JP5165572B2 - トリミング可能膜抵抗器および膜抵抗器を形成しトリミングする方法 - Google Patents
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Description
第1の端部と間隔を置いて配置された第2の端部との間を縦に延びる電気抵抗材料の抵抗膜であって、間隔を置いて配置された反対側の第1の側縁と第2の側縁の間に延びる間隔を置いて配置された反対側の第1および第2の主表面を有し、第1の端部と第2の端部との間の電流を収容するように適合された抵抗膜と、
第1の端部と第2の端部の中間に配置された抵抗膜の中間部分に隣接して抵抗膜に電気的に結合された低インピーダンス要素であって、中間部分の電流の電流密度を低減させて、その中間部分における膜抵抗器の抵抗のトリミングを容易にするために、抵抗膜の中間部分と平行に電流を伝導する低インピーダンス要素と、
を含む膜抵抗器が提供される。
第1の端部と間隔を置いて配置された第2の端部との間に延びる電気抵抗材料の抵抗膜を電気絶縁基板上に形成するステップであって、抵抗膜が、間隔を置いて配置された反対側の第1の側縁と第2の側縁の間に延びる間隔を置いて配置された反対側の第1および第2の主表面を有し、第1の端部と第2の端部との間の電流を収容するように適合されたステップと、
第1の端部と第2の端部の中間に配置された抵抗膜の中間部分に隣接して低インピーダンス要素を抵抗膜に電気的に結合するステップであって、低インピーダンス要素が、中間部分の電流の電流密度を低減させて、その中間部分における膜抵抗器の抵抗のトリミングを容易にするために、抵抗膜の中間部分と平行に電流を伝導するステップと、
抵抗膜の中間部分のトリミングスロットを次第に延ばすことによって膜抵抗器の抵抗をトリミングするステップと、
を含む方法を提供する。
3 基板
4 電気絶縁層
5 薄膜抵抗器
7 抵抗膜
8 抵抗膜の第1の端部
9 抵抗膜の第2の端部
10 第1の電気接触パッド
11 第2の電気接触パッド
14 抵抗膜の第1の主表面ないし上主表面
15 抵抗膜の第2の主表面ないし下主表面
16 抵抗膜の第1の側縁
17 抵抗膜の第2の側縁
20 低インピーダンス要素
21 低インピーダンス要素の第1の側縁
22 抵抗膜の中間部分
23 低インピーダンス要素の第2の側縁
24 抵抗膜の第1の部分
25 抵抗膜の第2の部分
26 第1の横断縁形成スロット
27 第2の横断縁形成スロット
28 第1の横断縁
29 第2の横断縁
30 第1のトリミング可能領域
31 第2のトリミング可能領域
32 電流密度線
33 低インピーダンス要素の端部
34 第1のトリミングスロット
35 第2のトリミングスロット
36 レーザ光ビームのトリミングスポット
37 高エネルギーセンタースポット
38 低エネルギーハロー
40 焦点合せ領域
Claims (23)
- 第1の端部と間隔を置いて配置された第2の端部との間を縦に延びる電気抵抗材料の抵抗膜であって、間隔を置いて配置された反対側の第1の側縁と第2の側縁の間に延びる間隔を置いて配置された反対側の第1および第2の主表面を有し、前記第1の端部と前記第2の端部との間の電流を収容するように適合された抵抗膜と、
前記第1の端部と前記第2の端部の中間に配置された前記抵抗膜の中間部分に隣接して前記抵抗膜に電気的に結合された低インピーダンス要素であって、前記中間部分の電流の電流密度を低減させて、その中間部分における膜抵抗器の抵抗のトリミングを容易にするために、前記抵抗膜の前記中間部分と平行に電流を伝導する低インピーダンス要素と、
を含み、
レーザ光トリミングビームの切削効果に対する前記低インピーダンス要素の抵抗性が前記抵抗膜よりも高い膜抵抗器。 - 前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の前記第1の端部と前記第2の端部との間の方向の前記中間部分の長さに沿って前記抵抗膜に電気的に結合された、請求項1に記載の膜抵抗器。
- 前記低インピーダンス要素が、前記中間部分に隣接して前記抵抗膜の前記第1の主表面の上にあり、前記低インピーダンス要素が上にある前記抵抗膜の領域の全体にわたって、前記抵抗膜に電気的に結合された、請求項1または2に記載の膜抵抗器。
- 前記低インピーダンス要素と前記第1の側縁との間の前記中間部分にトリミング可能部分を画定するために、前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の前記第2の側縁に隣接する位置であって前記抵抗膜の前記第1の側縁から間隔を置いた位置で前記抵抗膜に電気的に結合される、請求項1から3のいずれかに記載の膜抵抗器。
- 前記膜抵抗器の抵抗が、前記トリミング可能部分においてトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミング可能である、請求項4に記載の膜抵抗器。
- 前記中間部分において、概ね前記抵抗膜の前記第1の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に、第1の横断縁が延び、前記第1の横断縁が、前記第1の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第1のトリミング可能領域を画定し、前記膜抵抗器の抵抗が、前記第1のトリミング可能領域において第1のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミング可能である、請求項4または5に記載の膜抵抗器。
- 前記第1のトリミングスロットが、前記第1の横断縁から前記第1のトリミング可能領域の中へ延ばされた、請求項6に記載の膜抵抗器。
- 前記中間部分において、概ね前記抵抗膜の前記第1の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に、前記第1の横断縁から間隔を置いて配置された第2の横断縁が延び、前記第2の横断縁が、前記第1の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第2のトリミング可能領域を画定し、前記第2の横断縁が、前記第1の横断縁と前記抵抗膜の前記第2の端部との間に配置され、前記膜抵抗器の抵抗が、前記第2のトリミング可能領域において第2のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミング可能である、請求項6または7に記載の膜抵抗器。
- 前記第2のトリミングスロットが、前記第2の横断縁から前記第2のトリミング可能領域の中へ延ばされた、請求項8に記載の膜抵抗器。
- 前記膜抵抗器の抵抗を粗くトリミングするために、前記第1および第2のトリミングスロットのうちの一方が、前記第1および第2のトリミング可能領域のうちの対応する1つの領域の中へ延ばされ、前記膜抵抗器の抵抗を細かくトリミングするために、前記第1および第2のトリミングスロットのうちのもう一方が、前記第1および第2のトリミング可能領域のうちの対応する1つの領域の中へ延ばされた、請求項8または9に記載の膜抵抗器。
- 前記抵抗膜が、その前記第1の端部と前記第2の端部との間を縦に延びる細長い抵抗膜であり、前記低インピーダンス要素が、概ね前記抵抗膜と平行な方向に縦に延びる細長い低インピーダンス要素である、請求項1から10のいずれかに記載の膜抵抗器。
- 前記低インピーダンス要素のそれぞれの反対側の端部が、前記低インピーダンス要素の前記端部に隣接した電流クラウディングを最小化するように成形された、請求項1から11のいずれかに記載の膜抵抗器。
- 前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の電気抵抗よりも低い電気抵抗を有し、前記抵抗膜が薄膜抵抗器である、請求項1から12のいずれかに記載の膜抵抗器。
- 一対の低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の間隔を置いて配置された対応する中間部分に隣接して、前記抵抗膜に電気的に結合され、一方の前記低インピーダンス要素および対応する前記中間部分が、前記抵抗膜の前記第1および第2の端部のうちの一方の端部に隣接して配置され、もう一方の前記低インピーダンス要素および対応する1つの前記中間部分が、前記抵抗膜の前記第1および第2の端部のうちのもう一方の端部に隣接して配置された、請求項1から13のいずれかに記載の膜抵抗器。
- 前記それぞれの膜抵抗器の前記低インピーダンス要素によって直列に電気結合された請求項1から14のいずれかに記載の一対の膜抵抗器を含む複合膜抵抗器。
- 電気絶縁基板層と、前記基板層上に形成された請求項1から14のいずれかに記載の間隔を置いて配置された複数の膜抵抗器とを含み、前記抵抗膜の前記第2の主表面が前記基板層に接し、前記抵抗膜が互いに平行に延び、それぞれの抵抗膜の前記第1の側縁が、隣接する抵抗膜の前記第2の側縁に隣接し、かつ前記隣接する抵抗膜の前記第2の側縁から間隔を置いて配置された集積回路。
- 膜抵抗器を形成し、トリミングする方法であって、
第1の端部と間隔を置いて配置された第2の端部との間に延びる電気抵抗材料の抵抗膜を電気絶縁基板上に形成するステップであって、前記抵抗膜が、間隔を置いて配置された反対側の第1の側縁と第2の側縁の間に延びる間隔を置いて配置された反対側の第1および第2の主表面を有し、前記第1の端部と前記第2の端部との間の電流を収容するように適合されたステップと、
前記第1の端部と前記第2の端部の中間に配置された前記抵抗膜の中間部分に隣接して低インピーダンス要素を前記抵抗膜に電気的に結合するステップであって、前記低インピーダンス要素が、前記中間部分の電流の電流密度を低減させて、その中間部分における前記膜抵抗器の抵抗のトリミングを容易にするために、前記抵抗膜の前記中間部分と平行に電流を伝導するステップと、
前記抵抗膜の前記中間部分のトリミングスロットを次第に延ばすことによって前記膜抵抗器の抵抗をトリミングするステップと、
を含み、
レーザ光トリミングビームの切削効果に対する前記低インピーダンス要素の抵抗性が前記抵抗膜よりも高い方法。 - 前記低インピーダンス要素が、前記抵抗膜の前記第1の側縁から間隔を置いた位置で前記抵抗膜に電気的に結合され、前記中間部分の前記低インピーダンス要素と前記第1の側縁との間にトリミング可能部分を画定する、請求項17に記載の方法。
- 前記中間部分に、概ね前記抵抗膜の前記第1の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に延びる第1の横断縁が形成され、前記第1の横断縁が、前記第1の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第1のトリミング可能領域を画定し、前記第1のトリミング可能領域が、前記第1のトリミング可能領域において第1のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミングされる、請求項18に記載の方法。
- 前記第1のトリミングスロットが、前記第1の横断縁から前記第1のトリミング可能領域の中へ延ばされる、請求項19に記載の方法。
- 前記中間部分に、概ね前記抵抗膜の前記第1の側縁から前記低インピーダンス要素の方向に延びる、前記第1の横断縁から間隔を置いて配置された第2の横断縁が形成され、前記第2の横断縁が、前記第1の側縁および前記低インピーダンス要素とともに、前記トリミング可能部分の第2のトリミング可能領域を画定し、前記第2のトリミング可能領域が、前記第2のトリミング可能領域において第2のトリミングスロットを次第に延ばすことによってトリミングされる、請求項19または20に記載の方法。
- 前記第2のトリミングスロットが、前記第2の横断縁から前記第2のトリミング可能領域の中へ延ばされる、請求項21に記載の方法。
- 前記膜抵抗器の抵抗を粗くトリミングするために、前記第1および第2のトリミングスロットのうちの一方が、前記第1および第2のトリミング可能領域のうちの対応する1つの領域の中へ延ばされ、前記膜抵抗器の抵抗を細かくトリミングするために、前記第1および第2のトリミングスロットのうちのもう一方が、前記第1および第2のトリミング可能領域のうちの対応する1つの領域の中へ延ばされる、請求項21または22に記載の方法。
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