgsの値を変えずにゲート電位を大きく変化させる方法を用いた。オン時のVgsの値を変えずにゲート電位を大きく変化させる方法としては、駆動ロジックからバッファへ出力されるゲート電圧を調節する方法があり、同様の動作を行うことができる。図10は、この発明の実施の形態4におけるゲート駆動回路の概略の構成図である。本実施の形態のゲート駆動回路18は、PチャネルMOSFETのソースに正極を接続する直流電圧源を備えず、駆動ロジック9の代わりに駆動ロジック19を備えた点が実施の形態2と異なる。
図10において、バッファ4のスイッチングが高速化されるように、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧が設計されている。なお、PチャネルMOSFET2のソース電位は、第1の直流電圧源6の出力電圧(以下、Vdcと表記)と同じになる。また、NチャネルMOSFET3のソース電位は、基準電位5と同じになる。
図11に、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧の出力波形の第一例を示す。図11に示すように、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧は電圧パルスであり、電圧パルスの高電位側を、PチャネルMOSFET2のソース電位であるVdcに対してオフセット電圧分(以下、Vpodと表記)だけ高くなるように制御している。PチャネルMOSFET2のソース電位はVdcに固定され、ゲート電位はVdc+Vpodから基準電位5までの変化を繰り返し、PチャネルMOSFET2のオン・オフ動作が行われる。つまり、PチャネルMOSFET2のオン動作時のVgsをVdcより高くすることなく、ターンオフの際のVgsを基準電位からVdc+Vpodまで範囲で変化させることができる。このため、実施の形態3において説明したように、PチャネルMOSFET2を高速にターンオフすることができ、NチャネルMOSFET3をオンするまでの時間が短くなり、MOSFET10を高速にターンオフさせることができる。
また、図12に、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧の出力波形の第二例を示す。図12に示すように、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧は電圧パルスであり、電圧パルスの低電位側を、NチャネルMOSFET3のソース電位である基準電位5に対してオフセット電圧分((以下、Vnodと表記)だけ低くなるように制御している。NチャネルMOSFET3のソース電位は基準電位5に固定され、ゲート電位は−VnodからVdcまでの変化を繰り返し、NチャネルMOSFET3のオン・オフ動作が行われる。つまり、NチャネルMOSFET3のオン動作時のVgsをVdcより高くすることなく、ターンオフの際のVgsをVdc+Vnodの範囲で変化させることができる。このため、実施の形態1において説明したように、NチャネルMOSFET3を高速にターンオフすることができ、PチャネルMOSFET2をオンするまでの時間が短くなり、MOSFET10を高速にターンオンさせることができる。
また、図13に、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧の出力波形の第三例を示す。図13は、図11および図12に示した出力波形を組み合わせたものである。図13において、駆動ロジック19から出力されるゲート電圧の高電位側をVdcに対してVpodだけ高くなるように設定し、低電位側を基準電位5に対してVnodだけ低くなるように設定する。駆動ロジック19がこのようなゲート電圧を出力することによって、PチャネルMOSFET2を高速にターンオフし、MOSFET10を高速にターンオフさせることができるともに、NチャネルMOSFET3を高速にターンオフし、MOSFET10を高速にターンオンさせることができる。
以上のように、駆動ロジック19のゲート電圧を調整することによって、ゲート駆動回路18は、MOSFET10を高速駆動することができる。なお、ノイズ耐量などを勘案して第3の直流電圧源13を省いた構成としてもよい。また、本実施の形態の駆動ロジック19の構成を、図2に示した従来のゲート駆動回路に適用してもよいし、実施の形態1〜実施の形態3に示したゲート駆動回路に付加して適用してもよい。
なお、実施の形態1〜実施の形態4において、半導体スイッチング素子としてMOSFETに対して適用した例を説明したが、本発明はこれに限定するものではなく、トランジスタなどのスイッチング素子などに対して適用できる。また、半導体スイッチング素子もMOSFETに限定せずIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)などのバイポーラトランジスタに対しても適用できる。さらに、J−FET(Junction Field Effect Transistor)に対しても適用できる。なお、バイポーラトランジスタを適用した場合、MOSFETのソースに相当するものは、エミッタとなる。
また、すべての実施の形態において、珪素よりバンドギャップが広いワイドバンドギャップ半導体によってスイッチング素子を形成してもよい。ワイドバンドギャップ半導体としては、例えば、炭化珪素、窒化ガリウム系材料又はダイヤモンドがある。ワイドバンドギャップ半導体によって形成されたスイッチング素子は、耐電圧性が高く、許容電流密度も高いため、スイッチング素子の小型化が可能であり、これら小型化されたスイッチング素子を用いることにより、これらの素子を組み込んだ半導体モジュールの小型化が可能となる。また、耐熱性も高いため、ヒートシンクの放熱フィンの小型化や、水冷部の空冷化が可能であるので、半導体モジュールの一層の小型化が可能になる。更に、電力損失が低いため、スイッチング素子の高効率化が可能であり、延いては半導体モジュールの高効率化が可能になる。
1,11,14,15,18,21 ゲート駆動回路、2 PチャネルMOSFET、3 NチャネルMOSFET、4 バッファ、5 基準電位、6,12,13,16,17,22 直流電圧源、7 オン時ゲート抵抗、8 オフ時ゲート抵抗、9,19 駆動ロジック、10 MOSFET。
Claims (7)
- 半導体スイッチング素子を駆動するゲート駆動回路であって、
相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子およびオフ用スイッチング素子を有し、前記半導体スイッチング素子を駆動するバッファ回路と、
前記オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、前記ゲート駆動回路の基準電位に負極が接続された第1の直流電圧源と、
前記オフ用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、前記基準電位に負極が接続された第2の直流電圧源とを備えたことを特徴とするゲート駆動回路。 - 前記半導体スイッチング素子のソースに正極が接続され、前記基準電位に負極が接続された第3の直流電圧源を備え、
前記第2の直流電圧源から発生される直流電圧は、前記第3の直流電圧源から発生される直流電圧よりも低いことを特徴とする請求項1に記載のゲート駆動回路。 - 前記オン用スイッチング素子と前記第1の直流電圧源との間に挿入された第4の直流電圧源を備え、
前記第4の直流電圧源の正極は、前記第1の直流電圧源の正極に接続され、
前記第4の直流電圧源の負極は、前記オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに接続され、
前記第4の直流電圧源から発生される直流電圧は、前記第1の直流電圧源から発生される直流電圧よりも低いことを特徴とする請求項1または2に記載のゲート駆動回路。 - 半導体スイッチング素子を駆動するゲート駆動回路であって、
相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子およびオフ用スイッチング素子を有し、前記半導体スイッチング素子を駆動するバッファ回路と、
前記ゲート駆動回路の基準電位に負極が接続された第1の直流電圧源と、
前記オン用スイッチング素子と前記第1の直流電圧源との間に挿入された第4の直流電圧源とを備え、
前記第4の直流電圧源の正極は、前記第1の直流電圧源の正極に接続され、
前記第4の直流電圧源の負極は、前記オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに接続され、
前記第4の直流電圧源から発生される直流電圧は、前記第1の直流電圧源から発生される直流電圧よりも低いことを特徴とするゲート駆動回路。 - 半導体スイッチング素子を駆動するゲート駆動回路であって、
相補的にオン・オフするオン用スイッチング素子およびオフ用スイッチング素子を有し、前記半導体スイッチング素子を駆動するバッファ回路と、
前記オン用スイッチング素子のソースまたはエミッタに正極が接続され、前記ゲート駆動回路の基準電位に負極が接続された直流電圧源と、
前記オン用スイッチング素子のゲートおよび前記オフ用スイッチング素子のゲートに対して電圧パルスを出力する駆動ロジックとを備え、
前記電圧パルスの高電位側の電位が前記オン用スイッチング素子のソースの電位より第1のオフセット電圧分だけ高く、かつ、前記電圧パルスの低電位側の電位が前記オフ用スイッチング素子のソースの電位に設定されるか、
前記電圧パルスの高電位側の電位が前記オン用スイッチング素子のソースの電位に、かつ、前記電圧パルスの低電位側の電位が前記オフ用スイッチング素子のソースの電位より第2のオフセット電圧分だけ低く設定されるか、
または、前記電圧パルスの高電位側の電位が前記オン用スイッチング素子のソースの電位より第1のオフセット電圧分だけ高く、かつ、前記電圧パルスの低電位側の電位が前記オフ用スイッチング素子のソースの電位より第2のオフセット電圧分だけ低く設定されることを特徴とするゲート駆動回路。 - 前記半導体スイッチング素子は、ワイドバンドギャップ半導体によって形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のゲート駆動回路。
- 前記ワイドバンドギャップ半導体は、炭化珪素、窒化ガリウム系材料又はダイヤモンドであることを特徴とする請求項6に記載のゲート駆動回路。
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