JP5199023B2 - 酸化スズ粉末 - Google Patents
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 125
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 76
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 76
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 27
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 6
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 34
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- AUYOHNUMSAGWQZ-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(oxo)tin Chemical compound O[Sn](O)=O AUYOHNUMSAGWQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 24
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229920002113 octoxynol Polymers 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
このようなITO薄膜を製造する方法として、スパッタリング法、真空蒸着法、ゾル・ゲル法、クラスタービーム蒸着法、PLD法などの方法が挙げられる。中でも、スパッタリング法は、大面積基板上に低抵抗な膜を比較的低温で作製できるため工業的に広く利用されている。
さらに、単に嵩密度が低いだけではなく、タップ密度は逆に大きいという特徴を有していれば、ITO焼結体の焼結性を向上させることができるという効果も享受することができる。
本発明でいう「嵩密度」とは、自然落下により粉末を一定容器に充填される単位体積当たり質量であり、JIS K 5101に準拠して測定することができる。
本発明でいう「タップ密度」とは、自然落下により粉末を一定容器に充填した後、容器にタップによる衝撃を加え、試料の体積変化がなくなったときの単位体積当たり質量であり、JIS K 5101に準拠して測定することができる。
本酸化スズ粉末の嵩密度を前記の如く規定することで、酸化インジウム粉末に対するマクロな分散性を高めることができる。すなわち酸化インジウム粉末全体に対して均一に分散させることができるようになる。そしてさらに、D50を規定することで、ミクロな分散性、すなわち各粒子の周囲における局所的な分散性を高めることができる。つまりD50が5.0μmより粗粒になると、ミクロな分散性が悪くなり混合性が低下することになり、1.5μmより小さいと、嵩密度が小さくなり過ぎてしまうようになる。かかる観点から、本酸化スズ粉末のD50は、2.0μm〜4.0μmであるのが特に好ましく、中でも2.5μm〜3.5μmであるのがさらに好ましい。
なお、D50は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準累積度数50%の粒子径の意味である。
なお、D10及びD90は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準累積度数10%の粒子径(:D10)、90%の粒子径(:D90)の意味である。
次に、本酸化スズ粉末の製造方法の一例について説明する。但し、あくまで一例であって、本酸化スズ粉末の製造方法が以下に説明する製造方法に限定されるものではない。
次に、純水を用いてデカンテーションを繰り返すなどして硝酸根等を洗浄除去した後、濾過等によって固液分離し、乾燥させて乾燥体を得る。この際、乾燥は水分を蒸発させることができればよいから、乾燥温度は100℃より若干高い程度で十分である。
焼成前に粉体を解す(ほぐす)ことにより、焼成後の酸化スズ粉末の嵩密度を低くすることができ、かつ、タップ密度を高めることができる。これは、焼成前段階で粉体を解す(ほぐす)ことで、焼成時に発生する水蒸気が滞留することなく系外に放出され、同時に、粒子間に空隙を保有した状態で焼結が進行し、その結果、嵩密度が低くなるものと考えられる。また、空隙を保有した状態で焼結が進行するが、焼成前に粉体を解す(ほぐす)ことにより、粒子同士の空隙はタッピングなどの応力で容易に破壊され、タップ密度が高い粉体を得ることができる。
粉体を解す(ほぐす)作用の程度、すなわち粉砕強度は、ハンマーミルの場合、ディスクの回転数、粉砕機への供給速度、スクリーンメッシュの目開きサイズ等により、調整することができる。ピンミルの場合も、ディスクの回転数、粉砕機への供給速度等により、調整することができる。
なお、この粉体を解す(ほぐす)作用の程度、すなわち粉砕強度が弱過ぎると、十分に解れず、粒子間に空隙を十分に与えることができず、嵩密度が高いままである。その一方、粉砕強度が強過ぎても、嵩密度が高くなってしまうため、最適な範囲に制御する必要がある。ディスクの直径や、ハンマーやピンの形状や大きさ、本数にもよるが、目安としては、回転数は1000〜20000rpm、粉砕機への供給速度は1分間に0.01kg〜0.5kg程度、ハンマーミルの場合、スクリーンメッシュの目開きサイズは0.1mm〜3mm程度とするのが好ましい。そして、焼成前のメタスズ酸の乾燥体の嵩密度を0.5〜1.5g/cm3程度とするように制御するのが好ましい。
本酸化スズ粉末は、酸化インジウム粉末と混合し圧縮成形することにより、ITO焼結体の前駆体としてのプレミックス体を製造することができる。そして、このプレミックス体を焼成することにより、ITO膜(Indium Tin Oxide膜)を形成する際のスパッタリングターゲット原料としてのITO焼結体を製造することができる。
また、本酸化スズ粉末と混合する相手方の酸化インジウム粉末の中心粒径D50、すなわちレーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準粒度分布によるD50は、2.00μm〜6.00μmであるのが好ましい。このD50が2.00μm〜6.00μmであれば、本酸化スズ粉末との均一混合性をさらに高めることができる。かかる観点から、酸化インジウム粉末のD50は、2.50μm以上、或いは5.50μm以下であるのがさらに好ましい。
また、酸化インジウム粉末、酸化スズ粉末及びイオン交換水をボールミル混合し、さらに分散剤及びバインダーを加えて混合してスラリー状にし、これを構造成形型に注入して減圧下排水して成形体とし、乾燥及び脱脂処理を行った後、焼結するようにしてITO焼結体を湿式条件下で製造することもできる。
但し、これらの製造方法に限定されるものではない。
粉末を少量ビーカーに取り、3%トリトンX溶液(関東化学製)を2、3滴添加し、粉末になじませてから、0.1%SNディスパーサント41溶液(サンノプコ製)50mLを添加し、その後、超音波分散器TIPφ20(日本精機製作所製、OUTPUT:8、TUNING:5)を用いて2分間分散処理して測定用サンプルを調製した。この測定用サンプルを、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置MT3300 (日機装製)を用いて、体積累積基準D50、D90−D10を測定した。
嵩密度は、JIS K 5101に準拠して、蔵持科学器械製作所製カサ比重測定器を使用して測定した。その際、いずれの粉末も粉砕してから3時間以内に測定を開始した。
タップ密度は、JIS K 5101に準拠して、試料200gを用いてパウダーテスターPT−E型(ホソカワミクロン製)により測定した。
実施例及び比較例で得られた酸化スズ粉末20gと、酸化インジウム粉末(D50:2.71μm、嵩密度0.79g/cm3)180gとを、筒井理化学器械社製透視式混合器「S−3」を用いて30分間混合し、任意に10箇所の粉末を各3gサンプリングし、それぞれ酸化スズの割合を分析し、次の基準で酸化インジウム粉末に対する均一混合性を評価した。
酸化スズの含有量は、アルカリ熔融後、ICP法でSnを定量した。
○: 分析値の最大値と最小値の差が0.3%以上0.6%未満
△: 分析値の最大値と最小値の差が0.6%以上1.0%未満
×: 分析値の最大値と最小値の差が1.0%以上
純度99.99%のスズ1.19kg(10mol)を、80℃に保った2mol/Lの硝酸30L(60mol)に、30分間かけてゆっくりと投入し、10時間かけてメタルのスズからメタスズ酸を生成させた。反応終了後、純水によるデカンテーションを繰り返し、洗浄したのち、濾過により固液分離を行い、105℃にて、24時間乾燥させ、メタスズ酸の乾燥体を得た。
得られたメタスズ酸の乾燥体は、ADが1.5g/cm3であった。なおメタスズ酸の乾燥体のADを測定する際、その形態が塊状であるため、手でほぐして測定を行った。
このメタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数8000rpm、供給速度100g/min、スクリーンメッシュ目開き1mmにて解砕処理を行い、解されたメタスズ酸を得た。この解されたメタスズ酸のADは0.6g/cm3であった。
さらに、この解されたメタスズ酸をセラミック製の焼成容器(焼成匣鉢)に入れ、大気雰囲気、800℃にて3時間焼成を行った後、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数5,000rpm、供給速度500g/min、スクリーンメッシュ目開き2mmにて解砕処理を行い、酸化スズ粉末を得た。
得られた酸化スズ粉末の特性値を表に示す。
メタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数8000rpm、供給速度100g/min、スクリーンメッシュ目開き0.5mmにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数8000rpm、供給速度50g/min、スクリーンメッシュ目開き1mmにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数10000rpm、供給速度100g/min、スクリーンメッシュ目開き1mmにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数8000rpm、供給速度120g/min、スクリーンメッシュ目開き1mmにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数8000rpm、供給速度150g/min、スクリーンメッシュ目開き1mmにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、ミルシステム社製ピンミル(型式:AVIS-100)を用いて、回転数8000rpm、供給速度100g/minにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、吉田製作所社製ハンマーミル(型式:1018−LA)を用いて、回転数12,000rpm、供給速度30g/min、スクリーンメッシュ目開き0.3mmにて解砕処理を行った以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
メタスズ酸の乾燥体を、ヨドキャスティング社製ローラーミル(型式:MPUV−2)で線圧力120kg/cmで15分処理した以外は、実施例1と同様にして酸化スズ粉末を得た。
また、D50/(D90−D10)の値を比較すると、比較例1−2に比べて実施例1−7の値が小さいことから、粒度分布のバラツキが小さく、この点も酸化インジウム粉末に対する均一混合性に影響していると考えられる。
なお、酸化スズ粉末と酸化インジウム粉末の均一混合性は、両者の嵩密度が近い方が好ましくなるが、或る程度接近すると、酸化スズ粉末の嵩密度の方が若干高い方(0.10〜0.20g/cm3程度高い方)が好ましい。その理由は、酸化スズ粉末と酸化インジウム粉末との混合割合及び比重の違いが影響しているものと考えることができる。
Claims (4)
- 嵩密度が0.60〜1.20g/cm3で且つタップ密度が2.25〜2.65g/cm3である酸化スズ粉末。
- {(タップ密度−嵩密度)/タップ密度}×100で示される圧縮度が60〜65%であることを特徴とする請求項1に記載の酸化スズ粉末。
- レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準粒度分布によるD50が1.5μm〜5.0μmである請求項1又は2に記載の酸化スズ粉末。
- レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準粒度分布において、D50/(D90−D10)の値が0.10〜0.40である請求項1〜3の何れかに記載の酸化スズ粉末。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008273790A JP5199023B2 (ja) | 2008-10-24 | 2008-10-24 | 酸化スズ粉末 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008273790A JP5199023B2 (ja) | 2008-10-24 | 2008-10-24 | 酸化スズ粉末 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010100484A JP2010100484A (ja) | 2010-05-06 |
JP5199023B2 true JP5199023B2 (ja) | 2013-05-15 |
Family
ID=42291480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008273790A Active JP5199023B2 (ja) | 2008-10-24 | 2008-10-24 | 酸化スズ粉末 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5199023B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106830925A (zh) * | 2016-12-20 | 2017-06-13 | 西北稀有金属材料研究院 | 通过素坯破碎过筛提高ito粉末松装密度和振实密度的方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7112854B2 (ja) * | 2018-02-19 | 2022-08-04 | 住友化学株式会社 | 酸化錫粉末 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0244773B2 (ja) * | 1984-04-17 | 1990-10-05 | Sumitomo Metal Mining Co | Sankadaiichisuzunoseizohoho |
JPS61270201A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-11-29 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 真球状無機酸化物粉末の製造法 |
JP4120351B2 (ja) * | 2002-10-22 | 2008-07-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 高濃度酸化スズitoターゲットとその製造方法 |
JP4771666B2 (ja) * | 2004-02-06 | 2011-09-14 | 三井金属鉱業株式会社 | 導電性酸化錫粉末及びその製造方法 |
WO2007072755A1 (ja) * | 2005-12-19 | 2007-06-28 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Ito焼結体原料混合粉末 |
JP5035509B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2012-09-26 | 三菱マテリアル株式会社 | 酸化スズ粉末とその製造方法 |
-
2008
- 2008-10-24 JP JP2008273790A patent/JP5199023B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106830925A (zh) * | 2016-12-20 | 2017-06-13 | 西北稀有金属材料研究院 | 通过素坯破碎过筛提高ito粉末松装密度和振实密度的方法 |
CN106830925B (zh) * | 2016-12-20 | 2020-04-10 | 宁夏中色新材料有限公司 | 通过素坯破碎过筛提高ito粉末松装密度和振实密度的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010100484A (ja) | 2010-05-06 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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