JP5192826B2 - フォトクロミック光学基材 - Google Patents
フォトクロミック光学基材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5192826B2 JP5192826B2 JP2007555911A JP2007555911A JP5192826B2 JP 5192826 B2 JP5192826 B2 JP 5192826B2 JP 2007555911 A JP2007555911 A JP 2007555911A JP 2007555911 A JP2007555911 A JP 2007555911A JP 5192826 B2 JP5192826 B2 JP 5192826B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photochromic
- mass
- hard coat
- group
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 83
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 64
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 152
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 127
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 89
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 68
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 64
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 58
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 58
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 47
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 11
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims description 7
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 N-substituted amide group Chemical group 0.000 description 51
- 239000010408 film Substances 0.000 description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 47
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 46
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 27
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 27
- 238000011161 development Methods 0.000 description 26
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 24
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 22
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 21
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 17
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 14
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 12
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 9
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 9
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 9
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 8
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 8
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000008371 chromenes Chemical class 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 6
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000013008 moisture curing Methods 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L Magnesium perchlorate Chemical compound [Mg+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UUQJMSSFMULZHR-UHFFFAOYSA-N [4,5,5,6,6-pentaethoxy-4-[2-[1,5,5,6,6-pentaethoxy-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)cyclohex-2-en-1-yl]propan-2-yl]cyclohex-2-en-1-yl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC1C(C(C(C=C1)(C(C)(C)C1(C(C(C(C=C1)OC(C(=C)C)=O)(OCC)OCC)(OCC)OCC)OCC)OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC UUQJMSSFMULZHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 4
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 125000005068 thioepoxy group Chemical group S(O*)* 0.000 description 4
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BDLXTDLGTWNUFM-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)OCCO BDLXTDLGTWNUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical compound [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 3
- JBYXACURRYATNJ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(1-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CCCCCC([Si](OC)(OC)OC)[Si](OC)(OC)OC JBYXACURRYATNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000326 ultraviolet stabilizing agent Substances 0.000 description 3
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 2
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-3,3-difluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(Br)C=C GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 101100168642 Arabidopsis thaliana CRN gene Proteins 0.000 description 2
- 101100045632 Arabidopsis thaliana TCX2 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100045633 Arabidopsis thaliana TCX3 gene Proteins 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 2
- 239000004166 Lanolin Substances 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000917132 Pleurodeles waltl Fibroblast growth factor receptor 4 Proteins 0.000 description 2
- 101150037491 SOL1 gene Proteins 0.000 description 2
- 101150032095 SOL3 gene Proteins 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 2
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- QZHPTGXQGDFGEN-UHFFFAOYSA-N chromene Chemical compound C1=CC=C2C=C[CH]OC2=C1 QZHPTGXQGDFGEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Natural products O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 235000019388 lanolin Nutrition 0.000 description 2
- 229940039717 lanolin Drugs 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 101150103732 sol2 gene Proteins 0.000 description 2
- 101150090449 sol4 gene Proteins 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000132092 Aster Species 0.000 description 1
- HKMTVMBEALTRRR-UHFFFAOYSA-N Benzo[a]fluorene Chemical group C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4C3=CC=C21 HKMTVMBEALTRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BINZZVSUUUFLOJ-UHFFFAOYSA-N CN(C)c1ccc(C(C=C2)(c3ccccc3)Oc3c2c(C(c2ccc4)(c5cccc6ccc4c2c56)c2c-4ccc(OC)c2)c-4c(C=C2)c3CC2OC)cc1 Chemical compound CN(C)c1ccc(C(C=C2)(c3ccccc3)Oc3c2c(C(c2ccc4)(c5cccc6ccc4c2c56)c2c-4ccc(OC)c2)c-4c(C=C2)c3CC2OC)cc1 BINZZVSUUUFLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerol Natural products OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZRGUXTGDSGGHLR-UHFFFAOYSA-K aluminum;triperchlorate Chemical compound [Al+3].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O ZRGUXTGDSGGHLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHXPULBNLXLBKL-UHFFFAOYSA-N diethoxymethyl-[1-(diethoxymethylsilyl)hexyl]silane Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]C(CCCCC)[SiH2]C(OCC)OCC PHXPULBNLXLBKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHGRBOBNAESGB-UHFFFAOYSA-N diethoxymethyl-[1-(diethoxymethylsilyl)octyl]silane Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]C(CCCCCCC)[SiH2]C(OCC)OCC BZHGRBOBNAESGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(OC)OC GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVCXBXFMQFIMCG-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethyl-[1-(dimethoxymethylsilyl)hexyl]silane Chemical compound COC(OC)[SiH2]C(CCCCC)[SiH2]C(OC)OC DVCXBXFMQFIMCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BANBZXBYXBYKGE-UHFFFAOYSA-M dimethyl-di(propan-2-yl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(C)[N+](C)(C)C(C)C BANBZXBYXBYKGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N methylamine hydrochloride Chemical compound [Cl-].[NH3+]C NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005076 polymer ester Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- WSFQLUVWDKCYSW-UHFFFAOYSA-M sodium;2-hydroxy-3-morpholin-4-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN1CCOCC1 WSFQLUVWDKCYSW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WALNCKJQTNNUDQ-UHFFFAOYSA-M tetra(propan-2-yl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(C)[N+](C(C)C)(C(C)C)C(C)C WALNCKJQTNNUDQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C[P+](C)(C)C ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NJFUXFRJVIXVSG-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[P+](C)(C)C NJFUXFRJVIXVSG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)[Si](OCC)(OCC)OCC FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGVSPORIGRCPMG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CCCCCC([Si](OCC)(OCC)OCC)[Si](OCC)(OCC)OCC PGVSPORIGRCPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSAJVUUALHWJEM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(8-triethoxysilyloctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OSAJVUUALHWJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLUIBHBNUCWHGE-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(1-trimethoxysilyloctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC([Si](OC)(OC)OC)[Si](OC)(OC)OC XLUIBHBNUCWHGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-trimethoxysilylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC[Si](OC)(OC)OC JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- RXBXBWBHKPGHIB-UHFFFAOYSA-L zinc;diperchlorate Chemical compound [Zn+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O RXBXBWBHKPGHIB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/23—Photochromic filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K9/00—Tenebrescent materials, i.e. materials for which the range of wavelengths for energy absorption is changed as a result of excitation by some form of energy
- C09K9/02—Organic tenebrescent materials
-
- G02B1/105—
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1003—Carbocyclic compounds
- C09K2211/1011—Condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
- C09K2211/1025—Heterocyclic compounds characterised by ligands
- C09K2211/1029—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
- C09K2211/1033—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom with oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
- C09K2211/1025—Heterocyclic compounds characterised by ligands
- C09K2211/1088—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing oxygen as the only heteroatom
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/256—Heavy metal or aluminum or compound thereof
- Y10T428/257—Iron oxide or aluminum oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/259—Silicic material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
(I)上記フォトクロミックコート層が、アルキルアミノ基含有フォトクロミック化合物および/又はジアルキルアミノ基含有フォトクロミック化合物を合計で、0.1〜10.0質量%含有してなり、
(II)上記ハードコート層が、金属酸化物微粒子及び有機ケイ素化合物を含有してなるハードコート剤を硬化して得られ、
該ハードコート剤が、有機ケイ素化合物としてテトラアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びこれらの部分加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種を、金属酸化物微粒子及び有機ケイ素化合物の合計質量を基準とする質量%で表して10〜60質量%含む(但し、有機ケイ素化合物が部分加水分解可能な有機ケイ素化合物の部分加水分解物である場合には、該合計質量における有機ケイ素化合物の質量は上記部分加水分解可能な有機ケイ素化合物換算の質量とする)
ことを特徴とするフォトクロミック光学基材。
上記光学基材上に積層された上記フォトクロミックコート層上に、金属酸化物微粒子及び有機ケイ素化合物を含有してなるハードコート剤を塗布し、硬化して、上記ハードコート層を形成する工程を含み、
上記ハードコート剤が、有機ケイ素化合物としてテトラアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びこれらの部分加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種を、金属酸化物微粒子及び有機ケイ素化合物の合計質量を基準とする質量%で表して10〜60質量%含む(但し、有機ケイ素化合物が部分加水分解可能な有機ケイ素化合物の部分加水分解物である場合には、該合計質量における有機ケイ素化合物の質量は前記部分加水分解可能な有機ケイ素化合物換算の質量とする)
ことを特徴とするフォトクロミック光学基材の製造方法。
2・・・プライマー層
3・・・フォトクロミックコート層
4・・・ハードコート層
5・・・反射防止膜
10・・・フォトクロミシク光学基材
前記式(6)で示される化合物の中でもR13及び/又はR14が、(ジ)アルキルアミノ基置換芳香族炭化水素基または(ジ)アルキルアミノ基置換不飽和複素環基である化合物が特に好ましい。
上記式(11)中のR及びR38はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基であり、Aは0、1および2の整数である。R又はR38が1分子中に複数存在する場合、それぞれ互いに異なっていてもよい。R及びR38としては、安全性の高さ及び反応性の観点からメチル基またはエチル基であることが最も好ましく、Aは0または1であることが好ましい。
(式中、R42は、炭素数2〜6の炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ基、アクリル基、メルカプト基、またはアミノ基を有する有機基であり、R43は炭素数1〜3のアルキル基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Bは、0、1または2である。)
(R44)CSi(OR)4-C (13)
(式中、R44は、水素原子、ビニル基、アリール基又はメチル基以外のアルキル基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Cは、1または2の整数である。)
(R45)D(RO)3-DSi−R46−Si(OR)3-D(R47)D (14)
(式中、R46は炭素数1〜8の直鎖または枝分かれしたアルキレン基であり、R45およびR47は炭素数1〜3のアルキル基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり、Dは0〜2の整数である。)
上記式(12)〜(14)で示される化合物を具体的に示せば、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、n−オクチルメチルジメトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリメトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、ビス(ジエトキシメチルシリル)ヘキサン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、ビス(ジメトキシメチルシリル)ヘキサン、ビス(トリエトキシシリル)オクタン、ビス(トリメトキシシリル)オクタン、ビス(ジエトキシメチルシリル)オクタン、1−(トリエトキシシリル)−2−(ジエトキシメチルシリル)エタン、及び下記式(15)で示される化合物を挙げることができる。これらは単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
特定シラン化合物の含有量が基準質量の15〜40質量%である場合には、有機ケイ素化合物の合計質量が基準質量の40〜75質量%(即ち、その他有機ケイ素化合物の合計質量が基準質量の0〜60質量%)となる量であるのが好ましく、
特定シラン化合物の含有量が基準質量の15〜35質量%である場合には、有機ケイ素化合物の合計質量が基準質量の40〜70質量%(即ち、その他有機ケイ素化合物の合計質量が基準質量の5〜55質量%)となる量であるのが好ましい。
・CR(アリル樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.50)
・MRA(チオウレタン系樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.60)
・MRB(チオウレタン系樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.67)
・TE(チオエポキシ系樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.71)
・SE(メタクリル樹脂+ビニル樹脂レンズ;屈折=1.60)。
・竹林化学工業株式会社製湿気硬化型プライマー『タケシールPFR402TP−4』
・竹林化学工業株式会社製湿気硬化型プライマー『タケシールPFR4』。
〔ラジカル重合性単量体〕
・TMPT:トリメチロールプロパントリメタクリレート
・U6A:ウレタンオリゴマーヘキサアクリレート(新中村化学社:U−6HA)
・EB6A:ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート(ダイセル・ユーシービー社:EB1830)
・GMA:グリシジルメタアクリレート
・BPE:2, 2-ビス(4-メタクリロイルオキシペンタエトキシフェニル)プロパン
・9GDA:ポリエチレングリコールジアクリレート(平均分子量532)
・BPEオリゴ:平均分子量776の2, 2-ビス(4-アクリロイルオキシポリエチレングリコールフェニル)プロパン。
・PC1
・PC3
・CGI1800:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイドの混合物(重量比3:1)
・CGI1870:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイドの混合物(重量比3:7)。
・LS765:ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルー4−ピペリジル)セバケート。
・SiL1:シリコーン系界面活性剤『L7001』(束レ・ダウコーニング株式会社製)
・SiL2:シリコーン系界面活性剤『FZ2104』(東レ・ダウコーニング株式会社製)。
・TSL:γ―メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン。
〔金属酸化物微粒子〕
・SOL1:メタノール分散シリカゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)
・SOL2:メタノール分散SnO2-ZrO2-Sb2O5-S iO2複合金属酸化物ゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)
・SOL3:メタノール分散TiO2−SnO2−ZrO2−Sb2O5複合金属酸化物ゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)
・SOL4:メタノール分散Sb2O5金属酸化物ゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)。
・MTEOS:メチルトリエトキシシラン。
・GTS:γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
・GDS:γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン
・ETS:β ― (3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン。
・HTS:n−ヘキシルトリメトキシシラン
・有機ケイ素化合物 B1
・MeOH:メタノール
・IPA:イソプロパノール
・TBA:t―ブタノール
・EGPE:エチレングリコールモノイソプロピルエーテル
・EGEE:エチレングリコールモノエチルエーテル
・EGBE:エチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル
・PGPE:プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル
・AcAc:アセチルアセトン
・DAA:ジアセトンアルコール
・DIO:ジオキサン。
・C1: トリス(2, 4-ペンタンジオナト) アルミニウム(III)
・C2: トリス(2, 4-ペンタンジオナト)鉄(III)
・C3: 過塩素酸マグネシウム
[実施例1]
1.フォトクロミック硬化膜を有するレンズ基材の作成
レンズ基材として厚さ2mmのMRB(チオウレタン系樹脂プラスチックレンズ:屈折率=1.67)を用いた。このレンズ基材をアセトンで十分に脱脂した。プライマーとして竹林化学工業株式会社製湿気硬化型プライマー『タケシールPFR402TP−4』及び酢酸エチルをそれぞれ50質量部となるように調合し、更にこの混合液に対して東レ・ダウコーニング株式会社製レベリング剤SiL2(FZ−2104)を0.03質量部添加し、窒素雰囲気下で均一になるまで充分に撹拌し、プライマー組成物(A)を得た(表1参照)。これをMIKASA製スピンコーター1H−DX2を用いて、MRBレンズ基材表面にスピンコートした。このレンズを室温で15分間放置することにより、プライマー層を有するレンズ基材を作製した。
こうして作成したフォトクロミック硬化膜を有するレンズ基材のフォトクロミック特性の評価として、以下の方法で発色濃度を測定した。
次いで、上記フォトクロミック硬化膜を有するレンズ基材に次のようにして調製したハードコート剤(a)をコートした。
(1)外観
目視検査でコート膜の透明性、塗りむらなどの有無を観察した。外観良好なものを〇、外観不良なものを×として評価した。
スチールウール(日本スチールウール(株)製ボンスター#0000番)を用い、1kgの荷重で10往復レンズ表面を擦り、傷ついた程度を目視で評価した。評価基準は次の通りである。
A:ほとんど傷が付かない
B:極わずかに傷が付く
C:少し傷が付く
D:はっきりと傷が付く
E:塗膜が剥離している。
コート膜とレンズの密着性をJISD−0202に準じてクロスカットテープ試験によって行った。すなわち、カッターナイフを使いレンズ表面に約1mm間隔に切れ目を入れ、マス目を100個形成させる。その上にセロファン粘着テープ(ニチバン(株)製セロテープ(登録商標))を強く貼り付け、次いで、表面から90°方向ヘ一気に引っ張り剥離した後、コート膜の残っているマス目を測定した。評価結果は、(残っているマス目数)/100で表した。ここでの密着性は、レンズ基材上に積層している全ての層の密着性を評価している。該評価を表面、裏面で行った。表面は、フォトクロミック層が積層している積層体の密着性を示し、裏面はハードコート膜と基材のみの密着性を示す。通常、全く剥がれないか、或いは数マス目しか剥がれない密着性を有していないと実用性はない。
前述方法と同様にして、発色濃度及びa*値を評価した。
コーティング組成物調製後、20℃で3週間保存した後に、各コーティング組成物を用いてそれぞれ上記と同様な方法でコート膜を形成し、得られたコート膜の外観、耐擦傷性、密着性、発色濃度及びa*値を評価した。
実施例1においてプライマー組成物(A)を調整したのと同様の方法で、表1に示す成分を混合して、プライマー組成物(B)〜(D)を得た。また、実施例1においてフォトクロミック組成物(I)を調製したのと同様の方法で、表2に示す成分を混合して、フォトクロミック組成物(II)〜(VII)を得た。さらに、実施例1においてハードコート剤(a)を調製したのと同様の方法で、表3および4に示す成分を混合して、ハードコート剤(b)〜(i)及び(l)を得た。そして、表5に示すレンズ基材、プライマー組成物、フォトクロミック組成物及びハードコート剤を用い、実施例1と同様の方法でフォトクロミック硬化膜を作成し、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。その後、実施例1と同様の方法でハードコート層を積層し、外観、耐擦傷性、密着性、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。結果を表5にまとめた。また、保存安定性の結果を表6に示す。
実施例1においてハードコート剤(a)を調製したのと同様の方法で、表4に示す成分を混合して、ハードコート剤(m)及び(n)を得た。次いで、表5に示すレンズ基材、プライマー組成物及びフォトクロミック組成物を用い、実施例1と同様の方法でフォトクロミック硬化膜を作成し、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。その後、表5に示すハードコート剤を用いて実施例1と同様の方法でハードコート層を積層し、外観、耐擦傷性、密着性、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。結果を表5にまとめた。また、保存安定性の結果を表6に示す。
実施例1においてハードコート剤(a)を調製したのと同様の方法で、表4に示す成分を混合して、ハードコート剤(j)及び(k)を得た。なお、これらハードコート剤では、その調製時において、ハードコート剤(a)を調製するときに使用した0.05Nの塩酸水溶液12.9gに代えて0.05NのN−メチルアンモニウムクロライド(4級塩に該当する)水溶液12.9gを添加している。次いで、実施例1と同様の方法でフォトクロミック硬化膜を作成し、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。その後、表5に示すハードコート剤を用い、実施例1のハードコート層の形成工程において、ハードコート剤の塗布前の前処理としてコロナ放電処理を行わずに、50℃の20%KOH水溶液に10分間フォトクロミック積層体を含浸してエッチングを行った以外、実施例1と同様な方法でハードコート層を積層し、外観、耐擦傷性、密着性、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。結果を表5にまとめた。また、保存安定性の結果を表6に示す。
・CR(アリル樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.50)
・MRA(チオウレタン系樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.60)
・MRB(チオウレタン系樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.67)
・TE(チオエポキシ系樹脂プラスチックレンズ;屈折率=1.71)
・SE(メタクリル樹脂+ビニル樹脂レンズ;屈折=1.60)。
・竹林化学工業株式会社製湿気硬化型プライマー『タケシールPFR402TP−4』
・竹林化学工業株式会社製湿気硬化型プライマー『タケシールPFR4』。
〔ラジカル重合性単量体〕
・TMPT:トリメチロールプロパントリメタクリレート
・U6A:ウレタンオリゴマーヘキサアクリレート(新中村化学社:U−6HA)
・EB6A:ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート(ダイセル・ユーシービー社:EB1830)
・GMA:グリシジルメタアクリレート
・BPE:2, 2-ビス(4-メタクリロイルオキシペンタエトキシフェニル)プロパン
・9GDA:ポリエチレングリコールジアクリレート(平均分子量532)
・BPEオリゴ:平均分子量776の2, 2-ビス(4-アクリロイルオキシポリエチレングリコールフェニル)プロパン。
・PC11
・PC33
・CGI1800:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイドの混合物(重量比3:1)
・CGI1870:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイドの混合物(重量比3:7)。
・LS765:ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルー4−ピペリジル)セバケート。
・SiL1:シリコーン系界面活性剤『L7001』(束レ・ダウコーニング株式会社製)
・SiL2:シリコーン系界面活性剤『FZ2104』(東レ・ダウコーニング株式会社製)。
・TSL:γ―メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン。
〔金属酸化物微粒子〕
・SOL1:メタノール分散シリカゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)
・SOL2:メタノール分散SnO2-ZrO2-Sb2O5-S iO2複合金属酸化物ゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)
・SOL3:メタノール分散TiO2−SnO2−ZrO2−Sb2O5複合金属酸化物ゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)
・SOL4:メタノール分散Sb2O5金属酸化物ゾル(日産化学工業(株)製、固形分濃度30wt%)。
・TEOS:テトラエトキシシラン。
・GTS:γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
・GDS:γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン
・ETS:β ― (3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン。
・HTS:n−ヘキシルトリメトキシシラン
・OTS:n−オクチルトリメトキシシラン
・ODS:n−オクチルメチルジメトキシシラン
・DTS:n−デシルトリメトキシシラン
・ODTS:n−オクタデシルトリメトキシシラン
・有機ケイ素化合物 B1
・MeOH:メタノール
・IPA:イソプロパノール
・TBA:t―ブタノール
・EGPE:エチレングリコールモノイソプロピルエーテル
・EGEE:エチレングリコールモノエチルエーテル
・EGBE:エチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル
・PGPE:プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル
・AcAc:アセチルアセトン
・DAA:ジアセトンアルコール
・DIO:ジオキサン。
・C11: トリス(2, 4-ペンタンジオナト) アルミニウム(III)
・C22: トリス(2, 4-ペンタンジオナト)鉄(III)
・C33: 2,4−ペンタンジオナトリウム
・C44: 過塩素酸アンモニウム
・C55: 過塩素酸マグネシウム。
1.フォトクロミック硬化膜を有するレンズ基材の作成
実施例1と同様にして、プライマー層を有するレンズ基材を作製した。
こうして作成したフォトクロミック硬化膜を有するレンズ基材のフォトクロミック特性の評価として、実施例1と同様の方法で発色濃度を測定した。
次いで、上記フォトクロミック硬化膜を有するレンズ基材に次のようにして調製したハードコート剤(aa)をコートした。
実施例15においてフォトクロミック組成物(I’)を調製したのと同様の方法で、表7に示す成分を混合して、フォトクロミック組成物(II’)〜(VII’)を得た。さらに、実施例15においてハードコート剤(aa)を調製したのと同様の方法で、表8及び9に示す成分を混合して、ハードコート剤(bb)〜(mm)を得た。そして、表10に示すレンズ基材、プライマー組成物、フォトクロミック組成物及びハードコート剤を用い、実施例15と同様の方法でフォトクロミック硬化膜を作成し、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。その後、実施例15と同様の方法でハードコート層を積層し、外観、耐擦傷性、密着性、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。結果を表10にまとめた。また、保存安定性の結果を表11および12に示す。
表14に示すレンズ基材、プライマー組成物、フォトクロミック組成物を用い、実施例1と同様の方法でフォトクロミック硬化膜を作成し、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。その後、表13に示すハードコート剤を用い、実施例1と同様の方法でハードコート層を積層し、外観、耐擦傷性、密着性、最大吸収波長における発色濃度、発色時及び退色時のa*値の評価を行った。結果を表14にまとめた。また、保存安定性の結果を表15に示す。
Claims (5)
- 光学基材、フォトクロミックコート層、およびハードコート層がこの順に積層されてなるフォトクロミック光学基材において、
(I)前記フォトクロミックコート層は、ラジカル重合性単量体およびフォトクロミック化合物を含有するフォトクロミックコーティング剤の硬化体であって、該フォトクロミック化合物としてアルキルアミノ基含有フォトクロミック化合物および/又はジアルキルアミノ基含有フォトクロミック化合物を合計で、0.1〜10.0質量%含有する硬化体からなり、
(II)前記ハードコート層は、金属酸化物微粒子及び有機ケイ素化合物を含有してなるハードコート剤の硬化体からなり、
該ハードコート剤が、
有機ケイ素化合物としてテトラアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びこれらの部分加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種から成る成分(A)と、エポキシ基含有有機ケイ素化合物及び/またはその部分加水分解物からなる成分(B)と、を含んでなり、
前記金属酸化物微粒子及び前記有機ケイ素化合物の合計質量(ここで有機ケイ素化合物が部分加水分解可能な有機ケイ素化合物の部分加水分解物である場合には、該合計質量における有機ケイ素化合物の質量は前記部分加水分解可能な有機ケイ素化合物換算の質量とする)を基準質量としたときにおける、金属酸化物微粒子、成分(A)および成分(B)の合計質量は該基準質量の45質量%以上100質量%以下であり、
金属酸化物微粒子の量は該基準質量の20〜70質量%であり、成分(A)の量は該基準質量の10〜50質量%であり、成分(B)の量は該基準質量の15〜60質量%である
ことを特徴とするフォトクロミック光学基材。 - 前記ハードコート剤が、さらに硬化触媒を含む請求項1に記載のフォトクロミック光学基材。
- ハードコート層を形成する前記ハードコート剤が、硬化触媒としてアセチルアセトナート錯体を含む請求項2に記載のフォトクロミック光学基材。
- ハードコート層を形成する前記ハードコート剤が、更に4級アンモニウム塩および/又は4級ホスホニウム塩を含む請求項3に記載のフォトクロミック光学基材。
- 光学基材、フォトクロミックコート層、およびハードコート層がこの順に積層されてなるフォトクロミック光学基材の製造方法において、
前記光学基材の表面に、ラジカル重合性単量体およびフォトクロミック化合物を含有するフォトクロミックコーティング剤の硬化体であって、フォトクロミック化合物としてアルキルアミノ基含有フォトクロミック化合物および/又はジアルキルアミノ基含有フォトクロミック化合物を合計で、0.1〜10.0質量%含有する硬化体からなるフォトクロミックコート層を形成する工程、および
前記フォトクロミックコート層上に、金属酸化物微粒子及び有機ケイ素化合物を含有してなるハードコート剤を塗布し、硬化して、前記ハードコート層を形成する工程を含み、
前記ハードコート剤として、
有機ケイ素化合物としてテトラアルコキシシラン、メチルトリアルコキシシラン及びこれらの部分加水分解物からなる群より選ばれる少なくとも1種から成る成分(A)と、エポキシ基含有有機ケイ素化合物及び/またはその部分加水分解物からなる成分(B)と、を含んでなり、
前記金属酸化物微粒子及び前記有機ケイ素化合物の合計質量(ここで有機ケイ素化合物が部分加水分解可能な有機ケイ素化合物の部分加水分解物である場合には、該合計質量における有機ケイ素化合物の質量は前記部分加水分解可能な有機ケイ素化合物換算の質量とする)を基準質量としたときにおける、金属酸化物微粒子、成分(A)および成分(B)の合計質量は該基準質量の45質量%以上100質量%以下であり、
金属酸化物微粒子の量は該基準質量の20〜70質量%であり、成分(A)の量は該基準質量の10〜50質量%であり、成分(B)の量は該基準質量の15〜60質量%であるハードコート剤を使用する
ことを特徴とするフォトクロミック光学基材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007555911A JP5192826B2 (ja) | 2006-01-24 | 2007-01-19 | フォトクロミック光学基材 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006015056 | 2006-01-24 | ||
JP2006015056 | 2006-01-24 | ||
JP2006140647 | 2006-05-19 | ||
JP2006140647 | 2006-05-19 | ||
PCT/JP2007/050777 WO2007086320A1 (ja) | 2006-01-24 | 2007-01-19 | フォトクロミック光学基材 |
JP2007555911A JP5192826B2 (ja) | 2006-01-24 | 2007-01-19 | フォトクロミック光学基材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007086320A1 JPWO2007086320A1 (ja) | 2009-06-18 |
JP5192826B2 true JP5192826B2 (ja) | 2013-05-08 |
Family
ID=38309115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007555911A Active JP5192826B2 (ja) | 2006-01-24 | 2007-01-19 | フォトクロミック光学基材 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8557377B2 (ja) |
EP (1) | EP1978382A4 (ja) |
JP (1) | JP5192826B2 (ja) |
CN (1) | CN101375187B (ja) |
AU (1) | AU2007208876B2 (ja) |
WO (1) | WO2007086320A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5247673B2 (ja) * | 2007-02-22 | 2013-07-24 | 株式会社トクヤマ | コーティング組成物およびフォトクロミック光学品 |
US20110002127A1 (en) * | 2008-02-08 | 2011-01-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical element and manufacturing method therefor |
US20110183146A1 (en) * | 2008-06-16 | 2011-07-28 | Wendell Jr Jay Morell | Glass hardening methods and compositions |
CN102356133B (zh) * | 2009-04-20 | 2014-10-29 | 株式会社德山 | 涂层组合物 |
US9157331B2 (en) | 2011-12-08 | 2015-10-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Radial active clearance control for a gas turbine engine |
KR102570521B1 (ko) * | 2015-02-23 | 2023-08-24 | 프린트팩 일리노이 인코퍼레이티드 | 인쇄된 다층 중합체 필름 및 그 제조 방법과 그 사용 방법 |
CN105129225B (zh) * | 2015-07-17 | 2018-01-02 | 东莞市纳利光学材料有限公司 | 一种光致变色保护膜及制造方法 |
JP6267823B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2018-01-24 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
WO2019079665A1 (en) * | 2017-10-20 | 2019-04-25 | Qspex Technologies, Inc. | PHOTOCHROMIC ARTICLE AND METHODS OF MAKING |
KR102465624B1 (ko) * | 2017-11-07 | 2022-11-10 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광흡수성 조성물 및 광학 필터 |
JP7437121B2 (ja) * | 2019-06-28 | 2024-02-22 | パイロットインキ株式会社 | 光輝性可逆光変色性平糸及びそれを用いた製品 |
CN110815884B (zh) * | 2019-11-18 | 2020-12-15 | 许锦才 | 一种环保型布基胶带的生产方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06347605A (ja) * | 1993-06-04 | 1994-12-22 | Asahi Optical Co Ltd | コーティング組成物の製造方法 |
JPH07159923A (ja) * | 1993-12-06 | 1995-06-23 | Toray Ind Inc | 画像記録物品 |
JPH10168389A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-23 | Ito Kogaku Kogyo Kk | ハードコーティング組成物 |
JP2002265869A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Teijin Ltd | コーティング組成物、樹脂積層成型体及びその製造方法 |
WO2005087882A1 (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Tokuyama Corporation | コーティング剤組成物 |
JP2005309410A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-11-04 | Tokuyama Corp | フォトクロミック性光学物品及びその製造方法 |
Family Cites Families (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994014878A1 (en) * | 1992-12-28 | 1994-07-07 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Molding with hard-coating layer and process for producing the same |
JPH08157467A (ja) | 1994-12-02 | 1996-06-18 | Tokuyama Corp | クロメン化合物及びフォトクロミック材 |
JPH08176139A (ja) | 1994-12-20 | 1996-07-09 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JPH08295690A (ja) | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JPH09124645A (ja) | 1995-11-02 | 1997-05-13 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JPH09218301A (ja) | 1995-12-06 | 1997-08-19 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JPH09269402A (ja) * | 1996-04-02 | 1997-10-14 | Nikon Corp | ホトクロミックプラスチック光学物品 |
JPH1010301A (ja) * | 1996-04-12 | 1998-01-16 | Nikon Corp | フォトクロミックプラスチックレンズ及びその製造方法 |
US5914193A (en) * | 1996-04-12 | 1999-06-22 | Nikon Corporation | Photochromic plastic lens and its method of manufacture |
US6001163A (en) * | 1997-04-17 | 1999-12-14 | Sdc Coatings, Inc. | Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate |
JP3982770B2 (ja) | 1997-04-30 | 2007-09-26 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JPH11279171A (ja) | 1998-03-30 | 1999-10-12 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JPH11286484A (ja) | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JPH11322739A (ja) | 1998-05-14 | 1999-11-24 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP2000219678A (ja) | 1998-07-03 | 2000-08-08 | Sankyo Co Ltd | ベンゼン誘導体又はピリジン誘導体 |
FR2781889B1 (fr) * | 1998-07-31 | 2000-11-03 | Essilor Int | Lentille ophtalmique en verre organique comportant une couche de primaire anti-chocs a base de latex de polyurethanne et son procede de fabrication |
JP2000219686A (ja) | 1999-01-29 | 2000-08-08 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP4301621B2 (ja) | 1999-01-29 | 2009-07-22 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JP2000229973A (ja) | 1999-02-04 | 2000-08-22 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP2000229974A (ja) | 1999-02-04 | 2000-08-22 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP2000229975A (ja) | 1999-02-04 | 2000-08-22 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP2000229972A (ja) | 1999-02-04 | 2000-08-22 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP2000229976A (ja) | 1999-02-05 | 2000-08-22 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP2000256347A (ja) | 1999-03-12 | 2000-09-19 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP4157225B2 (ja) | 1999-05-24 | 2008-10-01 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JP4256985B2 (ja) | 1999-05-24 | 2009-04-22 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JP2000344761A (ja) | 1999-05-28 | 2000-12-12 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP4157227B2 (ja) | 1999-06-01 | 2008-10-01 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JP2001031670A (ja) | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP3801386B2 (ja) | 1999-06-03 | 2006-07-26 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JP2001011067A (ja) | 1999-07-01 | 2001-01-16 | Tokuyama Corp | クロメン化合物 |
JP4118458B2 (ja) | 1999-07-02 | 2008-07-16 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
JP4157239B2 (ja) | 1999-10-19 | 2008-10-01 | 株式会社トクヤマ | クロメン化合物 |
CA2455630A1 (en) | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Tokuyama Corporation | Curable composition, cured product thereof, photochromic optical material and production process therefor |
JP2003128713A (ja) | 2001-10-17 | 2003-05-08 | Tokuyama Corp | 硬化性組成物 |
US7452611B2 (en) * | 2001-12-27 | 2008-11-18 | Transitions Optical, Inc. | Photochromic optical article |
JP4456795B2 (ja) | 2002-05-28 | 2010-04-28 | 株式会社トクヤマ | 重合性組成物 |
AU2004218188B2 (en) | 2003-02-17 | 2008-02-14 | Tokuyama Corporation | Layered product, optical part, processes for producing these, and coating fluid |
ATE507968T1 (de) | 2003-03-10 | 2011-05-15 | Tokuyama Corp | Photochromer mehrschichtkörper und herstellungsverfahren dafür |
JP4456897B2 (ja) * | 2003-03-10 | 2010-04-28 | 株式会社トクヤマ | フォトクロミック積層体 |
JP4859335B2 (ja) | 2003-07-04 | 2012-01-25 | 株式会社トクヤマ | コーティング剤 |
AU2005223188B2 (en) * | 2004-03-24 | 2010-12-16 | Tokuyama Corporation | Photochromic optical article and method for producing same |
JP2006308844A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法 |
US7662433B2 (en) * | 2006-09-15 | 2010-02-16 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Abrasion and/or scratch resistant article comprising an impact resistant photochromic polyurethane coating, and process of preparation thereof |
-
2007
- 2007-01-19 EP EP07707065.4A patent/EP1978382A4/en not_active Withdrawn
- 2007-01-19 JP JP2007555911A patent/JP5192826B2/ja active Active
- 2007-01-19 CN CN2007800033056A patent/CN101375187B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-01-19 AU AU2007208876A patent/AU2007208876B2/en not_active Ceased
- 2007-01-19 US US12/223,116 patent/US8557377B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-01-19 WO PCT/JP2007/050777 patent/WO2007086320A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06347605A (ja) * | 1993-06-04 | 1994-12-22 | Asahi Optical Co Ltd | コーティング組成物の製造方法 |
JPH07159923A (ja) * | 1993-12-06 | 1995-06-23 | Toray Ind Inc | 画像記録物品 |
JPH10168389A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-23 | Ito Kogaku Kogyo Kk | ハードコーティング組成物 |
JP2002265869A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Teijin Ltd | コーティング組成物、樹脂積層成型体及びその製造方法 |
WO2005087882A1 (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Tokuyama Corporation | コーティング剤組成物 |
JP2005309410A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-11-04 | Tokuyama Corp | フォトクロミック性光学物品及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1978382A4 (en) | 2016-02-17 |
JPWO2007086320A1 (ja) | 2009-06-18 |
US8557377B2 (en) | 2013-10-15 |
WO2007086320A1 (ja) | 2007-08-02 |
CN101375187B (zh) | 2010-08-04 |
AU2007208876A1 (en) | 2007-08-02 |
CN101375187A (zh) | 2009-02-25 |
US20100233485A1 (en) | 2010-09-16 |
AU2007208876B2 (en) | 2010-07-15 |
EP1978382A1 (en) | 2008-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5192826B2 (ja) | フォトクロミック光学基材 | |
JP5247673B2 (ja) | コーティング組成物およびフォトクロミック光学品 | |
KR101639460B1 (ko) | 코팅 조성물, 이 조성물의 제조 방법 및 하드 코팅층을 갖는 적층체 | |
US20110317239A1 (en) | Coating composition and optical article | |
JP5686728B2 (ja) | コーティング組成物 | |
JP6480951B2 (ja) | コーティング組成物、及び該コーティング組成物よりなるコート層を有する光学物品 | |
JPH11310755A (ja) | コーティング用組成物及び積層体 | |
JP5414449B2 (ja) | コーティング組成物 | |
JP2008158513A (ja) | プラスチックレンズ | |
MX2007004121A (es) | Composiciones de recubrimiento y proceso para la produccion de las mismas. | |
CN111542575B (zh) | 涂覆组合物和具有硬涂膜的光学物品 | |
JP2805877B2 (ja) | コーティング用組成物 | |
JPH08311401A (ja) | コーティング用組成物およびその製造方法および積層体 | |
JP2006008869A (ja) | コーティング組成物及びその積層体 | |
WO2011055667A1 (ja) | コーティング組成物および光学物品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090513 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120403 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5192826 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160208 Year of fee payment: 3 |