JP5130695B2 - 両面基板の製造方法及び多層基板の製造方法 - Google Patents
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Description
このため、微細な配線パターンの形成や、基板サイズの小型化が可能となり、高配線収容性と高密度実装性と有するプリント配線基板を得ることができるとされている。
また、導電性ペーストの圧縮度を向上したことで、初期抵抗値の低抵抗化により信頼性が確保されている。
(1)導電性フィラーと熱硬化性樹脂を主成分とした導電性ペーストが充填された導通孔を備えたBステージ状態のプリプレグシートの両面に金属箔を配置してなる積層体を加熱加圧する両面基板の製造方法であって、加熱加圧による硬化成形工程、圧力を下げて加熱する低圧下加熱工程、及び、温度を0〜0.5MPaに下げて冷却する低圧下冷却工程を、この順序で有し且つこれら3つの工程を1回の積層プレスサイクル内に備えることを特徴とする導通孔内蔵の両面基板の製造方法。
(4)冷却時の圧力を、接触圧(設備の最低圧力で保持した状態)〜1MPaとすることを特徴とする項(2)記載の多層基板の製造方法。
また、加熱中の圧力を低下させておく時間は、該硬化物の所定のガラス転位温度が確保できる最低限度の時間で調整することが好ましく、現行プレスサイクル内で、加熱時間から成形に必要な時間を引いた時間で実施しても効果を得ることができ、圧力低下による加熱時間を延長することで、効果を増大させることができる。低圧化時の圧力は、0〜0.5MPa以下で調整することが好ましく、無圧状態で加熱した場合の方が、より大きな効果を得ることができる。
基本の加熱温度条件は、該硬化物の現行の設定条件と同一でよく、所定のガラス転位温度が確保できる条件で調整することが好ましい。
また、Bステージ状態のプリプレグの軟化点温度付近で一定時間保持した後、昇温する工程を追加することによって製品の温度ばらつきや抵抗値を小さく安定させることができる。
エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブタジェン樹脂等の熱硬化性樹脂を基本として用いるが、これに制限するものではない。
実施例1
図2に示すように、ガラス布エポキシ製のプリプレグ1(日立化成工業(株)製、商品名GEA−679FG)厚さ50μmの上下両面に離型性フィルム2をラミネート貼り付けした後、レーザ穴明機により直径70μm(φ)で穴明を実施し、小径のIVH用貫通孔3を設けた。
図4に示すように実施例1の方法で得た両面基板の回路加工を実施して回路板6を作製した後、実施例1と同様の方法で得た導通孔付プリプレグ7を回路板の両面に位置合わせして設置し、その外側に金属箔5を配置した。図3に示すプレス設定条件で加熱加圧及び冷却して全層IVH付の4層の多層基板を得た。
図5に示すプレス設定条件以外は、実施例1と同じ方法で、両面基板を得た。
比較例2
比較例1と同様の方法で得た両面板を乾燥機で190℃30分の条件でアフターベーキングした。
さらに、他の品質や効率の面においても低下させることなく現行と同等である。よって、品質と生産効率に優れたIVH付の両面基板の製造方法及び多層基板の製造方法であることが確認できた。
2 離型性フィルム
3 IVH用貫通孔
4 導電性ペースト
5 金属箔
6 回路板
7 導通孔付プリプレグ
Claims (4)
- 導電性フィラーと熱硬化性樹脂を主成分とした導電性ペーストが充填された導通孔を備えたBステージ状態のプリプレグシートの両面に金属箔を配置してなる積層体を加熱加圧する両面基板の製造方法であって、
加熱加圧による硬化成形工程、圧力を0〜0.5MPaに下げて加熱する低圧下加熱工程、及び、温度を下げて冷却する低圧下冷却工程を、この順序で有し且つこれら3つの工程を1回の積層プレスサイクル内に備えることを特徴とする導通孔内蔵の両面基板の製造方法。 - 回路板の両面に、導電性フィラーと熱硬化性樹脂を主成分とした導電性ペーストが充填された導通孔を備えたプリプレグシートを位置決めして重ねた後、最外層に金属箔を配置した積層体を加熱加圧する多層基板の製造方法であって、
加熱加圧による硬化成形工程、圧力を0〜0.5MPaに下げて加熱する低圧下加熱工程、及び、温度を下げて冷却する低圧下冷却工程を、この順序で有し且つこれら3つの工程を1回の積層プレスサイクル内に備えることを特徴とする導通孔内蔵の多層基板の製造方法。 - 冷却時の圧力を、接触圧(設備の最低圧力で保持した状態)〜1MPaとすることを特徴とする請求項1記載の両面基板の製造方法。
- 冷却時の圧力を、接触圧(設備の最低圧力で保持した状態)〜1MPaとすることを特徴とする請求項2記載の多層基板の製造方法。
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