JP5261542B2 - 光回路装置 - Google Patents

光回路装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5261542B2
JP5261542B2 JP2011145812A JP2011145812A JP5261542B2 JP 5261542 B2 JP5261542 B2 JP 5261542B2 JP 2011145812 A JP2011145812 A JP 2011145812A JP 2011145812 A JP2011145812 A JP 2011145812A JP 5261542 B2 JP5261542 B2 JP 5261542B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
polarization
optical circuit
waveguide
circuit device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2011145812A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011197700A (ja
Inventor
礼高 松原
洋志 川島
一孝 奈良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Original Assignee
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD. filed Critical THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority to JP2011145812A priority Critical patent/JP5261542B2/ja
Publication of JP2011197700A publication Critical patent/JP2011197700A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5261542B2 publication Critical patent/JP5261542B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/126—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind using polarisation effects
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/12007—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
    • G02B6/12009—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides
    • G02B6/12019—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer comprising arrayed waveguide grating [AWG] devices, i.e. with a phased array of waveguides characterised by the optical interconnection to or from the AWG devices, e.g. integration or coupling with lasers or photodiodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/27—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means
    • G02B6/2726—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means in or on light guides, e.g. polarisation means assembled in a light guide
    • G02B6/274—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means in or on light guides, e.g. polarisation means assembled in a light guide based on light guide birefringence, e.g. due to coupling between light guides
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/27—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means
    • G02B6/2753—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means characterised by their function or use, i.e. of the complete device
    • G02B6/2793—Controlling polarisation dependent loss, e.g. polarisation insensitivity, reducing the change in polarisation degree of the output light even if the input polarisation state fluctuates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
    • G02B6/293—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
    • G02B6/29346—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by wave or beam interference
    • G02B6/2935—Mach-Zehnder configuration, i.e. comprising separate splitting and combining means
    • G02B6/29352—Mach-Zehnder configuration, i.e. comprising separate splitting and combining means in a light guide

Description

本発明は、光通信分野に関する。
従来、ＤＷＤＭ（Dense Wavelength Division Multiplexing：高密度波長多重伝送システム）に使用される光部品において、ＰＬＣ（Planar Lightwave Circuit：平面導波路回路）を用いるものは、すでにスプリッタなどで実用化されており、その高い制御性、安定性の面から有望なデバイスとされている。将来のＤＷＤＭシステムの発展を見据えて、ＰＬＣを用いてダイナミックゲインイコライザや可変分散補償器といったような機能をもつ光回路がすでに開発されている。
これらの光回路において可変特性機能を発現させる手段としては熱光学効果が一般的に用いられる。熱光学効果とは、石英系ガラスなどの屈折率が温度により変化する現象のことである。光導波路の屈折率を熱光学効果によって変化させると、変化させた部分の光導波路の実行屈折率が変化するため、そこを伝播する光の位相に変化が生じる。これを利用して可変の導波路型干渉計を構成し、可変特性機能を実現できる。
ここで、図１４及び図１５を参照して、従来のダイナミックゲインイコライザを用いる構成を説明する。図１４（ａ）に、従来のダイナミックゲインイコライザを用いる構成における、波長に対する光アンプ及びダイナミックイコライザの利得特性を示す。図１４（ｂ）に、同じく波長に対する利得平坦化特性を示す。
図１４では、熱光学効果を用いたＰＬＣで作製したダイナミックゲインイコライザを動作させた。図１４（ａ）に示す光アンプがもつ利得波長特性を、ダイナミックゲインイコライザにより図１４（ｂ）に示す平坦化を行った結果である。このとき挿入損失は７．０ｄＢであった。
図１４（ｂ）により、ＴＥ（Transverse Electro）偏光については光アンプの利得波長特性を実用レベルで平坦化していることがわかる。しかしながら、ＴＭ（Transverse Magnetic）偏光については平坦化ができておらず、４．５ｄＢ以上もの非常に大きなＰＤＬ（Polarization Dependent Loss：偏波依存性損失）が発生していることがわかる。光アンプの波長特性によってはこのＰＤＬが１０ｄＢ以上となることもあり、実用化の大きな障害となっている。ＰＤＬが大きい原因には、ダイナミックゲインイコライザ内のヒータの加熱によってＰＬＣ内部に生じる異方性の応力により、光導波路に複屈折が生じ伝播特性の偏波依存性が発生することが挙げられる。
そこで、ＰＤＬを抑制するために、図１５に示すような光回路装置１０００が使用されている（例えば、非特許文献１参照）。図１５に、光回路装置１０００の構成を示す。光回路装置１０００は、ＰＬＣの光回路１０１０と、偏波分離合成器１０２０と、ＰＭＦ（Polarization Maintaining optical Fiber：偏波保持光ファイバ）１０３１，１０３２と、を備えて構成される。光回路１０１０及び偏波分離合成器１０２０は、ＰＭＦ１０３１，１０３２を介して接続される。偏波分離合成器１０２０は、サーキュレータ２００と、ＳＭＦ（Single Mode optical Fiber：シングルモード光ファイバ）３００を介して接続される。
サーキュレータ２００を透過した入射光は、まずＳＭＦ３００で偏波分離合成器１０２０に接続され、偏波分離合成器１０２０により、偏波面がお互いに直交する２偏波（例えば、図１５ではＴＥ偏光及びＴＭ偏光）に分離される。分離された片方の偏波（図１５ではＴＭ偏光）は、ＰＭＦ１０３２を回転させることにより偏波面を９０度回転させ、（図１５ではＴＥ偏光として）光回路１０１０へ入射した後、光回路１０１０から出射されて偏波分離合成器１０２０で合成される。もう片方の偏波（図１５ではＴＥ偏光）は偏波面を保持したまま光回路１０１０へ入射した後、光回路１０１０から出射されて偏波面を９０度回転させ偏波分離合成器１０２０で合成される。すなわち、光回路１０１０内では片偏波のみ（図１５ではＴＥ偏光のみ）しか存在しないため、原理的にＰＤＬは発生しない。
Doerr,「An Automatic 40-Wavelength Channelized Equalizer」,IEEE Photonics technology Letters,vol.12,No.9,September 2000,P1195
しかしながら、図１５に示す光回路装置１０００では、偏波依存性を無くすためには、ＰＭＦ１０３１，１０３２と光回路１０１０とを接続する際に両者の偏波面を完全に一致させる必要がある。しかし、ＰＭＦと他の光部品との接続での光学軸の軸合せ調整は難しく、現実的にはずれが生じるため、偏波消光比の劣化が発生し、ＰＤＬ発生の原因となるという問題があった。
また、光回路装置１０００では、光回路１０１０とＰＭＦ１０３１，１０３２との接続点、ＰＭＦ１０３１，１０３２と偏波分離合成器１０２０との接続点、偏波分離合成器１０２０とＳＭＦ３００との接続点が存在し、光部品間の接続が多いため、その接続損失も大きくなり、光回路装置１０００の挿入損失が大きいことが問題であった。
これに関して、光回路装置１０００では、光部品間の接続が多いため、接続コストが高くなることが問題であった。また、光部品間の接続が多いため、接続部の信頼性が悪くなることが問題であった。
また、光回路装置１０００では、ＰＭＦ１０３１，１０３２のとりまわしによってモジュールサイズの大型化を招くことが問題であった。また、ＰＭＦ１０３１，１０３２の応力付与方向をそろえたＰＭＦブロックが高価であり、コストが高くなることが問題であった。
本発明の課題は、入射光を２つの偏波に分離して光回路に入射する光回路装置において、ＰＤＬ及び挿入損失を低減することである。
この発明の光回路装置の第１の態様は、
光回路と、
入射波から２つの偏波への分離、及び２つの偏波から出射波への合成を行う偏波分離合成器と、
前記光回路及び前記偏波分離合成器の間を接続し、前記分離された２つの偏波が個々に入射される第１及び第２の光導波路と、
前記第１の光導波路に配置され、前記偏波分離合成器により分離された一方の偏波の偏波面を、前記分離されたもう一方の偏波の偏波面となるよう回転する偏波回転素子と、
を平面基板上に集積した光回路装置であって、
前記光回路は、熱光学効果を用いた可変特性機能をもつ光回路であることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第２の態様は、前記偏波回転素子は、半波長板であることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第３の態様は、前記光回路は、ダイナミックゲインイコライザであることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第４の態様は、前記光回路は、トランスバーサルフィルタであることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第５の態様は、前記光回路は、可変分散補償器であることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第６の態様は、前記光回路は、可変光減衰器であることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第７の態様は、前記光回路は、光スイッチであることを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第８の態様は、前記平面基板内に、前記光回路に接続されたモニタ用入力導波路及びモニタ用出力導波路が形成されたことを特徴とする光回路装置である。
この発明の光回路装置の第９の態様は、前記光回路は、トランスバーサルフィルタ回路を用いた可変分散補償器であることを特徴とする光回路装置である。
この発明によれば、熱光学効果を用いた可変特性機能をもつ光回路において、偏波分離合成器により入射光を２つの偏波に分離し、一方の偏波を光回路に入射し、もう一方の偏波を偏波回転素子により回転して偏波面を合わせて光回路に入射するので、光回路内に同じ偏波面の偏波しか存在せず、またＰＭＦを使用しないので偏波消光比の劣化が発生せず、ＰＤＬを大幅に低減できる。また、ＰＭＦを使用しないため、ＰＭＦと他の部品との接続部分が無くなり、挿入損失及び接続コストを大幅に低減できるとともに、接続部分の信頼性を向上できる。また、ＰＭＦを使用しないため、ＰＭＦのとりまわしを必要とせず、光回路装置のモジュールサイズを小型化できる。さらに、高価なＰＭＦブロックを使用しないので、光回路装置の製造コストを削減できる。
更に、この発明によれば、半波長板を用いるので、偏波分離合成器により分離された、お互いに直交する２つの偏波のうちの一方の偏波面を９０度回転し、もう一方の偏波の偏波面に合わせて光回路に入射することができる。
更に、この発明によれば、ダイナミックゲインイコライザにおいて、ＰＤＬ及び挿入損失を低減できる。
更に、この発明によれば、トランスバーサルフィルタにおいて、ＰＤＬ及び挿入損失を低減できる。
更に、この発明によれば、可変分散補償器において、ＰＤＬ及び挿入損失を低減できる。
更に、この発明によれば、可変光減衰器において、ＰＤＬ及び挿入損失を低減できる。
更に、この発明によれば、光スイッチにおいて、ＰＤＬ及び挿入損失を低減できる。
更に、この発明によれば、モニタ用入力導波路を介する光回路への試験光の入力と、モニタ用出力導波路を介する光回路から出力された試験光の測定により、光回路の光学特性を他の光部品を介さずに測定することができ、その光学特性結果に基づいて光回路の特性調整をすることができる。
図１は、本発明に係る第１の実施の形態の光回路装置１００の構成を示す図である。 図２は、本発明に係る第２の実施の形態の光回路装置４００の構成を示す図である。 図３は、第１の実施の形態に係る実施例１の光回路装置１００Ａの構成を示す図である。 図４（ａ）は、光回路装置１００Ａを用いる構成における、波長に対する光アンプ及びダイナミックイコライザの利得特性を示す図である。図４（ｂ）は、同じく波長に対する利得平坦化特性を示す図である。 図５は、第１の実施の形態に係る実施例２の光回路装置１００Ｂの構成を示す図である。 図６は、第１の実施の形態に係る実施例３の光回路装置１００Ｃの構成を示す図である。 図７は、光回路装置１００Ｃを用いる構成における、相対波長に対する可変分散特性を示すグラフである。 図８は、光回路装置１００Ｃを用いる構成における透過波長特性を示すグラフである。 図９は、第２の実施の形態に係る実施例４の光回路装置４００Ａの構成を示す図である。 図１０（ａ）は、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いる可変分散補償器５０Ａの、相対波長に対する可変分散特性を示すグラフである。図１０（ｂ）は、偏波ダイバーシティを用いる可変分散補償器５０Ａの、相対波長に対する可変分散特性を示すグラフである。 図１１（ａ）は、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いる可変分散補償器５０Ａの透過波長特性を示すグラフである。図１１（ｂ）は、偏波ダイバーシティを用いる可変分散補償器５０Ａの透過波長特性を示すグラフである。 図１２は、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した、可変分散補償器５０Ａの、アレイ導波路番号に対する位相誤差の分布を示すグラフである。 図１３は、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した、可変分散補償器５０Ａにおける位相誤差補正後の可変分散特性を示すグラフである。 図１４（ａ）は、従来のダイナミックゲインイコライザを用いる構成における、波長に対する光アンプ及びダイナミックイコライザの利得特性を示す図である。図１４（ｂ）は、同じく波長に対する利得平坦化特性を示す。 図１５は、光回路装置１０００の構成を示す図である。 図１６は、第１の実施の形態に係る実施例５の光回路装置１００Ｙの構成を示す図である。 図１７は、信号光が伝搬する導波路とモニタポート用導波路との交差部分を示す模式図である。 図１８は、実施例５の偏波分離合成器２０Ｂ（スルーポート-クロスポート接続）の偏波消光比の特性を示すグラフである。 図１９は、実施例１の偏波分離合成器２０Ｂ（スルーポート-スルーポート接続）の偏波消光比の特性を示すグラフである。 図２０は、実施例５での可変分散補償器１０Ｄの群遅延スペクトル測定結果を示す特性図である。 図２１は、実施例５での可変分散補償器１０Ｄの損失スペクトル測定結果を示す特性図である。 図２２は、実施例５での係数εに対する通過帯域幅および波長分散変化を示す特性図である。
以下、図面を参照して本発明に係る第１及び第２の実施の形態を順に説明する。
（第１の実施の形態）
図１を参照して、本発明に係る第１の実施の形態を説明する。先ず、図１を参照して、本実施形態の光回路装置１００の構成を説明する。図１に、本実施形態の光回路装置１００の構成を示す。
図１に示すように、光回路装置１００は、ＰＬＣであり、平面基板上に、光回路１０と、偏波分離合成器２０と、偏波回転素子３０と、光導波路４１，４２とが、１チップでモノリシック集積されて形成される。光回路装置１００上に形成された偏波分離合成器２０は、ＳＭＦ３００を介してサーキュレータ２００に接続される。
偏波分離合成器２０は、光導波路４１と、光導波路４２との２経路の光導波路を介して光回路１０につながれている。また、偏波回転素子３０は、光導波路４２上に設けられる。
光回路１０は、例えば、ダイナミックゲインイコライザ等の光回路であるものとする。偏波分離合成器２０は、サーキュレータ２００から入射される入射光を偏波面が直交する２つの偏波に分離し、また、２つの偏波を合成し、出射光としてサーキュレータ２００に出射する。
先ず、サーキュレータ２００を透過した入射光は、ＳＭＦ３００を介して、光回路装置１００の偏波分離合成器２０に入射される。光回路装置１００内では、偏波分離合成器２０によって直交する２偏波（本実施の形態では、ＴＥ偏光及びＴＭ偏光とする）に分離される。分離された偏波は、光回路装置１００内の光導波路４１，４２によって偏波面を保持しながら伝播する。分離された片方の偏波（図１ではＴＭ偏光）は、光導波路４２に挿入した偏波回転素子３０により偏波面を９０度回転させられ、ＴＥ偏光として光回路１０へ入射した後、光回路１０から出射されて偏波分離合成器２０で合成される。偏波分離合成器２０で分離されたもう片方の偏波（図１ではＴＥ偏光）は偏波面を保持したまま光回路１０へ入射した後、光回路１０から出射されて、偏波回転素子３０により偏波面を９０度回転させ偏波分離合成器２０で合成される。
従って、光回路１０内では片偏波のみ（図１ではＴＥ偏光のみ）しか存在せず、光回路装置１００が偏波ダイバーシティを構成しており原理的にＰＤＬは発生しない。また、光回路装置１００内では偏波面が保持されるという特徴を利用しており、ＰＭＦを使用する必要がない。
以上、本実施の形態によれば、入射光を偏光面が直交した２偏波に分離して光回路１０に入射する光回路装置１００において、光回路１０内では片偏波のみしか存在せず、またＰＭＦを用いないため、ＰＭＦと他の光部品との接続部分が無く、その接続時の偏波角度ズレによる偏波消光比の劣化がなく、ＰＤＬを大幅に低減できる。
また、図１５に示した従来の光回路装置１０００において、光部品間の接続箇所が５箇所（光回路１０１０とＰＭＦ１０３１，１０３２との接続箇所が２箇所、偏波分離合成器１０２０とＰＭＦ１０３１，１０３２との接続２箇所、ＳＭＦ３００と偏波分離合成器１０２０との接続１箇所）と多いため、接続損失が大きかったが、本実施の形態の構成では、接続箇所はＳＭＦ３００と光回路装置１００（の偏波分離合成器２０）の接続１箇所に減らすことができるため、接続損失を低減でき、光回路装置１００の挿入損失を大幅に低減することができる。また、接続箇所を減らすことができるため、接続コストを大幅に低減することができる。さらに、接続箇所を減らすことができるため、接続部の信頼性を向上できる。
また、ＰＭＦを使用しないことから、ＰＭＦのとりまわしを必要とせず、光回路装置のモジュールサイズの小型化が可能である。さらに、高価なＰＭＦブロックを使用しないことで、光回路装置の製造コスト削減が可能である。
（第２の実施の形態）
図２を参照して、本発明に係る第２の実施の形態を説明する。先ず、図２を参照して、本実施の形態の光回路装置４００の構成を説明する。図２に、本実施の形態の光回路装置４００の構成を示す。
図２に示すように、本実施の形態の光回路装置４００は、ＰＬＣであり、平面基板上に、光回路５０と、偏波分離合成器２０と、偏波回転素子３０と、光導波路４１，４２と、モニタ用入力導波路６１と、モニタ用出力導波路６２とが、１チップでモノリシック集積されて形成される。つまり、光回路装置４００は、第１の実施の形態の光回路装置１００に、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２が付加された構成である。以下、前述の図に記載された部分と同じ機能を有する部分には、その部分と同じ符号を付し、その説明を省略する。
モニタ用入力導波路６１は、光回路５０に繋がれており、光回路５０へ入力するモニタ用の試験光が導波される。モニタ用出力導波路６２は、光回路５０に繋がれており、光回路５０から出力されたモニタ用の試験光が導波される。
光回路装置４００における、入射光の分離及び合成により、光回路５０へ光信号を入射及び出射する構成（偏波ダイバーシティ構成）は、第１の実施の形態と同様である。そして、光回路装置４００における光回路５０のモニタ動作は、先ず、モニタ用の試験光がモニタ用入力導波路６１を介して入力され、光回路５０に入射される。そして、光回路５０から出射された試験光は、モニタ用出力導波路６２を介して出力されて測定される。このようにモニタ動作することで、サーキュレータ２００の取り付け前に、あるいは、偏波分離合成器２０を介さずに、光回路５０の光学特性把握や、光学特性結果に基づいて光回路５０の特性調整をすることが可能である。
この第２の実施の形態によれば、サーキュレータ２００を接続する前のＰＬＣチップの状態において、ＰＬＣの光回路装置４００内に形成された光回路５０の特性を評価することが、より容易となる。また、サーキュレータ２００の取りつけ等の組立工程前に、ＰＬＣチップの選別や特性調整をすることも容易となる。さらに、サーキュレータ２００の取付後に特性を測定する場合において、偏波分離合成器２０の光学特性の影響を受けることなく、正確に光回路５０の特性を測定することができる。
上記第１の実施の形態の具体的な実施例１として、図３及び図４を参照して、図１の光回路装置１００の光回路１０に、熱光学効果を用いた可変特性機能をもつダイナミックゲインイコライザを適用した構成を説明する。図３に、本実施例の光回路装置１００Ａの構成を示す。
図３に示すように、本実施例の集積型ＰＬＣの光回路装置１００Ａは、図１の光回路装置１００において光回路１０としてダイナミックゲインイコライザ１０Ａを設け、偏波分離合成器２０として偏波分離合成器２０を設け、偏波回転素子３０として半波長板３０Ａを設けた。
偏波分離合成器２０Ａは、偏波分離合成機能をもつ光回路としての光分岐結合器２１が同一基板内に２段縦列接続される。また、光分岐結合器２１には、光を導波路内に閉じ込めたまま分岐及び結合できる２つの方向性結合器とそれらを接続する２本の光導波路からなる光回路を用いる。各光分岐結合器２１においては、上記２本の光導波路の実効光路長の差が、２つの直交する電界成分において、一方の電界成分にとって入射光の波長の整数倍だけ異なり、もう一方の電界成分にとって入射光の波長の（整数＋１／２）倍だけ異なるものとする。このような構成にすれば、例えば、各光分岐結合器２１において、ＴＥ偏光にとって実効光路差長が入射光の波長の整数倍だけ異なり、ＴＥ偏光をクロスポートに出射し、ＴＭ偏光にとって実効光路差長が入射光の波長の（整数＋１／２）倍だけ異なり、ＴＭ偏光をスルーポートに出射できる。即ち、各光分岐結合器２１において、ＴＥ偏光及びＴＭ偏光の分離ができる。
本実施例においては、２つの方向性結合器とそれらを接続する２本の光導波路との組合せ（方向性結合器＋２本の導波路＋方向性結合器）により光分岐結合器２１を構成したが、これに限定されるものではなく、少なくとも２つの方向性結合器とそれらを接続する２本の光導波路との組合せにより構成することとしてもよい。また、各光分岐結合器２１においては、方向性結合器の代わりに、Ｙ分岐回路もしくはＭＭＩ（MultiMode Interference：多モード干渉方式）回路を用いてもよく、それらを組み合わせて使用してもよい。例えば、各光分岐結合器２１は、（Ｙ分岐回路＋２本の導波路＋Ｙ分岐回路）、（ＭＭＩ回路＋２本の導波路＋ＭＭＩ回路）、（方向性結合器＋２本の導波路＋Ｙ分岐回路）、（方向性結合器＋２本の導波路＋ＭＭＩ回路）、（Ｙ分岐回路＋２本の導波路＋ＭＭＩ回路）として構成してもよい。また、偏波分離合成器２０Ａにおいて、異なる構成の光分岐結合器２１を組み合わせてもよい。どの光分岐結合器を使用するかについては、偏波分離合成機能の波長特性や光分岐結合器の作製誤差を考慮して適時選択することが可能である。
半波長板３０Ａは、入射光の偏波面を９０度回転して出射する複屈折板である。ダイナミックゲインイコライザ１０Ａには、トランスバーサルフィルタ型の光回路を適用した。
また、光回路装置１００ＡにＰＭＦを用いず、ＳＭＦ３００で、光回路装置１００Ａとサーキュレータ２００との接続を行った。
次いで、光回路装置１００Ａの作製について説明する。火炎加水分解堆積法を用いてシリコン基板上に石英系ガラスのアンダークラッド膜、コア膜を形成し、その後、図２に示すダイナミックゲインイコライザ１０Ａと、偏波分離合成器２０Ａとの描かれたフォトマスクを介してフォトリソグラフィーを行い、反応性イオンエッチング法にてコアをパターニングした。その後再度、火炎加水分解堆積法を用いて石英系ガラスのオーバークラッド膜を形成した。
続いて、スパッタ法により、偏波分離合成回路としての光分岐結合器２１と、光分岐結合カプラ１４と、光遅延線１５ａ〜１５ｈ上の位相調節手段１６と、光分岐結合カプラ１７と、に設けられるＴｉ／Ｎｉヒータを形成し、また給電用としてＴｉ／Ｎｉ／Ａｕ電極を施し、ダイナミックゲインイコライザ１０Ａと偏波分離合成器２０Ａの集積型ＰＬＣを作製した。
さらに、ダイナミックゲインイコライザ１０Ａと偏波分離合成器２０Ａとを接続する一方の光導波路４２に、ダイシングにより溝を形成し、ポリイミドの半波長板３０Ａを挿入して光回路装置１００Ａに形成した。最後にサーキュレータ２００と光回路装置１００ＡとをＳＭＦ３００により接続し、偏波ダイバーシティとして構成した。
このように、光回路装置１００Ａにおいて、偏波分離合成器２０Ａは、２段の光分岐結合器２１を備えて構成される。また、ダイナミックゲインイコライザ１０Ａは、３段の光分岐結合カプラ１４を有する多段光分岐結合カプラ１１と、８本の光遅延線１５ａ〜１５ｈ上のＴｉ／Ｎｉヒータによる位相調節手段１６を有する光接続回路１２と、３段の光分岐結合カプラ１７を有する多段光分岐結合カプラ１３と、を備えて構成される。
光分岐結合カプラ１４，１７には、Ｔｉ／Ｎｉヒータにより光振幅可変手段が構成される。また、この構成に限定されるものではなく、多段光分岐結合カプラ１１のうちの少なくとも１つの光分岐結合カプラと、多段光分岐結合カプラ１３のうちの少なくとも１つの光分岐結合カプラとに、光振幅可変手段が設けられる構成としてもよい。また、光分岐結合器２１には、Ｔｉ／Ｎｉヒータにより光振幅可変手段が構成されることとしたが、この構成に限定されるものではなく、光振幅可変手段をもたない構成としてもよい。
また、偏波分離合成器２０Ａにおける光分岐結合器２１の段数は、２段に限定されるものではなく、少なくとも２段であることが好ましく、段数が大きくなればなるほど入射光をより明確に分離でき、高い偏波消光比を得ることができる。また、多段光分岐結合カプラ１１、１３の段数は、それぞれ、３段に限定されるものではなく、光遅延線及び位相調節手段のそれぞれの数も、８に限定されるものではない。
光遅延線１５ａ〜１５ｈは、その長さに応じた設定時間遅延を伝搬光に付与する。光遅延線１５ａの長さを基準として、光遅延線１５ｂは、光遅延線１５ａよりもｄＬ長く形成される。同様に、光遅延線１５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇ，１５ｈは、それぞれ光遅延線１５ａよりも２ｄＬ，３ｄＬ，４ｄＬ，５ｄＬ，６ｄＬ，７ｄＬ長く形成される。
光回路装置１００Ａにおける動作は、先ず、サーキュレータ２００からＳＭＦ３００を介して入射された入射波が偏波分離合成器２０ＡによりＴＥ偏波及びＴＭ偏波に分離される。その分離されたＴＥ偏波は、多段光分岐結合カプラ１１により分岐されて光接続回路１２に入射され、その入射光の位相が光接続回路１２により調整され、光接続回路１２から出力される分岐したＴＥ偏波が多段光分岐結合カプラ１３により結合され、その結合されたＴＥ偏波が半波長板３０Ａを介してＴＭ偏波にされて偏波分離合成器２０Ａに入射される。一方、偏波分離合成器２０Ａにより分離されたＴＭ偏波は、半波長板３０Ａを介してＴＥ偏波にされ、そのＴＥ偏波が多段光分岐結合カプラ１３により分岐されて光接続回路１２に入射されて位相が調整され、光接続回路１２から出力される分岐したＴＥ偏波が多段光分岐結合カプラ１１により結合され、その結合されたＴＥ偏波が偏波分離合成器２０Ａに入射される。偏波分離合成器２０Ａでは、入射されたＴＥ偏波及びＴＭ偏波が合成され、その合成された出射波がＳＭＦ３００を介してサーキュレータ２００に出射される。
次いで、図４を参照して、光回路装置１００Ａにより光アンプの利得平坦化を行った結果を説明する。図４（ａ）に、光回路装置１００Ａを用いる構成における、波長に対する光アンプ及びダイナミックイコライザの利得特性を示す。図４（ｂ）に、同じく波長に対する利得平坦化特性を示す。
図４（ａ），（ｂ）に示すように、光回路装置１００Ａにより、ＴＥ偏光及びＴＭ偏光について、光アンプの利得特性を実用レベルで平坦化できていることがわかる。このとき挿入損失は，約４．５ｄＢ以下であり、光回路装置１００Ａを用いない構成に比べ低損失化を実現した。この損失中にはＰＬＣ内の回路の伝搬損失と、回路の過剰損失と、ＳＭＦ３００及びサーキュレータ２００の接続損失を含んでいる。ＰＤＬは０．５ｄＢ以下であり、光回路装置１００Ａを用いることで大幅にＰＤＬの低減が可能となった。縦列接続した偏波分離合成器２０Ａの偏波消光比は４０ｄＢ以上であった。これにより、本実施例によれば、低挿入損失且つ低ＰＤＬである集積型偏波ダイバーシティ構成としての光回路装置１００Ａが作製できる。
また、偏波分離合波器２０ＡをＰＬＣに集積していることにより、１段の偏波分離合成器の作製と全く同じ工程で、本実施例のような２段縦列接続した構成の偏波分離合成器２０Ａを作製可能であり、偏波分離合成器の特性の向上を低コストで実現できる。
なお、上記実施例１においては、光接続回路１２として、光遅延線１５ａ〜１５ｈ上に位相調節手段１６を設ける構成としたが、これに限定されるものではない。例えば、光遅延線１５ａ〜１５ｈと位相調節手段１６とを縦列に接続する構成としてもよく、その接続順が逆になってもよい。
上記第１の実施の形態の具体的な実施例２として、図５を参照して、図１の光回路１０に、低損失型のダイナミックゲインイコライザを適用した構成を説明する。図５に、本実施例の光回路装置１００Ｂの構成を示す。
図５に示すように、本実施例の集積型ＰＬＣの光回路装置１００Ｂは、図３の光回路装置１００Ａにおいて、ダイナミックゲインイコライザ１０Ａに代えて、低損失型で偏波ダイバーシティ構成のダイナミックゲインイコライザ１０Ｂを設ける構成である。ダイナミックゲインイコライザ１０Ｂは、多段光分岐結合カプラ１１と、光接続回路１２Ｂと、多段光分岐結合カプラ１３とに加えて、光分岐結合カプラ１８と、光遅延線１５Ｂ上の位相調節手段１６Ｂと、光分岐結合カプラ１９と、を備えて構成される。光接続回路１２Ｂは、８本の光遅延線１５ｉ〜１５ｐ上のＴｉ／Ｎｉヒータによる位相調節手段１６を有する。
光遅延線１５ｊ〜１５ｐおよび光遅延線１５Ｂは、それぞれ、光遅延線１５ｉよりもｄＬ，２ｄＬ，３ｄＬ，５ｄＬ，６ｄＬ，７ｄＬ，８ｄＬ，４ｄＬ長く形成される。位相調節手段１６Ｂは、Ｔｉ／Ｎｉヒータにより構成されるものとするが、構成されないものとしてもよい。また、光遅延線１５ｉ〜１５ｐと位相調節手段１６とを縦列に接続する構成としてもよく、その接続順が逆になってもよい。また、光遅延線１５Ｂと位相調節手段１６Ｂとを縦列に接続する構成としてもよく、その接続順が逆になってもよい。光分岐結合カプラ１８，１９には、Ｔｉ／Ｎｉヒータにより光振幅可変手段が構成されるものとするが、構成されないものとしてもよい。
本実施例の光回路装置１００Ｂによれば、光アンプの利得平坦化特性が、上記実施例１の光回路装置１００Ａと同等であるとともに、光回路装置１００Ｂの挿入損失が約３．５ｄＢ以下となり、さらに低損失を実現することできる。また、光回路装置１００Ｂは、ＰＤＬが０．５ｄＢ以下となり、ＰＤＬを低減できる。
上記第１の実施の形態の具体的な実施例３として、図６〜図８を参照して、図１の光回路装置１００の光回路１０に、可変特性機能をもつ偏波ダイバーシティ構成の可変分散補償器を適用した構成を説明する。図６に、本実施例の光回路装置１００Ｃの構成を示す。
図６に示すように、本実施例の光回路装置１００Ｃは、上記実施例１の光回路装置１００Ａのダイナミックゲインイコライザ１０Ａに代えて、可変分散補償器１０Ｃを設ける構成である。可変分散補償器１０Ｃには、ＡＷＧ（Arrayed Waveguide Grating：アレイ導波路グレーティング）のアレイ導波路部分に位相シフタを設け、伝搬光に位相を付与することで可変分散量を得る光回路を適用した。
可変分散補償器１０Ｃは、光導波路４１に繋がれたスラブ導波路１１Ｃと、複数のチャネルのチャネル導波路１２Ｃａからなるアレイ導波路１２Ｃと、複数のチャネル導波路１２Ｃａ上にそれぞれ設けられる複数の位相シフタ１３Ｃａからなる位相調整部１３Ｃと、光導波路４２に繋がれたスラブ導波路１４Ｃと、を備えて構成される。
光回路装置１００Ｃの作製は、上記実施例１の光回路装置１００Ａの作製と同様に、可変分散補償器１０Ｃと偏波分離合波器２０Ａとの描かれたフォトマスクを用いたパターニングや、スパッタ法による位相シフタ１３Ｃａ部分のＴｉ／Ｎｉヒータの形成等により行われる。
可変分散補償器１０Ｃには、ＡＷＧのアレイ導波路１２Ｃに位相調整部１３Ｃを設け、伝搬光に位相を付与することで可変分散量を得る光回路を適用した。チャネル導波路１２Ｃａ及び位相シフタ１３Ｃａの数は、図面上１２本であるが、これに限定されるものではない。例えば、１００本といったような多数設けられる構成としてもよい。可変分散補償器１０Ｃの設定位相分布は、例えば、アレイ導波路のチャンネル導波路１２Ｃａ本数をＭ本（Ｍは正の整数）、チャンネル導波路１２Ｃａの配列順に付与したチャンネル導波路番号をｋ（ｋ＝０〜Ｍ−１）としたとき、チャンネル導波路番号ｋの中心（Ｍ−１）／２に対して実質的に線対称となる偶関数的分布とする。
光回路装置１００Ｃにおける動作は、先ず、サーキュレータ２００からＳＭＦ３００を介して入射された入射波が偏波分離合成器２０ＡによりＴＥ偏波及びＴＭ偏波に分離される。その分離されたＴＥ偏波は、スラブ導波路１１Ｃにより分岐されてアレイ導波路１２Ｃに入射され、分岐された光が各チャネル導波路１２Ｃａを介して伝播し各位相シフタ１３Ｃａにより位相が調整され、スラブ導波路１４Ｃにより結合され、その結合されたＴＥ偏波が半波長板３０Ａを介してＴＭ偏波にされて偏波分離合成器２０Ａに入射される。一方、偏波分離合成器２０Ａにより分離されたＴＭ偏波は、半波長板３０Ａを介してＴＥ偏波にされ、そのＴＥ偏波がスラブ導波路１４Ｃにより分岐されて、各チャネル導波路１２Ｃａを介して伝播し、各位相シフタ１３Ｃａにより位相が調整され、スラブ導波路１４Ｃにより結合され、その結合されたＴＥ偏波が偏波分離合成器２０Ａに入射される。偏波分離合成器２０Ａでは、入射されたＴＥ偏波及びＴＭ偏波が合成され、その合成された出射波がＳＭＦ３００を介してサーキュレータ２００に出射される。
図７に、光回路装置１００Ｃを用いる構成における、相対波長に対する可変分散特性を示す。図７に示すように、光回路装置１００Ｃを用いる構成においても可変分散が得られていることが分かる。このとき挿入損失は、約３．５ｄＢであり、光回路装置１００Ｃを用いない構成に比べ約１．０ｄＢの低損失化を実現した。この損失中には、光回路装置１００Ｃ内の回路の伝搬損失、回路の過剰損失、ＳＭＦ３００、サーキュレータ２００の接続損失を含んでいる。
図８に、光回路装置１００Ｃを用いる構成における、最大分散量を設定した場合の透過波長特性を示す。図８に示すように、光回路装置１００ＣのＰＤＬは０．５ｄＢ以下であり、光回路装置１００Ｃをもちいることで大幅にＰＤＬの低減が可能であった。また、縦列接続した偏波分離合波器２０Ａの偏波消光比は、４０ｄＢ以上であった。
本実施例によれば、可変分散補償器１０Ｃを用いる光回路装置１００Ｃにおいても、その挿入損失及びＰＤＬを低減できる。
なお、可変分散補償器に用いる光回路は、ＡＷＧを用いる構成に限定されるものではない。例えば、ラティスフィルタ用いた光回路や、リング共振器を用いた光回路等のようなＰＬＣに形成可能な光回路であればよい。
上記第２の実施の形態の具体的な実施例４として、図９〜図１３を参照して、図２の光回路装置４００の光回路５０に、可変特性機能をもつ偏波ダイバーシティ構成の可変分散補償器を適用した構成を説明する。図９に、本実施例の光回路装置４００Ａの構成を示す。
図９に示すように、本実施例の光回路装置４００Ａは、図２の光回路装置４００において光回路５０としてＡＷＧを用いた可変分散補償器５０Ａを設け、偏波分離合成器２０として偏波分離合成器２０Ａを設け、偏波回転素子３０として半波長板３０Ａを設けた。
可変分散補償器５０Ａは、光導波路４１及び入力導波路６１に繋がれたスラブ導波路５１と、複数のチャネル導波路５２ａからなるアレイ導波路５２と、複数のチャネル導波路５２ａ上にそれぞれ設けられる複数の位相シフタ５３ａからなる位相調整部５３と、複数のチャネル導波路５２ａ上にそれぞれ設けられる複数の特性調整用ヒータ５４ａからなる特性調整部５４と、光導波路４２及び出力導波路６２に繋がれたスラブ導波路５５と、を備えて構成される。
また、可変分散補償器５０Ａは、上記実施例３の可変分散補償器１０Ｃと異なる構成を有する。可変分散補償器５０Ａにおいて、スラブ導波路５１の焦点位置に対してアレイ導波路５２の外側方向のスラブ導波路５１端面に接続された第１の入力導波路と、スラブ導波路５５の焦点位置に対してアレイ導波路５２の内側方向のスラブ導波路５５端面に形成された第１の出力導波路と、を第１組の入出力導波路とする。また、スラブ導波路５１の焦点位置に対して第１の入力導波路と対称な位置でスラブ導波路５１端面に接続された第２の入力導波路と、スラブ導波路５５の焦点位置に対して第１の出力導波路と対称な位置でスラブ導波路５５端面に接続された第２の出力導波路と、を第２組の入出力導波路とする。
第１入力導波路、第１の出力導波路は、それぞれ、光導波路４１、光導波路４２を介して、偏波分離合波器２０Ａに接続される。第２の入力導波路、第２の出力導波路は、それぞれ、異なる２箇所のチップ端面に形成されたモニタ用入力導波路６１、モニタ用出力導波路６２に接続されている。上記のような、スラブ導波路の焦点位置に対して対称な位置に形成された２組の入出力導波路を有する構成によれば、第１の入力導波路からＡＷＧ回路に入力し、第１の出力導波路から出力した光の透過波長特性と、第２の入力導波路から入力し、第２の出力導波路から出力した光の透過波長特性はほぼ同一となる。
従って、モニタ用入力導波路６１を用いて可変分散補償器５０Ａの第１の入力導波路に試験光を入力し、第１の出力導波路から出力された光をモニタ用出力導波路６２から取り出して測定することにより，サーキュレータ２００を用いずに、ＰＬＣの光回路装置４００Ａ内に形成された可変分散補償器５０Ａの透過波長特性を測定することができる。
また、可変分散補償器５０Ａにおいて、各チャネル導波路５２ａ上に、分散可変用のヒータ（位相シフタ５３ａ）とは別の特性調整用ヒータ５４ａを形成している。この特性調整用ヒータ５４ａを用いることで、文献（M. Abe et al., Electronics Letters Vol.32, No.19, Sep. 1996）に記載されているような局所過熱位相トリミング技術によるアレイ導波路間位相誤差の補正が可能となる。
次いで、図１０及び図１１を参照して、モニタ用入力導波路６１からＰＭＦを用いてＴＥ偏波の試験光を入力し、モニタ用出力導波路６２から出力した光を測定して得た可変分散補償器５０Ａの可変分散特性及び透過波長特性と、サーキュレータ２００取り付け後に、光回路装置４００Ａにおいて偏波分離合成器２０Ａを介する光信号を分離及び合成する構成（偏波ダイバーシティ構成）における可変分散補償器５０Ａの可変分散特性及び透過波長特性と、を説明する。図１０（ａ）に、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した、可変分散補償器５０Ａの、相対波長に対する可変分散特性を示す。図１０（ｂ）に、偏波ダイバーシティを用いて測定した、可変分散補償器５０Ａの、相対波長に対する可変分散特性を示す。図１１（ａ）に、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した、可変分散補償器５０Ａの透過波長特性を示す。図１１（ｂ）に、偏波ダイバーシティを用いて測定した、可変分散補償器５０Ａの透過波長特性を示す。
図１０（ａ）に示すように、モニタ用入力導波路６１からＴＥ偏波の試験光を入力し、モニタ用出力導波路６２から出力した光を測定して得た可変分散補償器５０Ａの可変分散特性は、図１０（ｂ）に示す偏波ダイバーシティを用いて測定した可変分散特性とほぼ同様の特性が得られており、サーキュレータ２００無しで分散特性把握が可能であることがわかる。
また、図１１（ａ）に示すように、モニタ用入力導波路６１からＴＥ偏波の試験光を入力し、モニタ用出力導波路６２から出力した光を測定して得た可変分散補償器５０Ａの透過波長特性は、サーキュレータ２００や偏波分離合波器２０Ａを透過しない分、図１１（ｂ）に示す偏波ダイバーシティを用いて測定した場合よりも、全体的に損失が１．５ｄＢ程度小さくなっているものの、ほぼ同様の透過波長特性が得られており、透過波長特性についても特性把握が可能であることが確認できた。
次いで、図１２及び図１３を参照して、光回路装置４００Ａにおいて、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用い、文献（H. Yamada et al., J. Lightwave Technology, Vol.16, No.3, Mar. 1998）で報告されている低コヒーレンス光干渉法によるアレイ導波路の位相誤差測定及びその補正を説明する。図１２に、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した、可変分散補償器５０Ａの、アレイ導波路番号に対する位相誤差の分布を示す。アレイ導波路番号は、可変分散補償器５０Ａのアレイ導波路５２の各チャネル導波路５２ａに付与された番号である。
図１２に示すように、各チャネル導波路５２ａ間では、最大０．３４ｒａｄ程度の位相誤差が発生していることがわかる。このような位相誤差は、チャネル導波路５２ａに形成した位相シフタ５３ａによって形成する位相分布形状を乱し、可変分散量を低下させる。
そこで、この結果に基づいて、各チャネル導波路５２ａに形成した特性調整用ヒータ５４ａへの通電電力及び通電時間を決定し、アレイ導波路５２の位相誤差補正を行った。図１３に、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した、可変分散補償器５０Ａにおける位相誤差補正後の可変分散特性を示す。
図１３に示すように、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を用いて測定した可変分散補償器５０Ａの可変分散特性は、位相誤差補正により最大可変分散量が、図１０（ａ）に示した補正前の−１３０〜＋８０［ｐｓ／ｎｍ］から約−１９０〜＋１３０［ｐｓ／ｎｍ］へと大幅に向上した。
本実施例の様に、モニタ用入力導波路６１及びモニタ用出力導波路６２を設けることで、可変分散補償器５０Ａの特性をサーキュレータ２００及び偏波分離合波器２０Ａを介さずに測定できるようになったため、光回路単体での特性を事前に正確に把握でき、また精密な位相調整が可能になった。
次に、上記第１の実施形態の具体的な実施例５として、図１６を参照して、図１の光回路１０に、光トランスバーサルフィルタ回路を用いた可変分散補償器を適用した構成を説明する。図１６には、本実施例の光回路装置１００Ｙの構成を示す。
図１６に示すように、本実施例の集積型ＰＬＣの光回路装置１００Ｙは、図１の光回路装置１００において光回路１０として可変分散補償器１０Ｄを設け、偏波分離合成器２０として偏波分離合成器２０Ｂを設け、偏波回転素子３０として半波長板３０Ａを設けた。
偏波分離合成器２０Ｂは、偏波分離合成機能をもつ光回路としての光分岐結合器２１が同一基板内に２段縦列接続される。本実施例では、光分岐結合器２１においてスルーポートから出射された光は光分岐結合器２２においてクロスポートから出射され、光分岐結合器２１においてクロスポートから出射された光は光分岐結合器２２においてスルーポートから出射されるように、接続経路が設計されていることを特徴としている。実施例1の偏波分離合成器２０Ａ内で用いられているスルーポート-スルーポート接続に比べ、さらに広い波長範囲にわたって、高い偏波消光比を得ることができる。
光分岐結合器２１、２２においては、上記２本の光導波路の実効光路長の差が、２つの直交する電界成分において、一方の電界成分にとって入射光の波長の整数倍だけ異なり、もう一方の電界成分にとって入射光の波長の（整数＋１／２）倍だけ異なるものとする。ここで光分岐結合器２１においてスルーポートに出射された偏波が光分岐結合器２２においてはクロスポートに出射し、光分岐結合器２１においてクロスポートに出射された偏波が光分岐結合器２２においてはスルーポートに出射するように実効光路差長を設定する。
例えば、各光分岐結合器２１において、ＴＥ偏光にとって実効光路差長が入射光の波長の整数倍だけ異なり、ＴＥ偏光をクロスポートに出射し、光分岐結合器２２において、ＴＥ偏光にとって実効光路差長が入射光の波長の（整数＋１／２）倍だけ異なり、ＴＥ偏光をスルーポートに出射する。
そして、各光分岐結合器２１において、ＴＭ偏光にとって実効光路差長が入射光の波長の（整数＋１／２）倍だけ異なり、ＴＭ偏光をスルーポートに出射し、光分岐結合器２２において、ＴＭ偏光にとって実効光路差長が入射光の波長の整数倍だけ異なり、ＴＭ偏光をクロスポートに出射する。
光分岐結合器２１、２２における２本の光入力端のうち、接続に供しない光入力端は、特性調整用のモニタポート１０１〜１０７および１１０〜１１５としてチップ端面に接続されている。
また前記各光分岐結合器２１、２２には、熱光学効果によって導波路の屈折率を変化させ、実効光路差長を可変可能な調節手段である薄膜ヒータが形成されている。なお、簡略化のため、図示は省略するが、各薄膜ヒータは、金薄膜からなる電気配線により給電され、各薄膜ヒータの両脇には、消費電力削減のため、光導波路膜を基板に達するまで除去した断熱溝が形成されている。
図１６に示す、本実施例の可変分散補償器１０Ｄは、石英系平面光導波路により作製されており、２入力２出力型ＭＺＩ回路からなる光分岐カプラＶＣｘ-ｘ（ｘ-ｘは1-1から4-8間の任意の値）をツリー状に接続して形成された多段光分岐カプラと、２入力２出力型ＭＺＩ回路からなる光合波カプラを逆ツリー状に接続して形成された、多段光合波カプラＶＣｙ-ｙ（ｙ-ｙは5-1から8-1間の任意の値）と、前記多段光分岐カプラＶＣｘ-ｘのそれぞれの光出力端と前記多段光合波カプラＶＣｙ-ｙの対応する光入力端との間に介設されて伝搬光の伝搬時間を設定時間遅延させる16本の光遅延線ｄと、１６個の位相シフタＰＳ1〜ＰＳ16を有する。該光遅延線ｄは互いに間隔を介して並設されて該並設方向の一端側から他端側に向けて順に長さが設定量ずつ長くなるように形成された光トランスバーサルフィルタ回路で構成されている。
また前記各光分岐カプラＶＣｘ-ｘ及び光合波カプラＶＣｙ-ｙには、熱光学効果によって導波路の屈折率を変化させ、分岐比を可変可能な光分岐比調節手段である薄膜ヒータが形成されている。なお、簡略化のため、図示は省略するが、各薄膜ヒータは、金薄膜からなる電気配線により給電され、各薄膜ヒータの両脇には、消費電力削減のため、光導波路膜を基板に達するまで除去した断熱溝が形成されている。
また、各光遅延線ｄ上には各光遅延線ｄを伝搬する伝搬光の位相を熱光学効果によって可変可能な位相調節手段である薄膜ヒータが形成され、位相シフタＰＳ1〜ＰＳ１６を構成している。
さらに、前記光トランスバーサルフィルタ回路において、１段目の光分岐カプラＶＣ1-1における２本の光入力端のうちの一方は前記光分岐結合器２２に接続され、もう一方は光入力ポート１０８としてチップ端面に接続されている。また最終段の光合波カプラＶＣ8-1における２本の光出力端のうちの一方は前記光分岐結合器２２に接続され、もう一方は前記光入力ポート１０４に対応しており、光出力ポート２０８としてチップ端面に接続されている。
２段目以降の光分岐カプラＶＣｘ-ｘにおける２本の光入力端のうち、前段の光分岐カプラＶＣｘ-ｘとの接続に供しない光入力端は、モニタポート１０１〜１０７および１１０〜１１５としてチップ端面に接続されている。同様に、２段目以降の光合波カプラＶＣｙ-ｙにおける２本の光出力端のうち、前段の光合波カプラＶＣｙ-ｙとの接続に供しない光出力端は、モニタポート２０１〜２０７および２１０〜２１５としてチップ端面に接続されている。
このような構成により、モニタ用入力導波路に試験光を入力してモニタ用出力導波路から出力された光を取り出して測定することにより、光分岐結合器２１、２２および可変分散補償器の光分岐カプラＶＣｘ-ｘ、光合波カプラＶＣｙ-ｙ、位相シフタＰＳｘの特性を測定することができる。
上記のようにして得られた特性を用いて、光分岐結合器２１、２２を構成するヒータへの通電量を適宜調整し、実効光路長差を調整することができる。従って、仮に光分岐結合器２１、２２において作製誤差により生じた設計からのズレがあった場合にも、調整を行うことにより、偏波分離合成器２０Ｂにおいて得られる特性の劣化を抑制できる。
さらに、上記のようにして得られた特性を用いて、多段光分岐カプラＶＣｘ-ｘ及び多段光合波カプラＶＣｙ-ｙを構成する各ＭＺＩ回路上の薄膜ヒータへの通電量を適宜調整し、各ＭＺＩ回路の結合率を変化させることにより、１６本の光経路（タップ）の光振幅を任意に調整することが出来る。また、各光遅延線ｄ上の薄膜ヒータへの通電量を適宜調整することにより、各タップの位相を任意に調整することができる。従って、可変分散補償器１０Ｄの特性を設定することが可能である。
ところで図１６中に破線で囲って示すように、実際に可変分散補償器１０Ｄとして使用する場合、信号光が伝搬する導波路とモニタ用導波路との交差部分が増加するため、交差部における放射損失の増大が問題となる。
ここで、実際に可変分散補償器１０Ｄとして使用する場合、前記各接続導波路には信号光が伝搬するので損失増加が問題となるが、モニタポート用導波路は光分岐カプラ等の特性把握時に用いるだけで、信号光は伝搬しないので、特性把握に支障が出ない程度であれば損失増加が発生しても問題は無い。
そこで、本実施例においては、信号光が伝搬する導波路とモニタポート用導波路との交差部分において、図１７に示すように、モニタ用導波路に不連続部分を設け、信号光が伝搬する導波路とモニタ用導波路が接続せず互いに分離されるようにした。モニタ用導波路の不連続部分間の端面は信号光が伝搬する導波路と平行になるようにした。
これにより、入出力ポート３０１から入力され、再び入出力ポート３０１から出力される信号光の各経路にモニタ用導波路との接触部分が無くなるので、損失増加を抑制できる。
上述した図１６に示す本実施例の集積型ＰＬＣの光回路装置１００Ｙの作製は、以下のように行った。
まず、シリコン基板上に火炎加水分解堆積法(ＦＨＤ法)とリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を用いて石英系光導波路からなる光トランスバーサルフィルタ回路を形成した。導波路の比屈折率差は1.5％、コアサイズは５μm×５μmとした。次にスパッタ法により薄膜ヒータ及び給電用電極を形成した。次に、ＲＩＥにより断熱溝を形成した。最後にチップをダイシングにより切り出した。
作製した偏波分離合成器２０Ｂ（スルーポート-クロスポート接続）の特性を図１８に示す。図１８より、波長帯域1523〜1568nmにおいて40dB以上の偏波消光比が得られている。また比較のため、実施例1で作製した偏波分離合成器20Ａ（スルーポート-スルーポート接続）の特性を図１９に示す。図１９より、波長帯域1526〜1564nmにおいて40dB以上の偏波消光比が得られている。両者とも38nm以上の広帯域において40dB以上という高い偏波消光比が得られていることがわかる。また、両者を比較すると、スルーポート-クロスポート接続を用いた方がスルーポート-スルーポート接続を用いるよりも、さらに広帯域において高い偏波消光比が得られていることがわかる。
本光トランスバーサルフィルタ回路を用いた可変分散補償器を構成するのに使用した各種パラメータを表１に示す。
Figure 0005261542
このようにして得られた可変分散補償器の群遅延スペクトルを図２０に、損失スペクトルを図２１に、係数εに対する通過帯域幅および波長分散の変化を示すグラフを図２２に示す。これらのグラフより、係数ε＝±２．０において、約±１０５ｐｓ／ｎｍの波長分散、約０．６ｎｍの通過帯域、約７．７ｄBの帯域内最小損失、１．２ｄB以内の帯域内損失変動が得られた。
なお、上記実施例１〜５においては、上記第１の実施の形態における光回路１０として、ダイナミックゲインイコライザ１０Ａ，１０Ｂ、可変分散補償器１０Ｃ、１０Ｄを適用した例を説明したが、光回路１０はこれに限定されるものではない。例えば、光回路１０として、その他の構成のダイナミックゲインイコライザや可変分散補償器、熱光学効果を用いた可変特性機能をもつその他の光回路、その他のトランスバーサルフィルタ、可変光減衰器又は光スイッチ等を適用する構成としてもよい。
また、上記実施例４においては、上記第２の実施の形態における光回路５０として、可変分散補償器５０Ａを適用した例を説明したが、光回路５０はこれに限定されるものではない。例えば、光回路５０として、ダイナミックゲインイコライザ、その他の構成の可変分散補償器、熱光学効果を用いた可変特性機能をもつその他の光回路、トランスバーサルフィルタ、可変光減衰器又は光スイッチ等を適用する構成としてもよい。
また、上記各実施の形態及び各変形例における光回路装置の各構成要素の細部構成、及び細部動作に関しては、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能であることは勿論である。
１００，１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｘ，１００Ｙ，４００，４００Ａ，１０００ 光回路装置
２００ サーキュレータ
３００ ＳＭＦ
１０，１０１０ 光回路
１０Ａ，１０Ｂ ダイナミックゲインイコライザ
１１ 多段光分岐結合カプラ
１２，１２Ｂ 光接続回路
１３ 多段光分岐結合カプラ
１４，１７，１８，１９ 光分岐結合カプラ
１５ａ〜１５ｈ，１５ｉ〜１５ｐ，１５Ｂ 光遅延線
１６，１６Ｂ 位相調節手段
２０，２０Ａ，２０Ｂ、１０２０ 偏波分離合成器
２１、２２ 光分岐結合器
３０ 偏波回転素子
３０Ａ 半波長板
４１，４２ 光導波路
１０Ｃ，１０Ｄ、５０ 可変分散補償器
１１Ｃ，１４Ｃ，５１，５５ スラブ導波路
１２Ｃ，５２ アレイ光導波路
１２Ｃａ，５２ａ チャネル導波路
１３Ｃ，５３ 位相調整部
１３Ｃａ，５３ａ 位相シフタ
３１ 導波路型偏波スプリッタ/コンバイナ
３２ 半波長板
５４ 特性調整部
５４ａ 特性調整用ヒータ
６１ モニタ用入力導波路
６２ モニタ用出力導波路
１０３１，１０３２ ＰＭＦ

Claims (6)

  1. 光回路と、
    入射波から２つの偏波への分離、及び２つの偏波から出射波への合成を行う偏波分離合成器と、
    前記光回路及び前記偏波分離合成器の間を接続し、前記分離された２つの偏波が個々に入射される第１及び第２の光導波路と、
    前記第１の光導波路に配置され、前記偏波分離合成器により分離された一方の偏波の偏波面を、前記分離されたもう一方の偏波の偏波面となるよう回転する偏波回転素子と、を平面基板上に集積した光回路装置であって、
    前記光回路は、ダイナミックゲインイコライザであることを特徴とする光回路装置。
  2. 光回路と、
    入射波から２つの偏波への分離、及び２つの偏波から出射波への合成を行う偏波分離合成器と、
    前記光回路及び前記偏波分離合成器の間を接続し、前記分離された２つの偏波が個々に入射される第１及び第２の光導波路と、
    前記第１の光導波路に配置され、前記偏波分離合成器により分離された一方の偏波の偏波面を、前記分離されたもう一方の偏波の偏波面となるよう回転する偏波回転素子と、を平面基板上に集積した光回路装置であって、
    前記光回路は、可変分散補償器であることを特徴とする光回路装置。
  3. 光回路と、
    入射波から２つの偏波への分離、及び２つの偏波から出射波への合成を行う偏波分離合成器と、
    前記光回路及び前記偏波分離合成器の間を接続し、前記分離された２つの偏波が個々に入射される第１及び第２の光導波路と、
    前記第１の光導波路に配置され、前記偏波分離合成器により分離された一方の偏波の偏波面を、前記分離されたもう一方の偏波の偏波面となるよう回転する偏波回転素子と、を平面基板上に集積した光回路装置であって、
    前記光回路は、トランスバーサルフィルタであることを特徴とする光回路装置。
  4. 前記光回路は、トランスバーサルフィルタ回路を用いた可変分散補償器であることを特徴とする請求項３に記載の光回路装置。
  5. 前記偏波回転素子は、半波長板であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の光回路装置。
  6. 前記平面基板内に、前記光回路に接続されたモニタ用入力導波路及びモニタ用出力導波路が形成されたことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の光回路装置。
JP2011145812A 2004-08-04 2011-06-30 光回路装置 Expired - Fee Related JP5261542B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011145812A JP5261542B2 (ja) 2004-08-04 2011-06-30 光回路装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004228221 2004-08-04
JP2004228221 2004-08-04
JP2011145812A JP5261542B2 (ja) 2004-08-04 2011-06-30 光回路装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006531548A Division JP4927548B2 (ja) 2004-08-04 2005-08-04 光回路装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011197700A JP2011197700A (ja) 2011-10-06
JP5261542B2 true JP5261542B2 (ja) 2013-08-14

Family

ID=35787207

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006531548A Expired - Fee Related JP4927548B2 (ja) 2004-08-04 2005-08-04 光回路装置
JP2011145812A Expired - Fee Related JP5261542B2 (ja) 2004-08-04 2011-06-30 光回路装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006531548A Expired - Fee Related JP4927548B2 (ja) 2004-08-04 2005-08-04 光回路装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7492983B2 (ja)
JP (2) JP4927548B2 (ja)
WO (1) WO2006013928A1 (ja)

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006013928A1 (ja) 2004-08-04 2006-02-09 The Furukawa Electric Co., Ltd. 光回路装置
JP4875297B2 (ja) * 2004-11-25 2012-02-15 古河電気工業株式会社 可変分散補償器、可変分散補償デバイス
JP2007065562A (ja) 2005-09-02 2007-03-15 Furukawa Electric Co Ltd:The アレイ導波路回折格子
EP1857846B1 (en) * 2006-05-19 2017-02-22 Lumentum Operations LLC Asymmetric mach-zehnder interferometer having a reduced drive voltage coupled to a compact low-loss arrayed waveguide grating
US20100021103A1 (en) * 2006-09-21 2010-01-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Wavelength blocker
JP5100175B2 (ja) * 2007-03-28 2012-12-19 古河電気工業株式会社 アレイ導波路格子型の合分波装置
JP4805204B2 (ja) * 2007-03-30 2011-11-02 古河電気工業株式会社 光モジュール
JP5045416B2 (ja) * 2007-12-17 2012-10-10 富士通株式会社 光導波路素子およびそれを用いた光学装置
US7680362B2 (en) * 2008-01-15 2010-03-16 Alcatel-Lucent Usa Inc. CMOS-compatible polarization-diverse tunable optical bandpass filter
US8078016B2 (en) * 2009-04-10 2011-12-13 Empire Technology Development Llc Optical circuit device and method
US20110085761A1 (en) * 2009-05-26 2011-04-14 Furukawa Electric Co., Ltd. Arrayed waveguide grating and method of manufacturing arrayed waveguide grating
WO2011051358A1 (en) * 2009-10-28 2011-05-05 Universiteit Gent Methods and systems for reducing polarization dependent loss
US8938142B2 (en) 2010-12-15 2015-01-20 Cisco Technology, Inc. Silicon-based opto-electronic integrated circuit with reduced polarization dependent loss
JP2012163614A (ja) 2011-02-03 2012-08-30 Furukawa Electric Co Ltd:The Ｓｏａ−ｐｌｃハイブリッド集積偏波ダイバーシティ回路およびその製造方法
WO2012132907A1 (ja) * 2011-03-28 2012-10-04 古河電気工業株式会社 光導波路回路
US9091813B2 (en) * 2011-06-08 2015-07-28 Skorpios Technologies, Inc. Systems and methods for photonic polarization beam splitters
JP2013058628A (ja) * 2011-09-08 2013-03-28 Furukawa Electric Co Ltd:The 光増幅装置
US9036957B2 (en) * 2012-06-29 2015-05-19 Infinera Corporation Shared propagation region for an optical multiplexer or an optical demultiplexer
JP5920467B2 (ja) * 2012-07-30 2016-05-18 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 光受信回路
US9075282B2 (en) * 2013-07-24 2015-07-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Sequential entangler of periodic photons in a single input and output mode
US9354039B2 (en) 2014-06-06 2016-05-31 Massachusetts Institute Of Technology Methods, systems, and apparatus for programmable quantum photonic processing
US10591672B2 (en) * 2014-07-08 2020-03-17 Universiteit Gent Polarization independent processing in integrated photonics
US10126572B2 (en) * 2016-03-31 2018-11-13 Huawei Technologies Co., Ltd. Automatic endless polarization controller for a silicon-on-insulator platform
WO2017210550A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus and methods for optical neural network
WO2018017958A2 (en) * 2016-07-22 2018-01-25 Skorpios Technologies, Inc. Monolithically-integrated, polarization-independent circulator
US10634851B2 (en) 2017-05-17 2020-04-28 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus, systems, and methods for nonblocking optical switching
CN111095303B (zh) 2017-07-11 2024-04-26 麻省理工学院 光学伊辛机器以及光学卷积神经网络
US11373089B2 (en) 2018-02-06 2022-06-28 Massachusetts Institute Of Technology Serialized electro-optic neural network using optical weights encoding
US10763974B2 (en) * 2018-05-15 2020-09-01 Lightmatter, Inc. Photonic processing systems and methods
TW202005312A (zh) 2018-05-15 2020-01-16 美商萊特美特股份有限公司 用於訓練基於矩陣的可微分程式的系統及方法
US10608663B2 (en) 2018-06-04 2020-03-31 Lightmatter, Inc. Real-number photonic encoding
CN108761648B (zh) * 2018-06-04 2019-06-18 华中科技大学 一种混合集成的三端口光环形器
CN113159305A (zh) 2018-06-05 2021-07-23 光子智能股份有限公司 光电计算系统
US11507818B2 (en) 2018-06-05 2022-11-22 Lightelligence PTE. Ltd. Optoelectronic computing systems
WO2020081533A1 (en) 2018-10-15 2020-04-23 Lightmatter, Inc. Photonic packages and related methods
WO2020092899A1 (en) 2018-11-02 2020-05-07 Lightmatter, Inc. Matrix multiplication using optical processing
WO2020102204A1 (en) 2018-11-12 2020-05-22 Massachusetts Institute Of Technology Large-scale artificial neural-network accelerators based on coherent detection and optical data fan-out
US11734556B2 (en) 2019-01-14 2023-08-22 Lightelligence PTE. Ltd. Optoelectronic computing systems
TW202113412A (zh) 2019-01-15 2021-04-01 美商萊特美特股份有限公司 高效率多槽式波導奈米光機電相位調變器
TW202029708A (zh) 2019-01-16 2020-08-01 美商萊特美特股份有限公司 光學差分低噪聲接收器及相關方法
US11209856B2 (en) 2019-02-25 2021-12-28 Lightmatter, Inc. Path-number-balanced universal photonic network
SG11202108799QA (en) 2019-02-26 2021-09-29 Lightmatter Inc Hybrid analog-digital matrix processors
JP2022543366A (ja) 2019-07-29 2022-10-12 ライトマター インコーポレイテッド 線形フォトニックプロセッサを使用したアナログ計算のためのシステム及び方法
KR20220104218A (ko) 2019-11-22 2022-07-26 라이트매터, 인크. 선형 광자 프로세서들 및 관련 방법들
US20210173238A1 (en) * 2019-12-04 2021-06-10 Lightelligence, Inc. Optical modulaton for optoelectronic processing
US20210288035A1 (en) * 2020-03-12 2021-09-16 Intel Corporation Active bridge enabled co-packaged photonic transceiver
TWI806042B (zh) 2020-04-29 2023-06-21 新加坡商光子智能私人有限公司 光電處理設備、系統及方法
CN115989394A (zh) 2020-07-24 2023-04-18 光物质公司 光子处理器中利用光子自由度的系统和方法
US20210149115A1 (en) * 2020-12-23 2021-05-20 Duanni Huang Photonic wavelength division multiplexing (wdm) receiver with polarization diversity and/or low reflectance

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03252618A (ja) * 1990-03-02 1991-11-11 Fujitsu Ltd 導波路型光干渉器の動作安定化方法
JPH0438493A (ja) * 1990-06-04 1992-02-07 Kikai Denshi Kensa Kentei Kyokai コンクリート埋設金属探知表示装置
JPH0534734A (ja) * 1991-07-30 1993-02-12 Oki Electric Ind Co Ltd 光マトリクススイツチ装置
JPH05313109A (ja) * 1992-05-11 1993-11-26 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 導波路型偏波制御器
JPH0756199A (ja) * 1993-08-16 1995-03-03 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 偏波無依存導波路型光スイッチ
JPH07128532A (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 Oki Electric Ind Co Ltd 光波長フィルタ装置
EP0793130B1 (en) * 1996-02-28 2002-08-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Polarization independent optical nonreciprocal circuit
EP0828178B1 (en) * 1996-09-05 2003-10-29 Oki Electric Industry Co., Ltd. Wavelength conversion apparatus with improved efficiency, easy adjustability, and polarization insensitivity
JPH10213826A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Oki Electric Ind Co Ltd 波長変換装置
JP3616549B2 (ja) 2000-03-23 2005-02-02 日本電信電話株式会社 光回路の製造方法
JP3687529B2 (ja) * 2000-11-16 2005-08-24 日本電気株式会社 アレイ導波路格子、光送信装置および光通信システム
US6862130B2 (en) * 2001-01-08 2005-03-01 Lightbit Corporation, Inc. Polarization-insensitive integrated wavelength converter
JP2002268103A (ja) * 2001-03-09 2002-09-18 Mitsubishi Electric Corp 光導波路型スイッチ装置およびその製造方法
US20030087121A1 (en) * 2001-06-18 2003-05-08 Lawrence Domash Index tunable thin film interference coatings
JP4278332B2 (ja) * 2001-06-29 2009-06-10 日本電信電話株式会社 光送信器および光伝送システム
JP2003149614A (ja) * 2001-11-15 2003-05-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高速波長スイッチ
JP3885936B2 (ja) * 2002-01-11 2007-02-28 日本電信電話株式会社 偏波制御回路アレイおよびそれを用いた光回路
JP2003215369A (ja) * 2002-01-21 2003-07-30 Fdk Corp 熱光学光導波路デバイス
JP2004053954A (ja) * 2002-07-19 2004-02-19 Mitsui Chemicals Inc 導波路型光デバイス
WO2004038493A1 (ja) * 2002-10-25 2004-05-06 The Furukawa Electric Co., Ltd. ダイナミックゲインイコライザー
JP2004151227A (ja) * 2002-10-29 2004-05-27 Fujitsu Ltd 利得等化器、光増幅器および光伝送システム
JP4152869B2 (ja) 2002-12-06 2008-09-17 日本電信電話株式会社 位相生成機能を備えた光合分波回路
US6961492B2 (en) * 2003-09-17 2005-11-01 Lucent Technologies Inc. Tunable dispersion compensator
JP4500074B2 (ja) * 2004-03-18 2010-07-14 住友大阪セメント株式会社 偏波無依存型光学機器
WO2006013928A1 (ja) 2004-08-04 2006-02-09 The Furukawa Electric Co., Ltd. 光回路装置
JP4550630B2 (ja) * 2005-03-11 2010-09-22 古河電気工業株式会社 可変分散補償器

Also Published As

Publication number Publication date
JP4927548B2 (ja) 2012-05-09
US20080031566A1 (en) 2008-02-07
JPWO2006013928A1 (ja) 2008-05-01
JP2011197700A (ja) 2011-10-06
US7492983B2 (en) 2009-02-17
WO2006013928A1 (ja) 2006-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5261542B2 (ja) 光回路装置
EP1426800B1 (en) Optical multi/demultiplexing circuit equipped with phase generating device
JP5135234B2 (ja) ブロードバンド２×２光スプリッタ
KR101062499B1 (ko) 광대역파장합분파필터 및 광신호합분파기능을 가진광스플리터
CA2825540C (en) Waveguide-type polarization beam splitter exhibiting reduced temperature-related wavelength dependent variation of the polarization extinction ratio
US8433196B2 (en) Optical band splitter/combiner device comprising a three-arms interferometer
KR20050097942A (ko) 간섭계형 광 스위치 및 가변 광 감쇠기
JP2000267147A (ja) マルチチャネル光学通信システム用チャネルセレクタ
Wang et al. A high-performance ultracompact optical interleaver based on double-ring assisted Mach–Zehnder interferometer
US6671437B2 (en) Method and device for tunable frequency selective filtering of optical signals
JP4550630B2 (ja) 可変分散補償器
WO2020086744A1 (en) Wavelength-division multiplexer comprising cascaded optical couplers
WO2002035266A1 (en) Polarisation beam splitters/combiners
US6907199B2 (en) Method for polarization mode dispersion compensation
US6856751B2 (en) Method and system for obtaining variable optical attenuation with very low polarization dependent loss over an ultra wide dynamic range
KR101923956B1 (ko) 편광 모드 추출 구조를 적용한 광대역 편광 분리 광도파로 소자 및 이의 제조방법
JP2006515435A (ja) 加熱用光素子
US7697801B2 (en) Wavelength selective switch
JP4047004B2 (ja) 光波長可変フィルタの制御方法および制御装置
JP7099642B2 (ja) Ｉｑ光変調器
JP4137440B2 (ja) 光デバイスの接続方法および光装置
GB2391954A (en) Optical device for reducing polarisation dependence
Offrein et al. Tunable WDM add/drop components in silicon-oxynitride waveguide technology
Okamoto Planar lightwave circuits for FTTH and photonic networks

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110801

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120618

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120625

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120808

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130111

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130419

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130426

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees