JP5193470B2 - ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法およびビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の混合物 - Google Patents
ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法およびビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の混合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5193470B2 JP5193470B2 JP2007004762A JP2007004762A JP5193470B2 JP 5193470 B2 JP5193470 B2 JP 5193470B2 JP 2007004762 A JP2007004762 A JP 2007004762A JP 2007004762 A JP2007004762 A JP 2007004762A JP 5193470 B2 JP5193470 B2 JP 5193470B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- polysulfide
- trialkoxysilylalkyl
- general formula
- silatranylalkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 title claims description 87
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 title claims description 86
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 title claims description 86
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 36
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 21
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 10
- -1 alkylene glycol Chemical compound 0.000 claims description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 58
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 58
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 12
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 7
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 6
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 5
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 5
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- IUJLOAKJZQBENM-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-2-methylpropan-2-amine Chemical compound C1=CC=C2SC(SNC(C)(C)C)=NC2=C1 IUJLOAKJZQBENM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBRVPWBNRAPVCC-UHFFFAOYSA-N 4,6,11-trioxa-1-aza-5$l^{3}-silabicyclo[3.3.3]undecane Chemical compound C1CO[Si]2OCCN1CCO2 XBRVPWBNRAPVCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAJRIWYORDSHFI-UHFFFAOYSA-N CCCO[Si](CCCCSSSSSSCCCC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)(OCCC)OCCC Chemical compound CCCO[Si](CCCCSSSSSSCCCC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)(OCCC)OCCC FAJRIWYORDSHFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000006231 channel black Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006232 furnace black Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N lithium;ethanolate Chemical compound [Li+].CC[O-] AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000010734 process oil Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000006234 thermal black Substances 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- PTRSAJDNBVXVMV-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(4-triethoxysilylbutyldisulfanyl)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCSSCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC PTRSAJDNBVXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSCCC[Si](OC)(OC)OC NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSSCCC[Si](OC)(OC)OC JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNBXBRPOAJZBNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(4-trimethoxysilylbutyldisulfanyl)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCSSCCCC[Si](OC)(OC)OC BNBXBRPOAJZBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- LZEOMVINKFXLBF-UHFFFAOYSA-N tripropoxy-[3-(3-tripropoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCSSSSCCC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC LZEOMVINKFXLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BULLRJAHODJEEN-UHFFFAOYSA-N tripropoxy-[4-(4-tripropoxysilylbutyltetrasulfanyl)butyl]silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCCSSSSCCCC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC BULLRJAHODJEEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの新規な製造方法；ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法；ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法；ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物；ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物に関するものである。
ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドおよびその製造方法は、刊行物公知である（特許文献１（特開昭５０-１０８２２５号公報）、特許文献２（特公昭６０-３３８３８号公報）、特許文献３（特開２００１−３１７９８号公報））。
特許文献２においてその出願公開後に補充された例１３では、シラトラニルプロピルメルカプタン２モルと硫黄粉末３モルを撹拌しつつ加熱することによりビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィドを合成している。
特許文献２においてその出願公開後に補充された例１３では、シラトラニルプロピルメルカプタン２モルと硫黄粉末３モルを撹拌しつつ加熱することによりビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィドを合成している。
ところが、この合成方法によると、硫化水素が発生する。硫化水素は常温で気体であり、極めて毒性が強いので、発生する硫化水素が作業環境中に漏れ出ないように、合成設備を工夫する必要があり、それでも完全を期するため作業者は防毒マスクの着用が不可避であるという問題がある。
特許文献２の例１３では、合成したビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィドは融点を有しない白色結晶であり、このビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィドと同一であるシラトラン（ＯＳ３４＝Ｓｉ７９）を天然ゴム、活性珪酸などと混合して加硫しゴム物性を測定している。しかし、ビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィドは融点を有せず固形状であるので、２ロールミル等によりせん断力をかけつつ混練しても天然ゴム、合成ゴム、シリカフィラー等への分散が容易でないという問題がある。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、ビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとトリエタノールアミンを特定の触媒存在下で加熱することによりアルコキシ基をシラトラニル基に置換すれば、アルコールが発生するに過ぎないので、前記したような問題がないことに気が付いた。特にアルコキシ基がエトキシ基の場合はエタノールという安全性の高いアルコールが発生するに過ぎないので、作業環境上の安全性が高い。
また、ビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの一部のアルコキシ基をシラトラニル基に置換したものは、ゴム、シリカフィラーなどと混合しやすいことに気付いた。
本発明の課題は、原料としてイオウを使用せず、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの合成時に有毒な硫化水素が発生しない新規な製造方法を提供すること、ビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの中間的なものでありゴム、シリカフィラーなどと混合しやすい混合物およびその製造方法を提供することにある。
また、ビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの一部のアルコキシ基をシラトラニル基に置換したものは、ゴム、シリカフィラーなどと混合しやすいことに気付いた。
本発明の課題は、原料としてイオウを使用せず、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの合成時に有毒な硫化水素が発生しない新規な製造方法を提供すること、ビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの中間的なものでありゴム、シリカフィラーなどと混合しやすい混合物およびその製造方法を提供することにある。
本発明は、
「[1] 一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンとを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中のすべてのＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの製造方法。
[2] 一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法。
[3] 一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと一般式(1) ：
（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法。
[4] 一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物。
[5] 一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1) ： （Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物。」に関する。
「[1] 一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンとを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中のすべてのＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの製造方法。
[2] 一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法。
[3] 一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと一般式(1) ：
（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法。
[4] 一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物。
[5] 一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1) ： （Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物。」に関する。
本発明に係るビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの合成方法によると、原料としてイオウを使用せず、合成時に有毒な硫化水素が発生しないので、製造時の安全性が高い。
本発明に係るビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法によると、原料としてイオウを使用せず、合成時に有毒な硫化水素が発生しないので、製造時の安全性が高い。
本発明に係るビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法によると、原料としてイオウを使用せず、合成時に有毒な硫化水素が発生しないので、製造時の安全性が高い。
本発明に係る混合物は、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとの中間的なものであり、常温で液状であるのでゴム、シリカフィラーなどと混合しやすいという特徴を具備している。
本発明に係るビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法によると、原料としてイオウを使用せず、合成時に有毒な硫化水素が発生しないので、製造時の安全性が高い。
本発明に係るビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法によると、原料としてイオウを使用せず、合成時に有毒な硫化水素が発生しないので、製造時の安全性が高い。
本発明に係る混合物は、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとの中間的なものであり、常温で液状であるのでゴム、シリカフィラーなどと混合しやすいという特徴を具備している。
本発明の一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの製造方法は、
一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンとを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする。
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの製造方法は、
一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンとを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする。
製造目的物である一般式(3)：
Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドは、イオウ原子数が２〜８であるポリスルフィドの両端の硫黄原子に炭素原子数１〜１０のアルキレン基が結合し、このアルキレン基の末端の炭素原子にシラトラニル基のケイ素原子が結合している。
Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン、ヘプチレン基、オクチレン基が例示される。プロピレン基〜デシレン基は、直鎖状が一般的であるが、分岐状や環状であってもよい。製造容易性の点で直鎖状または分岐状のプロピレン基、ブチレン基が好ましい。
Ｓｘはイオウ原子数が２〜８であるポリスルフィド残基であり、両端の硫黄原子に炭素原子数１〜１０のアルキレン基が結合している。製造容易性の点でイオウ原子数は２〜４が好ましい。
Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドは、イオウ原子数が２〜８であるポリスルフィドの両端の硫黄原子に炭素原子数１〜１０のアルキレン基が結合し、このアルキレン基の末端の炭素原子にシラトラニル基のケイ素原子が結合している。
Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン、ヘプチレン基、オクチレン基が例示される。プロピレン基〜デシレン基は、直鎖状が一般的であるが、分岐状や環状であってもよい。製造容易性の点で直鎖状または分岐状のプロピレン基、ブチレン基が好ましい。
Ｓｘはイオウ原子数が２〜８であるポリスルフィド残基であり、両端の硫黄原子に炭素原子数１〜１０のアルキレン基が結合している。製造容易性の点でイオウ原子数は２〜４が好ましい。
ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの具体例として、ビス（シラトラニルエチル）ジスルフィド、ビス（シラトラニルエチル）テトラスルフィド、ビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィド、ビス（シラトラニルブチル）ジスルフィド、ビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィド、ビス（シラトラニルブチル）テトラスルフィド、ビス（シラトラニルプロピル）ヘキサスルフィド、ビス（シラトラニルブチル）ヘキサスルフィドがある。
製造原料である一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中のＲ１は炭素原子数１〜４のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基がある。プロピル基とブチル基は直鎖状が一般的であるが、分岐状であってもよい。シラトラニル基による置換容易性の点でメチル基、ついでエチル基が好ましい。
Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン、ヘプチレン基、オクチレン基が例示される。プロピレン基〜デシレン基は、直鎖状が一般的であるが、分岐状や環状であってもよい。製造容易性の点で直鎖状または分岐状のプロピレン基、ブチレン基が好ましい。
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中のＲ１は炭素原子数１〜４のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基がある。プロピル基とブチル基は直鎖状が一般的であるが、分岐状であってもよい。シラトラニル基による置換容易性の点でメチル基、ついでエチル基が好ましい。
Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基であり、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン、ヘプチレン基、オクチレン基が例示される。プロピレン基〜デシレン基は、直鎖状が一般的であるが、分岐状や環状であってもよい。製造容易性の点で直鎖状または分岐状のプロピレン基、ブチレン基が好ましい。
一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの具体例として、ビス（トリメトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（トリメトキシシリルブチル）ジスルフィド、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（トリエトキシシリルブチル）ジスルフィド；ビス（トリメトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（トリプロポキシシリルプロピル）テトラスルフィド；ビス（トリメトキシリルブチル）テトラスルフィド、ビス（トリエトキシリルブチル）テトラスルフィド、ビス（トリプロポキシシリルブチル）テトラスルフィド；ビス（トリメトキシリルプロピル）ヘキサスルフィド、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ヘキサスルフィド、ビス（トリメトキシリルブチル）ヘキサスルフィド、ビス（トリプロポキシリルブチル）ヘキサスルフィドがある。
製造原料である式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンは、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ基と反応して、３モルのＲ１ＯＨを脱離し、シラトラニル基を形成する。一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドは１分子中に２個の（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ基を有するので、少なくとも２モルのトリエタノールアミンが必要である。置換反応を完結するためには、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、２.０〜２.４モルのトリエタノールアミンを反応に供することが好ましい。
で示されるトリエタノールアミンは、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ基と反応して、３モルのＲ１ＯＨを脱離し、シラトラニル基を形成する。一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドは１分子中に２個の（Ｒ１Ｏ）３Ｓｉ基を有するので、少なくとも２モルのトリエタノールアミンが必要である。置換反応を完結するためには、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、２.０〜２.４モルのトリエタノールアミンを反応に供することが好ましい。
一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとトリエタノールアミンを加熱するだけでは、置換反応が遅いので、触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することが必要である。アルカリ金属アルコラートとして、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウムエトキシドが例示される。アルカリ金属アルコラートは、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドに対して０.１〜５.０モル％であることが好ましい。アルカリ金属アルコラートは固形状であるので、アルコール溶液の形で一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとトリエタノールアミンに添加することが好ましい。
一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとトリエタノールアミンを反応させるときの圧、温度、時間は、減圧下１２０〜１８０℃で４時間〜３０分間が好ましい。反応終了後、生成したアルコールは加熱減圧下留去することが好ましい。過剰のトリエタノールアミンを反応に供して残存しているときは、生成したアルコールとともに加熱減圧下留去することが好ましい。
本発明の混合物は、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドからなることを特徴とする。
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドからなることを特徴とする。
本発明の混合物は、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1)：
（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドからなることを特徴とする。
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1)：
（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドからなることを特徴とする。
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物、および、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1) ：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物は、
一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することにより製造することができる。
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物、および、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1) ：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物は、
一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することにより製造することができる。
上記加熱反応の際に、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、２.０モル未満のトリエタノールアミンを反応に供することにより、一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することができる。
例えば、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、１.７５モルのトリエタノールアミンを反応に供すると、
一般式(3)：
Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドのほぼ当量混合物が生成する。一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドが残存しないようにするためには、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、１.７５以上、２.０モル以下のトリエタノールアミンを反応に供することが好ましい。
例えば、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、１.７５モルのトリエタノールアミンを反応に供すると、
一般式(3)：
Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドのほぼ当量混合物が生成する。一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドが残存しないようにするためには、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、１.７５以上、２.０モル以下のトリエタノールアミンを反応に供することが好ましい。
例えば、一般式(1) で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり、１.０モルのトリエタノールアミンを反応に供すると、
一般式(3)：
Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと、
一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドのほぼ１：２：１の混合物が生成する。
このような混合物は、常温で液状であるのでゴム、シリカフィラーなどと混合しやすい。したがって、ゴム特性の改良に有用である。
一般式(3)：
Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと、
一般式(1)：（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドのほぼ１：２：１の混合物が生成する。
このような混合物は、常温で液状であるのでゴム、シリカフィラーなどと混合しやすい。したがって、ゴム特性の改良に有用である。
本発明の製造方法により得られたビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドや、上記混合物を添加するのに好適なゴム組成物は、主として（Ａ）有機系生ゴムと（Ｂ）シリカフィラーからなり、あるいは（Ａ）有機系生ゴムと（Ｂ）シリカフィラーと（Ｄ）カーボンブラックとからなる。
（Ａ）有機系生ゴムは、一般に、単にゴムとも呼称され、加硫してゴム弾性体になり得る有機高分子化合物である。タイヤ、特にはそのトレッドに好適なものであれば、その種類は特に限定されない。かかる有機系生ゴムは高度に不飽和の有機高分子化合物、特にはジエン系高分子化合物であり、通常２０〜４５０のヨウ素価を有する。
有機系生ゴムとして、スチレン／ブタジエン共重合体生ゴム、ポリブタジエン生ゴム、イソプレン／ブタジエン共重合体生ゴム、スチレン／イソプレン共重合体生ゴム、スチレン／イソプレン／ブタジエン共重合体生ゴム、アクリロニトリル／ブタジエン共重合体生ゴム、ポリイソプレン生ゴム、天然生ゴム等の共役ジエン系生ゴム、クロロプレン生ゴム、部分水添したジエン系生ゴムが例示される。これら生ゴムの混合物であってもよい。
（Ａ）有機系生ゴムは、一般に、単にゴムとも呼称され、加硫してゴム弾性体になり得る有機高分子化合物である。タイヤ、特にはそのトレッドに好適なものであれば、その種類は特に限定されない。かかる有機系生ゴムは高度に不飽和の有機高分子化合物、特にはジエン系高分子化合物であり、通常２０〜４５０のヨウ素価を有する。
有機系生ゴムとして、スチレン／ブタジエン共重合体生ゴム、ポリブタジエン生ゴム、イソプレン／ブタジエン共重合体生ゴム、スチレン／イソプレン共重合体生ゴム、スチレン／イソプレン／ブタジエン共重合体生ゴム、アクリロニトリル／ブタジエン共重合体生ゴム、ポリイソプレン生ゴム、天然生ゴム等の共役ジエン系生ゴム、クロロプレン生ゴム、部分水添したジエン系生ゴムが例示される。これら生ゴムの混合物であってもよい。
上記ゴム組成物に配合される（Ｂ）シリカフィラーおよび（Ｄ）カーボンブラックは、加硫して得られるゴムを補強するための充填剤である。シリカフィラーは、フュームドシリカ（乾式法シリカ）や沈降シリカ（湿式法シリカ）のような補強性シリカが好ましい。そのうちでも、有機ケイ素化合物（例えば、ヘキサメチルジシラザン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシランまたはオクタメチルテトラシクロシロキサン）で表面処理した疎水性の補強性シリカが好ましい。それらのＢＥＴ法比表面積は１００〜３５０ｍ２／ｇが好ましい。カーボンブラックは、従来からゴムの補強用に使用されているカーボンブラックであればよく、例えばファーネスブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、サーマルブラック、アセチレンブラックがある。カーボンブラックは、ペレット化されたもの、ペレット化されていない凝集塊のいずれでもよい。
（Ｂ）シリカフィラーの配合量は、成分（Ａ）１００重量部あたり、５〜１５０重量部であり、好ましくは１０〜１００重量部であり、より好ましくは３０〜９０重量部である。
さらに（Ｄ）カーボンブラックを含有する場合は、（Ｄ）カーボンブラックは、成分（Ａ）１００重量部あたり０.１〜８０重量部、好ましくは５〜５０重量部である。ただし、成分（Ｂ）と成分（Ｄ）の合計量は１２０重量部以下が好ましい。上記範囲より少ないと、ゴム強度が不十分となり、上記範囲より多いと、成分（Ａ）との混練が困難になる。
（Ｂ）シリカフィラーの配合量は、成分（Ａ）１００重量部あたり、５〜１５０重量部であり、好ましくは１０〜１００重量部であり、より好ましくは３０〜９０重量部である。
さらに（Ｄ）カーボンブラックを含有する場合は、（Ｄ）カーボンブラックは、成分（Ａ）１００重量部あたり０.１〜８０重量部、好ましくは５〜５０重量部である。ただし、成分（Ｂ）と成分（Ｄ）の合計量は１２０重量部以下が好ましい。上記範囲より少ないと、ゴム強度が不十分となり、上記範囲より多いと、成分（Ａ）との混練が困難になる。
本発明の製造方法により得られたビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドまたは上記混合物（以下、成分（Ｃ）という）は、成分（Ｂ）の０.１〜５０重量％、好ましくは１. ０〜３０重量％、より好ましくは５.０〜３０重量％、あるいは、成分（Ｂ）と成分（Ｄ）合計量の０.１〜５０重量％、好ましくは１.０〜３０重量％、より好ましくは５.０〜３０重量％配合する。
成分（Ｃ）は、アルキレングリコールまたはポリアルキレングリコールの溶液の形で成分（Ａ）、成分（Ｂ）と混合してもよい。成分（Ａ）、成分（Ｂ）中への分散性が向上するからである。該溶液中の成分（Ｃ）の濃度は、３０〜９５重量％が適切である。
成分（Ｃ）の配合方法は、(1) 成分（Ｃ）をあらかじめ成分（Ｂ）と混合しておいて成分（Ａ）と混合する方法、(2) 成分（Ａ）と成分（Ｂ）の混合中に成分（Ｃ）を配合する方法が例示される。
成分（Ｃ）は、アルキレングリコールまたはポリアルキレングリコールの溶液の形で成分（Ａ）、成分（Ｂ）と混合してもよい。成分（Ａ）、成分（Ｂ）中への分散性が向上するからである。該溶液中の成分（Ｃ）の濃度は、３０〜９５重量％が適切である。
成分（Ｃ）の配合方法は、(1) 成分（Ｃ）をあらかじめ成分（Ｂ）と混合しておいて成分（Ａ）と混合する方法、(2) 成分（Ａ）と成分（Ｂ）の混合中に成分（Ｃ）を配合する方法が例示される。
成分（Ｃ）を含有するゴム組成物には、必要に応じて、増量充填剤；有機繊維；ナフテン系プロセスオイル等の軟化剤；顔料；発泡剤；紫外線吸収剤；老化防止剤；酸化防止剤；スコーチ防止剤；ワックス等の添加剤を配合することができる。ゴム組成物中のこれらの添加剤の配合量は、ゴム性能を阻害しなければ特に制限はなく、適宜必要量を選択する。
成分（Ｃ）を含有するゴム組成物は、公知の製造方法により製造することができる。上記各成分を、例えば、バンバリーミキサー、２本ロール、ニーダミキサー、２軸押出機等の混練機に投入して、全成分が均一に混ざるように混練するとよい。混練中のゴム組成物の温度は１２０〜１８０℃位が好ましい。
このゴム組成物を加硫してゴム成形品、例えばタイヤ、特にはトレッドを成形するには、２本ロール、２軸押出機等のミキサー中で、このゴム組成物にイオウ、不溶性イオウ、硫黄化合物等の加硫剤；酸化亜鉛、ステアリン酸等の加硫助剤；およびメルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）、ベンゾチアジルジスルフィド（ＭＢＴＳ）、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド（ＣＢＳ）等のチアゾール系促進剤からなる加硫促進剤を必要に応じて配合する。配合中に昇温しすぎると加硫が始まるので、冷却しつつ配合することが好ましい。
ついで、加硫剤等を含有するゴム組成物を金型中で加熱成形する。あるいは、エクストルーダを使用して押出成形し熱気加硫する。金型成形、押出成形等による1次加硫後に、必要に応じて２次加硫するとよい。
ついで、加硫剤等を含有するゴム組成物を金型中で加熱成形する。あるいは、エクストルーダを使用して押出成形し熱気加硫する。金型成形、押出成形等による1次加硫後に、必要に応じて２次加硫するとよい。
成分（Ｃ）を含有するゴム組成物を加硫することにより製造されるゴム成形品、例えばタイヤは、自動車用タイヤ、航空機用タイヤ、自転車用タイヤなどのいずれでもよいが、乗用車用タイヤ、トラック用タイヤ、レースカー用タイヤ、航空機用タイヤが好適である。その他のゴム成形品としてゴム被覆ロール、ベルト、パッキング、ゴムチューブ、ゴムシート、ゴム被覆電線が例示される。
以下に本発明の実施例および比較例を示す。実施例中、生成したビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィド；ビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドの混合物、およびビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィドの29Ｓｉ‐ＮＭＲは、日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置JEOL JNM-EX400を用い、重クロロホルム中で、テトラメチルシランを内部標準として測定を行った。それらの13Ｃ‐ＮＭＲは、日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置JEOL JNM-EX400を用い、重クロロホルム中で、テトラメチルシランを内部標準として測定を行った。
ビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィド、上記混合物、およびビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィド中のシラトラニル基の存在は、29Ｓｉ‐ＮＭＲおよび13C‐ＮＭＲチャート中のピークにより同定した。反応生成物中のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドの各含有量は、使用した原料の比により算出した。含有量を示す％は重量％を意味する。Etはエチル基を意味する。
ビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィド、上記混合物、およびビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィド中のシラトラニル基の存在は、29Ｓｉ‐ＮＭＲおよび13C‐ＮＭＲチャート中のピークにより同定した。反応生成物中のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドの各含有量は、使用した原料の比により算出した。含有量を示す％は重量％を意味する。Etはエチル基を意味する。
[実施例１]
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド４７.５ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン２９.８ｇ（０.２ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去して、常温で固体飴状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィド５０.１ｇ（収率９９％）を得た。
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド４７.５ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン２９.８ｇ（０.２ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去して、常温で固体飴状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィド５０.１ｇ（収率９９％）を得た。
[実施例２]
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド４７.５ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン１４.９ｇ（０.１ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去し、常温で液状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキキシシリルプロピル）ジスルフィドの混合物４８.０ｇ（収率９９％）を得た。
（上記混合物中、シラトラニル基は、トリエトキシシリル基とシラトラニル基の合計量の５０モル％である）
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド４７.５ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン１４.９ｇ（０.１ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去し、常温で液状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキキシシリルプロピル）ジスルフィドの混合物４８.０ｇ（収率９９％）を得た。
[実施例３]
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド４７.５ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン７.５ｇ（０.０５ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去して、常温で液状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキキシシリルプロピル）ジスルフィドの混合物４７.８ｇ（収率９９％）を得た。
（上記混合物中、シラトラニル基は、トリエトキシシリル基とシラトラニル基の合計量の２５モル％である）
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド４７.５ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン７.５ｇ（０.０５ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去して、常温で液状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）ジスルフィドと（シラトラニルプロピル）（トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィドとビス（トリエトキキシシリルプロピル）ジスルフィドの混合物４７.８ｇ（収率９９％）を得た。
（上記混合物中、シラトラニル基は、トリエトキシシリル基とシラトラニル基の合計量の２５モル％である）
[実施例４]
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド５３.９ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン２９.８ｇ（０.２ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去して、常温で固体飴状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィド５５.８ｇ（収率９８％）を得た。
撹拌機と温度計とコンデンサー付きのガラスフラスコに、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド５３.９ｇ（０.１ｍｏｌ）、トリエタノールアミン２９.８ｇ（０.２ｍｏｌ）、ソジウムエチラートの２０％エタノール溶液０.３４ｇ（０.００１ｍｏｌ）を投入し、２００ｍｍＨｇに減圧しつつ、１５０℃で２時間撹拌した。２時間撹拌後、さらに減圧して生成したエタノールを留去して、常温で固体飴状である下記構造式のビス（シラトラニルプロピル）テトラスルフィド５５.８ｇ（収率９８％）を得た。
[応用例１、比較応用例１]
表１に示す成分からなる試験体Ｂ用ゴム組成物および試験体Ｃ用ゴム組成物を調製した。
表１に示す成分からなる試験体Ｂ用ゴム組成物および試験体Ｃ用ゴム組成物を調製した。
各成分の詳細は下記表２のとおりである。
ゴム組成物調製時の混練条件は、下記のとおりである。
ＪＩＳ Ｋ６２９９「ゴム試験用試料の作製方法」に準拠
混練条件（１段練り：密閉式混合機）
試験機：ラボプラストミル 100Ｃ100型
ロータ形状：Ｂ−600（バンバリー型，600cc）
ロータ回転数：50rpm
充填率：70％
設定温度：120℃
取り出し温度：150℃（最大）
練り時間：4分
（２段練り：練りロール機）
ロールサイズ：8”φ×18”
前ロール回転数：20rpm
前後ロール回転比：1：1.5
ＪＩＳ Ｋ６２９９「ゴム試験用試料の作製方法」に準拠
混練条件（１段練り：密閉式混合機）
試験機：ラボプラストミル 100Ｃ100型
ロータ形状：Ｂ−600（バンバリー型，600cc）
ロータ回転数：50rpm
充填率：70％
設定温度：120℃
取り出し温度：150℃（最大）
練り時間：4分
（２段練り：練りロール機）
ロールサイズ：8”φ×18”
前ロール回転数：20rpm
前後ロール回転比：1：1.5
上記ゴム組成物を下記条件で加硫した。
＜加硫条件＞
シート
試験体Ｂ：160℃×11分
試験体Ｃ：160℃×18分
ブロック
試験体Ｂ：160℃×16分
試験体Ｃ：160℃×23分
＜加硫条件＞
シート
試験体Ｂ：160℃×11分
試験体Ｃ：160℃×18分
ブロック
試験体Ｂ：160℃×16分
試験体Ｃ：160℃×23分
上記試験体用ゴム組成物の特性および上記試験体用ゴム組成物を加硫して得たゴム（試験体Ｂと試験体Ｃ）の諸特性を下記条件で測定し、その結果を表３に示した。
＜ゴム組成物とゴムの特性測定方法＞
１．ムーニー粘度
ＪＩＳ Ｋ６３００「未加硫ゴム物性試験方法」に規定された方法に従って測定した。
測定温度：１００℃
ダイ加硫試験Ａ法
振幅±１°，振動数1.67Hz
２．伸び（％）
ＪＩＳ Ｋ６２５１「加硫ゴムの引張試験方法」に規定された方法に従って測定した。
試験片形状：引張試験ＪＩＳ ３号形
３．引裂き強度（Ｎ／ｍｍ）
ＪＩＳ Ｋ６２５２「加硫ゴムの引裂試験方法」に規定された方法に従って測定した。
試験片形状：引裂試験 切込み無しアングル形（列理方向に直角）
４．硬さ（デュロメータ硬さ）
ＪＩＳ Ｋ６２５３「加硫ゴム及び熱可塑性ゴムの硬さ試験方法」に規定された方法に従って測定した。
＜ゴム組成物とゴムの特性測定方法＞
１．ムーニー粘度
ＪＩＳ Ｋ６３００「未加硫ゴム物性試験方法」に規定された方法に従って測定した。
測定温度：１００℃
ダイ加硫試験Ａ法
振幅±１°，振動数1.67Hz
２．伸び（％）
ＪＩＳ Ｋ６２５１「加硫ゴムの引張試験方法」に規定された方法に従って測定した。
試験片形状：引張試験ＪＩＳ ３号形
３．引裂き強度（Ｎ／ｍｍ）
ＪＩＳ Ｋ６２５２「加硫ゴムの引裂試験方法」に規定された方法に従って測定した。
試験片形状：引裂試験 切込み無しアングル形（列理方向に直角）
４．硬さ（デュロメータ硬さ）
ＪＩＳ Ｋ６２５３「加硫ゴム及び熱可塑性ゴムの硬さ試験方法」に規定された方法に従って測定した。
５．磨耗容積（ｃｍ3）
ＪＩＳ Ｋ６２６４「加硫ゴムの磨耗試験方法」、アクロン磨耗試験Ａ−２法に準拠して測定した。
荷重：44.1Ｎ（4.50ｋｇｆ）
角度：10度
予備試験：500回
本試験：1000回
ＪＩＳ Ｋ６２６４「加硫ゴムの磨耗試験方法」、アクロン磨耗試験Ａ−２法に準拠して測定した。
荷重：44.1Ｎ（4.50ｋｇｆ）
角度：10度
予備試験：500回
本試験：1000回
６．ｔａｎδ
ＪＩＳ Ｋ７２４４−４「プラスチック−動的機械特性の試験方法−第４部：引張振動−非共振法」に準拠して測定した。
測定項目：動的貯蔵弾性率 Ｅ’
：動的損失弾性率 Ｅ”
：損失正接 ｔａｎδ
試験片形状：1mm×5mm×30mm
測定モード：引張モード
測定周波数：10Hz
昇温速度：2℃／min
測定温度：0℃、60℃
動的ひずみ：0.1％
試験機：レオメトリックス社製 粘弾性測定装置 ＲＳＡ−II
７．特性バランス
上記のｔａｎδ（０℃）とｔａｎδ（６０℃）の比、（０℃／６０℃）を示す。大きいほ
ど、タイヤバランス（ウェットスキッド性と低燃費性）が良い。
ＪＩＳ Ｋ７２４４−４「プラスチック−動的機械特性の試験方法−第４部：引張振動−非共振法」に準拠して測定した。
測定項目：動的貯蔵弾性率 Ｅ’
：動的損失弾性率 Ｅ”
：損失正接 ｔａｎδ
試験片形状：1mm×5mm×30mm
測定モード：引張モード
測定周波数：10Hz
昇温速度：2℃／min
測定温度：0℃、60℃
動的ひずみ：0.1％
試験機：レオメトリックス社製 粘弾性測定装置 ＲＳＡ−II
７．特性バランス
上記のｔａｎδ（０℃）とｔａｎδ（６０℃）の比、（０℃／６０℃）を示す。大きいほ
ど、タイヤバランス（ウェットスキッド性と低燃費性）が良い。
上記試験体Ｂと試験体Ｃの測定結果を表３に示した。
本発明のビス (シラトラニルアルキル)ポリスルフィドの製造方法は、硫化水素を発生することなくビス (シラトラニルアルキル)ポリスルフィドを簡易に収率よく製造するのに有用である。
本発明のビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法、および、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法は、硫化水素を発生することなく簡易に収率よくそれらを製造するのに有用である。
本発明の上記混合物は、ゴムに添加してその特性を改良するのに有用である。
本発明のビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法、および、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法は、硫化水素を発生することなく簡易に収率よくそれらを製造するのに有用である。
本発明の上記混合物は、ゴムに添加してその特性を改良するのに有用である。
Claims (3)
- 一般式(1)： （Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
式(2)： （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (2)
で示されるトリエタノールアミンを、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり式(2)で示されるトリエタノールアミン１.７５モル未満の比率で、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド１モル当たり０.１〜５.０モル％のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド中の一部のＳｉ結合（ＯＲ１）３を（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎで示される基に置換することを特徴とする、
一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりである）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと一般式(1)：
（Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物の製造方法。 - 一般式(3)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２）３Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ１は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1) ： （Ｒ１Ｏ）３ＳｉＲＳｘＲＳｉ（ＯＲ１）３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ１、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物。 - 一般式(3)： Ｎ（ＣＨ ２ ＣＨ ２ Ｏ） ３ ＳｉＲＳ ｘ ＲＳｉ（ＯＣＨ ２ ＣＨ ２ ） ３ Ｎ (3)
（式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキレン基、ｘは２〜８の数である）で示されるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(4)： Ｎ（ＣＨ ２ ＣＨ ２ Ｏ） ３ ＳｉＲＳ ｘ ＲＳｉ（ＯＲ １ ） ３ (4)
（式中、Ｒ、ｘは前記どおりであり、Ｒ １ は炭素原子数１〜４のアルキル基である）で示される（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドと
一般式(1)： （Ｒ １ Ｏ） ３ ＳｉＲＳ ｘ ＲＳｉ（ＯＲ １ ） ３ (1)
（式中、Ｒ、Ｒ １ 、ｘは前記どおりである）で示されるビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィド混合物の、アルキレングリコール溶液またはポリアルキレングリコール溶液。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007004762A JP5193470B2 (ja) | 2007-01-12 | 2007-01-12 | ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法およびビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の混合物 |
| TW096143733A TW200835675A (en) | 2007-01-12 | 2007-11-19 | Method for manufacturing a bis(silatranylalkyl) polysulfide, method for manufacturing a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., |
| PCT/JP2008/050659 WO2008084885A1 (en) | 2007-01-12 | 2008-01-11 | Method for manufacturing a bis(silatranylalkyl) polysulfide, method for manufacturing a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., and rubber composition |
| US12/522,835 US8093323B2 (en) | 2007-01-12 | 2008-01-11 | Method for manufacturing a bis(silatranylalkyl) polysulfide, method for manufacturing a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., and rubber composition |
| CN2008800016407A CN101578291B (zh) | 2007-01-12 | 2008-01-11 | 多硫化双（杂氮硅三环基烷基）的制备方法，多硫化双（杂氮硅三环基烷基）等的混合物的制备方法，多硫化双（杂氮硅三环基烷基）等的混合物，和橡胶组合物 |
| EP08703509A EP2104678A1 (en) | 2007-01-12 | 2008-01-11 | Method for manufacturing a bis(silatranylalkyl) polysulfide, method for manufacturing a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., a mixture of bis(silatranylalkyl) polysulfide etc., and rubber composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007004762A JP5193470B2 (ja) | 2007-01-12 | 2007-01-12 | ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法およびビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の混合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008169157A JP2008169157A (ja) | 2008-07-24 |
| JP5193470B2 true JP5193470B2 (ja) | 2013-05-08 |
Family
ID=39267947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007004762A Expired - Fee Related JP5193470B2 (ja) | 2007-01-12 | 2007-01-12 | ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法およびビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の混合物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8093323B2 (ja) |
| EP (1) | EP2104678A1 (ja) |
| JP (1) | JP5193470B2 (ja) |
| CN (1) | CN101578291B (ja) |
| TW (1) | TW200835675A (ja) |
| WO (1) | WO2008084885A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA200711159B (en) * | 2006-12-28 | 2009-03-25 | Bridgestone Corp | Amine-containing alkoxysilyl-functionalized polymers |
| US8183403B2 (en) | 2008-02-22 | 2012-05-22 | Bridgestone Corporation | Organosilicon compound as well as rubber composition, tire, primer composition, paint composition and adhesive using the same |
| DE102008054967A1 (de) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | Evonik Degussa Gmbh | Silatranhaltige Partikel |
| JP5513010B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-06-04 | 株式会社ブリヂストン | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム組成物、タイヤ、プライマー組成物、塗料組成物及び接着剤 |
| WO2010116713A1 (ja) * | 2009-04-06 | 2010-10-14 | 株式会社ブリヂストン | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム組成物、タイヤ、プライマー組成物、塗料組成物及び接着剤 |
| JP5513013B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-06-04 | 株式会社ブリヂストン | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム組成物、タイヤ、プライマー組成物、塗料組成物及び接着剤 |
| WO2010116712A1 (ja) * | 2009-04-06 | 2010-10-14 | 株式会社ブリヂストン | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム組成物、タイヤ、プライマー組成物、塗料組成物及び接着剤 |
| WO2010134341A1 (ja) * | 2009-05-20 | 2010-11-25 | 株式会社ブリヂストン | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム組成物、タイヤ、プライマー組成物、塗料組成物及び接着剤 |
| JPWO2010134340A1 (ja) * | 2009-05-20 | 2012-11-08 | 株式会社ブリヂストン | シランカップリング剤の製造方法 |
| JPWO2010134339A1 (ja) * | 2009-05-20 | 2012-11-08 | 株式会社ブリヂストン | シランカップリング剤の製造方法 |
| JP5513009B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-06-04 | 株式会社ブリヂストン | 有機ケイ素化合物、並びにそれを用いたゴム組成物、タイヤ、プライマー組成物、塗料組成物及び接着剤 |
| JP5577063B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2014-08-20 | 株式会社ブリヂストン | シランカップリング剤の製造方法 |
| TWI597286B (zh) | 2013-03-28 | 2017-09-01 | 國立中正大學 | 具有保護基之巰基烷化雜氮矽三環衍生物及其製造方法 |
| JP6248597B2 (ja) | 2013-12-13 | 2017-12-20 | 信越化学工業株式会社 | 含硫黄有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤、並びにゴム組成物 |
| JP6866348B2 (ja) | 2015-07-29 | 2021-04-28 | 株式会社ブリヂストン | 官能化されたポリマーの調製方法、関連の官能化化合物、及びその調製 |
| DE102015224436A1 (de) * | 2015-12-07 | 2017-06-08 | Evonik Degussa Gmbh | Kautschukmischungen |
| JP2017141351A (ja) * | 2016-02-10 | 2017-08-17 | 日立化成株式会社 | 摩擦材組成物、該摩擦材組成物を用いた摩擦材及び摩擦部材 |
| US20190308451A1 (en) * | 2018-04-10 | 2019-10-10 | Kraton Polymers Llc | Tire Compositions and Methods for Making Thereof |
| US11680157B2 (en) | 2018-04-10 | 2023-06-20 | Kraton Corporation | Tire compositions and methods for making thereof |
| KR102576576B1 (ko) * | 2018-12-27 | 2023-09-08 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 식각 조성물, 이를 이용한 절연막의 식각방법 및 반도체 소자의 제조방법 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU580840A3 (ru) * | 1974-02-07 | 1977-11-15 | Дегусса (Фирма) | Способ получени серосодержащих кремнийорганических соединений |
| DE2712866C3 (de) * | 1977-03-24 | 1980-04-30 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Herstellen von schwefelhaltigen Organosiliciumverbindungen |
| EP0819694B1 (de) * | 1996-07-18 | 2002-10-02 | Degussa AG | Gemische von Organilanpolysulfanen und ein Verfahren zur Herstellung von diese Gemische enthaltenden Kautschukmischungen |
| EP1063259A1 (de) | 1999-06-26 | 2000-12-27 | Bayer Ag | Mikrogelhaltige Kautschukcompounds mit schwefelhaltigen Organosiliciumverbindungen |
| DE102006004062A1 (de) * | 2006-01-28 | 2007-08-09 | Degussa Gmbh | Kautschukmischungen |
-
2007
- 2007-01-12 JP JP2007004762A patent/JP5193470B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-19 TW TW096143733A patent/TW200835675A/zh unknown
-
2008
- 2008-01-11 EP EP08703509A patent/EP2104678A1/en not_active Withdrawn
- 2008-01-11 US US12/522,835 patent/US8093323B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-11 CN CN2008800016407A patent/CN101578291B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-11 WO PCT/JP2008/050659 patent/WO2008084885A1/en active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8093323B2 (en) | 2012-01-10 |
| US20100120950A1 (en) | 2010-05-13 |
| CN101578291B (zh) | 2012-07-04 |
| TW200835675A (en) | 2008-09-01 |
| JP2008169157A (ja) | 2008-07-24 |
| CN101578291A (zh) | 2009-11-11 |
| WO2008084885A1 (en) | 2008-07-17 |
| EP2104678A1 (en) | 2009-09-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5193470B2 (ja) | ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法およびビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の混合物 | |
| JP5885504B2 (ja) | 空気入りタイヤ | |
| CA2575386A1 (en) | Silane compositions, processes for their preparation and rubber compositions containing same | |
| JP2012149189A (ja) | タイヤ用ゴム組成物及び空気入りタイヤ | |
| JP6248597B2 (ja) | 含硫黄有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤、並びにゴム組成物 | |
| JP5865031B2 (ja) | ゴム組成物及びその製造方法 | |
| JP5323351B2 (ja) | ビス［トリ（ヒドロキシポリアルキレンオキシ）シリルアルキル］ポリスルフィド、その製造方法、タイヤ用ゴム添加剤およびタイヤ用ゴム組成物 | |
| JP5809020B2 (ja) | ゴム組成物及びゴム組成物の製造方法 | |
| JP5957210B2 (ja) | ゴム組成物及びその製造方法 | |
| JP4336920B2 (ja) | ゴム組成物 | |
| JP5932291B2 (ja) | ゴム組成物及びその製造方法 | |
| JP6206152B2 (ja) | 含硫黄有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤、並びにゴム組成物 | |
| EP4108707A1 (en) | Organopolysiloxane, rubber composition, and tire | |
| JP6125323B2 (ja) | ゴム組成物及び空気入りタイヤ | |
| JP2015205844A (ja) | 含硫黄有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤、ゴム組成物並びにタイヤ | |
| JP5926922B2 (ja) | ゴム組成物及びゴム組成物の製造方法 | |
| JP5869850B2 (ja) | ゴム組成物及びその製造方法 | |
| JP7413987B2 (ja) | ゴム組成物およびタイヤ | |
| JP4143822B2 (ja) | ポリスルフィドシランの製造方法 | |
| JP5845064B2 (ja) | ゴム組成物及びゴム組成物の製造方法 | |
| JP2012240927A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤、ゴム組成物並びにタイヤ | |
| JP2013108002A (ja) | ゴム組成物の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091222 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120703 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120928 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130204 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160208 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |