JP5126993B2 - 遷移金属錯体化合物、該化合物を含むオレフィン多量化用触媒および該触媒存在下で行うオレフィン多量体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、遷移金属錯体化合物、該化合物を含むオレフィン多量化用触媒および該触媒存在下で行うオレフィン多量体の製造方法に関する。

工業化されているオレフィンの多量化の大部分は有機アルミニウムや遷移金属化合物を触媒として実施され、特にエチレンの多量化ではα−オレフィン類の混合物が得られる。１−ヘキセンはα−オレフィン類の中でも、ポリオレフィン原料として需要が特に大きく、１−ヘキセン選択性の高い製造法が望まれているが、そのような選択的製造法として工業化されているのはクロム化合物を用いるエチレン三量化方法のみである（例えば、特許文献１参照）。この場合、１００バールのエチレン圧力条件下において１時間・１ミリモルのクロム原子当たり約８ｋｇの１−ヘキセンが得られるが、製造に関わる圧力や触媒の費用を低減させるためにはより低圧力で活性が高い方が好ましい。また、クロム化合物以外の遷移金属化合物を用いるエチレン三量化によって１−ヘキセンを製造する技術の例は非常に少ない(例えば、特許文献２、３、非特許文献１、２参照)。
米国特許第５８５６２５７号明細書 特表２００４−５２４９５９号公報 国際公開第０１／６８５７２号パンフレット Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ誌２００１年１２３巻７４２３−７４２４頁 Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌２００４年６８９巻３６４１−３６６８頁

本発明は前記従来技術の有する課題を鑑みてされたものであり、新規な遷移金属錯体化合物、および該化合物を含有する、優れた活性を有するオレフィン多量化用触媒を提供することと、該オレフィン多量化用触媒存在下で行うオレフィン多量体の製造方法を提供することを目的する。

本発明者らは上記問題点を解決するため鋭意検討した結果、特定の構造を有する遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒が優れた活性を有し、該触媒の存在下ではオレフィンの多量化反応が好適に行うことができ、特にオレフィンとしてエチレンを用いた場合には、エチレンの３量体である１−ヘキセンを高選択率で得ることができることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち本発明は、以下の［１］〜［１７］に関する。
［１］
［Ａ］下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。

Ｍは、周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示す。
ｎはＭの原子価を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。

Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＹとＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。

式中、ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ¹とを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。
また式中、点線表示は配位結合を示す。）
［２］
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹとＮとを結ぶ最短結合数が５または６である［１］に記載の遷移金属錯体化合物。

［３］
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹ、ＮおよびＺが一般式（ＩＩ）で表される構造を形成する［１］に記載の遷移金属錯体化合物。

（一般式（ＩＩ）中、Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合には、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。）
［４］
［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物のＭが周期表第４族の遷移金属原子であり、ｎが４である［１］〜［３］のいずれかに記載の遷移金属錯体化合物。

［５］
［Ａ］下記一般式（Ｉ’）で表される遷移金属錯体化合物。

（一般式（Ｉ’）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶およびＲ¹’は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。

Ｍは、周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示す。
ｎはＭの原子価を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。

Ｙ’は、窒素原子またはリン原子を示す。
Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、Ｙ’とＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。
また式中、点線表示は配位結合を示す。）
［６］
［Ａ］一般式（Ｉ’）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹ’とＮとを結ぶ最短結合数が５または６である［５］に記載の遷移金属錯体化合物。

［７］
［Ａ］一般式（Ｉ’）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹ’、ＮおよびＺが一般式（ＩＩ’）で表される構造を形成する［５］に記載の遷移金属錯体化合物。

（一般式（ＩＩ’）中、Ｙ’は、窒素原子またはリン原子を示す。
Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合には、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。）
［８］
［Ａ］一般式（Ｉ’）で表わされる遷移金属錯体化合物のＭが周期表第４族の遷移金属原子であり、ｎが４である［５］〜［７］のいずれかに記載の遷移金属錯体化合物。

［９］
［１］〜［８］のいずれかに記載の［Ａ］遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒。

［１０］
前記［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、
［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする［９］に記載のオレフィン多量化用触媒。

［１１］
前記［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、
［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物ならびに、
［Ｃ］［Ａ］および［Ｂ］からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を担持するための担体を含むことを特徴とする［９］に記載のオレフィン多量化用触媒。

［１２］
［９］〜［１１］のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。

［１３］
［９］〜［１１］のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、溶媒に炭素数５〜７の直鎖状飽和炭化水素を用いて、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。

［１４］
［９］〜［１１］のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒および水素の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。

［１５］
［９］〜［１１］のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒および帯電防止剤の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。

［１６］
前記オレフィンがエチレンである［１２］〜［１５］のいずれかに記載のオレフィン多量体の製造方法。

［１７］
前記オレフィンがエチレンであり、オレフィン多量体が1−ヘキセンである［１２］〜［１５］のいずれかに記載のオレフィン多量体の製造方法。

本発明により、特定の遷移金属錯体化合物および該化合物を含む、高い活性を有するオレフィン多量化用触媒を提供することができる。さらに、該オレフィン多量化用触媒を用いた、オレフィン多量体の製造方法を提供することができる。該製造方法により、エチレンの多量化反応を行うと、高い活性および選択性で１−ヘキセンを製造することができ、工業的に極めて価値がある。

化合物２の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物５の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物７の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物２２の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物３０の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物３１の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物３３の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物３４の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。 化合物３６の¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を示す図である。

以下、本発明の遷移金属錯体化合物、オレフィン多量化用触媒および、該オレフィン多量化用触媒を用いたオレフィン多量体の製造方法について具体的に説明する。
なお、本発明において、オレフィンの多量化とは、オレフィンを２〜１０量体にすることである。

本発明のオレフィン多量化用触媒は、後述する［Ａ］遷移金属錯体化合物を含んでいる。また、オレフィン多量化用触媒は通常、［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含んでいる。なお、（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物を「イオン化イオン性化合物」とも記す。

また、本発明のオレフィン多量化用触媒は、［Ｃ］［Ａ］および［Ｂ］からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を担持するための担体を含んでいてもよい。
［［Ａ］遷移金属錯体化合物］
本発明の［Ａ］遷移金属錯体化合物は二つの態様がある。第一の態様が下記一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物である。

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。

より具体的には、Ｒ¹〜Ｒ⁶が水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基 、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基、アルミニウム含有基またはヒドロキシ基であることが好ましい。

ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−ブロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基； ビニル、アリル(ａｌｌｙｌ)、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状また は分岐状のアルケニル基； エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基； シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基； シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数５〜３０の環状不飽和炭化水素基； フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール(ａｒｙｌ)基； トリル、イソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基; ベンジリデン、メチリデン、エチリデンなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは５〜１０のアルキリデン基などが挙げられる。

上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

また、上記炭化水素基は、水素原子が他の炭化水素基で置換されていてもよく、たとえばベンジル、クミル、ジフェニルエチル、トリチルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。

さらに、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基； アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基； アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基； ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基； メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基； ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を有していてもよい。

これらのうち、特に、メチル、エチル、ｎ−ブロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０、さらに好ましくは１〜１０、より好ましくは２〜１０の直鎖状または分岐状のアルキル基； フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基； これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基等が好ましい。

ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げ られる。

酸素含有基、窒素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
ホウ素含有基としては、上記炭化水素基に含まれていてもよい置換基として例示したものと同様のもののほか、アルキル基置換ホウ素、アリール基置換ホウ素、ハロゲン化ホウ素、アルキル基置換ハロゲン化ホウ素等の基が挙げられる。アルキル基置換ホウ素としては、（Ｅｔ）₂Ｂ−、（ｉＰｒ）₂Ｂ−、（ｉＢｕ）₂Ｂ−、（Ｅｔ）₃Ｂ、（ｉＰｒ）₃Ｂ、（ｉＢｕ）₃Ｂ； アリール基置換ホウ素としては、（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ｂ−、（Ｃ₆Ｈ₅）₃Ｂ、（Ｃ₆Ｆ₅）₃Ｂ、（３，５−（ＣＦ₃）₂Ｃ₆Ｈ₃）₃Ｂ； ハロゲン化ホウ素としては、ＢＣｌ₂−、ＢＣｌ₃； アルキル基置換ハロゲン化ホウ素としては、（Ｅｔ）ＢＣｌ−、（ｉＢｕ）ＢＣｌ−、（Ｃ₆Ｈ₅）₂ＢＣｌなどが挙げられる。このうち三置換のホウ素については、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。

アルミニウム含有基としては、アルキル基置換アルミニウム、アリール基置換アルミニウム、ハロゲン化アルミニウム、アルキル基置換ハロゲン化アルミニウム等の基が挙げられる。アルキル基置換アルミニウムとしては、（Ｅｔ）₂Ａｌ−、（ｉＰｒ）₂Ａｌ−、（ｉＢｕ）₂Ａｌ−、（Ｅｔ）₃Ａｌ、（ｉＰｒ）₃Ａｌ、（ｉＢｕ）₃Ａｌ； アリール基置換アルミニウムとしては、（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ａｌ−； ハロゲン化アルミニウムとしては、ＡｌＣｌ₂−、ＡｌＣｌ₃； アルキル基置換ハロゲン化アルミニウムとしては、（Ｅｔ）ＡｌＣｌ−、（ｉＢｕ）ＡｌＣｌ−などが挙げられる。このうち三置換のアルミニウムについては、配位結合した状態であることがある。ここで、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｉＢｕはイソブチル基を表す。

ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基などが挙げられる。このうち炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリルなどが挙げられる。
これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。

ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
窒素含有基のうち、アミド基としては、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示される。

イオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオ等が、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオ等が、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、Ｎ−メチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミドなどが好ましく挙げられる。

Ｒ¹〜Ｒ⁶は、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。

また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。Ｒ¹がＺと連結する場合には、Ｒ¹とＺとの連結によって、芳香環、脂肪環、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成してもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。

Ｒ¹としてはメチル基、エチル基、イソプロピル基が好ましく、とくにメチル基が好ましい。
Ｒ²としてはフェニル基、α−クミル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−アダマンチル基が好ましく、とくに１−アダマンチル基が好ましい。

Ｒ⁴としてはメチル基、シクロヘキシル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−アダマンチル基が好ましく、とくにメチル基が好ましい。
前記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示し、ｎはＭの原子価を示す。Ｍとしては、イットリウム、スカンジウム、ランタン、サマリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、タンタル、クロム、コバルト、鉄、ニッケル、銅が好ましく挙げられる。Ｍとしては、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の周期律表第４族の遷移金属原子であることがより好ましく、チタンが特に好ましい。ｎとしてはイットリウム、スカンジウム、ランタンに対しては３、サマリウムに対しては２、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の周期律表第４族の遷移金属原子に対しては４、バナジウムおよびタンタルに対しては３〜５、クロムに対しては３、コバルト、鉄、ニッケル、銅に対しては２が特に好ましい。

前記一般式（Ｉ）において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示す。なお、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。

ここで、ハロゲン原子としては通常、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。
炭化水素基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。

具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基； シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基； ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基； ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基； フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜３０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲン置換した基も含まれる。これらのうち、炭素原子数が１〜２０のものが好ましい。

また、ヘテロ環式化合物残基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。
酸素含有基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、ヒドロキシ基； メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコシキ基； フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基； フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基； アセトキシ基； カルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

イオウ含有基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基； メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基； アルキルチオ基； アリールチオ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

窒素含有基として具体的には、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、アミノ基； メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基； フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

ホウ素含有基として具体的にはテトラフェニルボレート以外のＢＲ₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられる。
リン含有基として具体的には、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン基； トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン基； メチルホスファイト、エチルホスファイト、フェニルホスファイトなどのホスファイト基(ホスフィド基)； ホスホン酸基； ホスフィン酸基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

ケイ素含有基として具体的には、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどの炭化水素置換シリル基； トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルエーテル基； トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基； トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。

ゲルマニウム含有基として具体的には、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基が挙げられる。

スズ含有基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられ、より具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。
ハロゲン含有基として具体的には、ＰＦ₆、ＢＦ₄などのフッ素含有基、ＣｌＯ₄、ＳｂＣｌ₆などの塩素含有基、ＩＯ₄などのヨウ素含有基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

アルミニウム含有基として具体的には、ＡｌＲ₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子等を示す)が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

これらの中では、Ｘはハロゲン原子、アルキル基が好ましく、さらには塩素、臭素、メチル基が好ましい。
前記一般式（Ｉ）中、Ｙは酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を表し、エーテル構造、ケトン構造、アミン構造、イミン構造等を構成する原子である。

前記一般式（Ｉ）中、Ｚは置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＹとＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。
ＹとＮとを結ぶ最短結合数が４〜６であることにより、［Ａ］遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒は、エチレンの多量化反応を行った場合には、１−ヘキセンを高い選択性で製造することができる。なお、ＹとＮとを結ぶ最短結合数が５または６であることが、１−ヘキセンをより高い選択性で製造することができるため好ましい。

ＹとＮとを結ぶ最短結合数が３以下である場合、ＮとＹとの間に充分な距離が保てず、例えばＷＯ／０１／４４３２４号パンフレット、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ誌２００４年２３巻１６８４-１６８８頁、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ誌２００６年２５巻３２５９-３２６６頁に記載の化合物のように、エチレン重合触媒すなわち、オレフィンのポリマー化触媒となり、１−ヘキセン等のオレフィン多量体を好適に得ることが難しい。

また、ＹとＮとを結ぶ最短結合数が７以上である場合、Ｙが金属原子Ｍに配位することができず、例えば、Ｙの存在しないＤａｌｔｏｎ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎ誌２００５年５６１-５７１頁に記載の化合物のようにエチレン重合触媒すなわち、オレフィンのポリマー化触媒となり、１−ヘキセン等のオレフィン多量体を好適に得ることが難しい。

なお、ＹとＮとを結ぶ最短結合数とは、下記（Ａ）、（Ｂ）のようにして数えることができ、（Ａ）の場合には４であり、（Ｂ）の場合には５である。

Ｚは、Ｎと前記Ｙとを結ぶ基であり、Ｙ、ＮおよびＺが一般式（ＩＩ）で表わされる構造を形成することが好ましい。

一般式（ＩＩ）中、Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
またＲ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合には、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。

Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰の具体例としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。
Ｙ、ＮおよびＺが形成する構造の具体例としては下記（Ｃ）〜（Ｈ）に示す構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、下記（Ｃ）〜（Ｈ）の構造の中で水素原子がＲ¹〜Ｒ⁶で例示した置換基によって置換されていてもよい。但し、下記（Ｃ）〜（Ｈ）に示す構造には、Ｒ¹がＺと連結している構造が含まれている。

なお、下記具体例において、炭素・炭素二重結合に接合する波線は、シス体またはトランス体を意味する。

前記一般式（Ｉ）中、ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ¹とを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。また一般式（Ｉ）中、点線表示は配位結合を示す。

本発明の［Ａ］遷移金属錯体化合物の、第二の態様は下記一般式（Ｉ’）で表わされる遷移金属錯体化合物である。

上記一般式（Ｉ’）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶およびＲ¹’は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。一般式（Ｉ’）のＲ¹〜Ｒ⁶およびＲ¹’の具体例としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。

上記一般式（Ｉ’）中、Ｍは周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示し、ｎはＭの原子価を示す。一般式（Ｉ’）のＭおよびｎの具体例としては、前記一般式（Ｉ）のＭおよびｎで例示したものと同様のものが挙げられる。

上記一般式（Ｉ’）中、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。一般式（Ｉ’）のＸの具体例としては、前記一般式（Ｉ）のＸで例示したものと同様のものが挙げられる。

上記一般式（Ｉ’）中、Ｙ’は、窒素原子またはリン原子を示す。
上記一般式（Ｉ’）中、Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、Ｙ’とＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。

Ｙ’とＮとを結ぶ最短結合数が４〜６であることにより、［Ａ］遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒は、エチレンの多量化反応を行った場合には、１−ヘキセンを高い選択性で製造することができる。なお、Ｙ’とＮとを結ぶ最短結合数が５または６であることが、１−ヘキセンをより高い選択性で製造することができるため好ましい。

Ｙ’、ＮおよびＺが形成する構造の具体例としては下記（Ｉ）〜（Ｋ）に示す構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、下記（Ｉ）〜（Ｋ）の構造の中で水素原子が前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示した置換基によって置換されていてもよい。但し、下記（Ｉ）〜（Ｋ）に示す構造には、Ｒ¹がＺと連結している構造が含まれている。

なお、下記具体例において、炭素・炭素二重結合に接合する波線は、シス体またはトランス体を意味する。

また一般式（Ｉ’）中、点線表示は配位結合を示す。
本発明の［Ａ］前記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物、および前記一般式（Ｉ’）で表される遷移金属錯体化合物の合成は、例えばＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ誌２００３年６７８巻１３４〜１４１頁に記載の方法に準拠して行うことができる。

上記文献に記載の方法で得られた反応生成物は反応後、精製操作を行うことなく混合物のままオレフィン多量化用触媒として用いることもできるが、再結晶などの精製操作により精製してから用いることが好ましい。

なお、本発明において、［Ａ］遷移金属錯体化合物と記す場合には、前記一般式（Ｉ
）で表される遷移金属錯体化合物、および前記一般式（Ｉ’）で表される遷移金属錯体
化合物を含む。

本発明のオレフィン多量化用触媒は通常上記［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含んでおり、［Ｃ］［Ａ］および［Ｂ］からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を担持するための担体を含んでいてもよい。

以下、（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物について説明する。

［（ｂ−１）有機金属化合物］
本発明で必要に応じて用いられる（ｂ−１）有機金属化合物として、具体的には下記のような周期律表第１、２族および第１２、１３族の有機金属化合物を挙げることができ、例えば以下に説明する（ｂ−１ａ）、（ｂ−１ｂ）、（ｂ−１ｃ）等が挙げられる。なお、本発明においては、（ｂ−１）有機金属化合物には後述する（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は含まれないものとする。

（ｂ−１ａ）一般式Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_nＨ_pＸ_q（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である）で表される有機アルミニウム化合物。

（ｂ−１ｂ）一般式Ｍ²ＡｌＲ^a ₄（式中、Ｍ²はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す）で表される周期律表第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物。

（ｂ−１ｃ）一般式Ｒ^aＲ^bＭ³（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｍ³はＭｇ、ＺｎまたはＣｄである）で表される周期律表第２族または１２族金属のジアルキル化合物。

前記の（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物を例示できる。一般式Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_3-m（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは、好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式Ｒ^a _mＡｌＸ_3-m（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜３である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式Ｒ^a _mＡｌＨ_3-m（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは２≦ｍ＜３である）で表される有機アルミニウム化合物、一般式Ｒ^a _mＡｌ（ＯＲ^b）_nＸ_q（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である）で表される有機アルミニウム化合物。

（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として、より具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ（ｎ−ブチル）アルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリ（ｎ−アルキル）アルミニウム； トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ（ｓｅｃ−ブチル）アルミニウム、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）アルミニウム、トリ（２−メチルブチル）アルミニウム、トリ（３−メチルブチル）アルミニウム、トリ（２−メチルペンチル）アルミニウム、トリ（３−メチルペンチル）アルミニウム、トリ（４−メチルペンチル）アルミニウム、トリ（２−メチルヘキシル）アルミニウム、トリ（３−メチルヘキシル）アルミニウム、トリ（２−エチルヘキシル）アルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム； トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム； トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム； ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド； （ｉＣ₄Ｈ₉）_xＡｌ_y（Ｃ₅Ｈ₁₀）_z（式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。ｉＣ₄Ｈ₉はイソブチル基を表す。）などで表されるイソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム； イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド； ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド； エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド； Ｒ^a _2.5Ａｌ（ＯＲ^b）_0.5（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよい炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す。）などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム； ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、エチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジイソブチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）などのジアルキルアルミニウムアリーロキシド； ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム； ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド； エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム； エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチル アルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどが挙げられる。

また（ｂ−１ａ）に類似する化合物も使用することができ、たとえば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物も挙げられる。このような化合物として、具体的には、（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＡｌＮ（Ｃ₂Ｈ₅）Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₂などが挙げられる。

前記（ｂ−１ｂ）に属する化合物としては、ＬｉＡｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₄、ＬｉＡｌ（Ｃ₇Ｈ₁₅）₄などが挙げられる。
また、前記（ｂ−１ｃ）に属する化合物としては、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウム等が挙げられる。

上記（ｂ−１ａ）〜（ｂ−１ｃ）以外の（ｂ−１）有機金属化合物としては、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリドなどを使用することもできる。

また多量化反応系内で上記有機アルミニウム化合物が形成されるような化合物、たとえばハロゲン化アルミニウムとアルキルリチウムとの組合せ、またはハロゲン化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組合せなどを使用することもできる。

（ｂ−１）有機金属化合物のなかでは、有機アルミニウム化合物が好ましい。上記のような（ｂ−１）有機金属化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
［（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物］
本発明で必要に応じて用いられる（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は、従来公知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。

従来公知のアルミノキサンは、たとえば下記のような方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。（１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する塩類、たとえば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化合物とを反応させる方法。（２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸気を作用させる方法。（３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなどの有機スズ酸化物を反応させる方法。

なお該アルミノキサンは、少量の有機金属成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミノキサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。

アルミノキサンを調製する際に用いられる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物が挙げられる。

これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。
上記のような有機アルミニウム化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

アルミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または上記芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が挙げられる。さらに、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましい。

また本発明で用いられるベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であるもの、すなわちベンゼンに対して不溶性または難溶性であるものが好ましい。

本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物の例としては、下記一般式（ｉ）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物も挙げられる。

式中、Ｒ¹¹は炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。Ｒ¹²は、互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。
前記一般式（ｉ）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（ｉｉ）で表されるアルキルボロン酸と、有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間反応させることにより製造できる。

Ｒ¹¹−Ｂ（ＯＨ）₂ （ｉｉ）
(式中、Ｒ¹¹は上記と同じ基を示す)
前記一般式（ｉｉ）で表されるアルキルボロン酸の具体的なものとしては、メチルボロン酸、エチルボロン酸、イソプロピルボロン酸、ｎ−ブロピルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、ｎ−ヘキシルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸、３，５−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸等が挙げられる。これらの中では、メチルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸が好ましい。

これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
このようなアルキルボロン酸と反応させる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物が挙げられる。これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

上記のような（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
［（ｂ−３）イオン化イオン性化合物］
本発明で必要に応じて用いられる、（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物は、［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物である。従って、少なくとも［Ａ］遷移金属錯体化合物と接触させてイオン対を形成するものは、この化合物に含まれる。

このような化合物としては、特開平１−５０１９５０号公報、特開平１−５０２０３６号公報、特開平３−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公報、特開平３−２０７７０３号公報、特開平３−２０７７０４号公報、米国特許５３２１１０６号などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などが挙げられる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物もあげることができる。

具体的には、ルイス酸としては、ＢＲ₃（Ｒは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素である）で示される化合物が挙げられ、たとえば、トリフルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス（４−フルオロフェニル）ボロン、トリス(３，５−ジフルオロフェニル)ボロン、トリス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。

イオン性化合物としては、たとえば下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げら
れる。

式中、Ｒ¹³⁺としては、Ｈ⁺、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどが挙げられる。

Ｒ¹⁴〜Ｒ¹⁷は、互いに同一でも異なっていてもよい有機基、好ましくはアリール基または置換アリール基である。
前記カルボニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンなどが挙げられる。

前記アンモニウムカチオンとして具体的には、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリ(ｎ−プロピル)アンモニウムカチオン、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウム カチオン； Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン； ジ（イソプロピル）アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。

前記ホスホニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホニウムカチオンなどが挙げられる。

Ｒ¹³⁺としては、カルボニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましく、特にトリフェニルカルボニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。

またイオン性化合物として、トリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム塩なども挙げられる。

トリアルキル置換アンモニウム塩として具体的には、たとえばトリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(ｎ−プロピル)アンモニウムテトラフェニルボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラフェニルボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(ｐ−トリル)ボレート、トリメチルアンモニウムテトラ(ｏ−トリル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル )アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ｎ−プロピル)アンモニウムテトラ(ｏ，ｐ−ジメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(ｍ，ｍ−ジメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(ｐ−トリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(３，５−ジトリフルオロメチルフェニル)ボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムテトラ(ｏ−トリル)ボレートなどが挙げられる。

Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩として具体的には、たとえばＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラフェニルボレートなどが挙げられる。

ジアルキルアンモニウム塩として具体的には、たとえばジ(ｎ−プロピル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラフェニルボレートなどが挙げられる。

さらにイオン性化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェロセニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルカルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムペンタ フェニルシクロペンタジエニル錯体、下記式（ＩＶ）または（Ｖ）で表されるホウ素化合物なども挙げられる。

(式中、Ｅｔはエチル基を示す。)

ボラン化合物として具体的には、たとえばデカボラン（１４）； ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ノナボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕デカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレートなどのアニオンの塩； トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ドデカハイドライドドデカボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ドデカハイドライドドデカボレート)ニッケル酸塩（ＩＩＩ）などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられる。

カルボラン化合物として具体的には、たとえば、４−カルバノナボラン（１４）、１，３−ジカルバノナボラン（１３）、６，９−ジカルバデカボラン（１４）、ドデカハイドライド−１−フェニル−１，３−ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド−１−メチル−１，３−ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド−１，３−ジメチル−１，３−ジカルバノナボラン、７，８−ジカルバウンデカボラン（１３）、２，７−ジカルバウンデカボラン （１３）、ウンデカハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボラン、ドデカハイドライド−１１−メチル−２，７−ジカルバウンデカボラン、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１カルバデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１−カルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１−カルバドデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム１−トリメチルシリル−１−カルバデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムブロモ−１−カルバドデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム６−カルバデカボレート（１４）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム６−カルバデカボレート（１２）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム７カルバウンデカボレート（１３）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム７，８−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム２，９−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムドデカハイドライド−８−メチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−８−エチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−８−ブチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−８−アリル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−９−トリメチルシリル−７，８−ジカルバウンデカボレート、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド−４，６−ジブロモ−７−カルバウンデカボレートなどのアニオンの塩； トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド−１，３−ジカルバノナボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル )アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)ニッケル酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)銅酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)金酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート)鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート)クロム酸塩（ＩＩＩ）、トリ(ｎ−ブチル)アンモニウムビス(トリブロモオクタハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)クロム酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート)マンガン酸塩（ＩＶ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート)コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ(ｎ−ブチル)アンモニウム〕ビス(ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート)ニッケル酸塩（ＩＶ）などの金属カルボランアニオンの塩などが挙げられる。

ヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタン、ゲルマニウム、ヒ素もしくは錫からなる原子と、バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンから選ばれる１種または２種以上の原子からなっている。具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリコノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モリブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノモリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドニオブ酸、これらの酸の塩、例えば周期律表第１族または２族の金属、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等との塩、およびトリフェニルエチル塩等の有機塩、およびイソポリ化合物を使用できるが、この限りではない。

ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物としては、上記の化合物の中の１種に限らず、２種以上用いることができる。
上記のような （ｂ−３）イオン化イオン性化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

本発明のオレフィン多量化用触媒を用いれば高い活性でオレフィン多量体が得られ、特にオレフィンとしてエチレンを用いた場合には、１−ヘキセンの選択性が高い。
例えば助触媒成分としてメチルアルミノキサンなどの有機アルミニウムオキシ化合物（ｂ−２）を併用すると、エチレンに対して非常に高い三量化活性を示し、１−ヘキセンを製造することができる。また助触媒成分としてトリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのイオン化イオン性化合物（ｂ−３）を用いても、良好な活性かつ非常に高い選択率でエチレンから１−ヘキセンが得られる。

また、本発明に係るオレフィン多量化用触媒は、［Ａ］遷移金属錯体化合物を含み、必要に応じて［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物、および（ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含み、さらに必要に応じて後述するような［Ｃ］担体を含んでいてもよい。

［［Ｃ］担体］
本発明で必要に応じて用いられる［Ｃ］担体は、無機または有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の固体である。なお、本発明において、[Ｃ]担体とは、前記［Ａ］および／または［Ｂ］を担持するための担体である。このうち無機化合物としては、多孔質酸化物、無機ハロゲン化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物が好ましい。

多孔質酸化物として、具体的にはＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ、ＴｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ₂など、またはこれらを含む複合物または混合物を使用、例えば天然または合成ゼオライト、ＳｉＯ₂−ＭｇＯ、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂−Ｖ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−ＭｇＯなどを使用することができる。これらのうち、ＳｉＯ₂および／またはＡｌ₂Ｏ₃を主成分とするものが好ましい。

なお、上記無機酸化物は、少量のＮａ₂ＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＭｇＣＯ₃、Ｎａ₂ＳＯ₄、Ａｌ₂（ＳＯ₄）₃、ＢａＳＯ₄、ＫＮＯ₃、Ｍｇ（ＮＯ₃）₂、Ａｌ（ＮＯ₃）₃、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏなどの炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支えない。

このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる担体は、粒径が０．５〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍであって 、比表面積が５０〜１０００ｍ²／ｇ、好ましくは１００〜７００ｍ²／ｇの範囲にあり、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ³／ｇの範囲にあることが望ましい。このような担体は、必要に応じて１００〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成して使用される。

無機ハロゲン化物としては、ＭｇＣｌ₂、ＭｇＢｒ₂、ＭｎＣｌ₂、ＭｎＢｒ₂等が用いられる。無機ハロゲン化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコールなどの溶媒に無機ハロゲン化物を溶解させた後、析出剤によって微粒子状に析出させたものを用いることもできる。

本発明で担体として用いられる粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、本発明で担体として用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン結合などによって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。

また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ₂型、ＣｄＩ₂型などの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物などを例示することができる。

このような粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイトなどが挙げられ、イオン交換性層状化合物としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、α−Ｚｒ（ＫＰＯ₄）₂・３Ｈ₂Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ₄）₂、α−Ｔｉ（ＨＡｓＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ₄）₂、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ₄）₂、γ−Ｔｉ（ＮＨ₄ＰＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏなどの多価金属の 結晶性酸性塩などが挙げられる。

このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径２０オングストローム以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上のものが好ましく、０．３〜５ｃｃ／ｇのものが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径２０〜３×１０⁴オングストロームの範囲について測定される。半径２０オングストローム以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇより小さいものを担体として用いた場合には、高い多量化活性が得られにくい傾向がある。

本発明で用いられる粘土、粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理など、何れも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇなどの陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層間距離を変えることができる。

本発明で用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、ＴｉＣｌ₄、ＺｒＣｌ₄などの陽イオン性無機化合物、Ｔｉ（ＯＲ）₄、Ｚｒ（ＯＲ）₄、ＰＯ（ＯＲ）₃、Ｂ（ＯＲ）₃などの金属アルコキシド(Ｒは炭化水素基など)、［Ａｌ₁₃Ｏ₄（ＯＨ）₂₄］⁷⁺、［Ｚｒ₄（ＯＨ）₁₄］²⁺、［Ｆｅ₃Ｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₆］⁺などの金属水酸化物イオンなどが挙げられる。

これらの化合物は単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
また、これらの化合物をインターカレーションする際に、Ｓｉ（ＯＲ）₄、Ａｌ（ＯＲ）₃、Ｇｅ（ＯＲ）₄などの金属アルコキシド(Ｒは炭化水素基など)などを加水分解して得た二量化物、ＳｉＯ₂などのコロイド状無機化合物などを共存させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水することにより生成する酸化物などが挙げられる。

本発明で用いられる粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分けなどの処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらのうち、好ましいものは粘土または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロナイト、バーミキュライト、ヘクトライト、テニオライトおよび合成雲母である。
有機化合物としては、粒径が１０〜３００μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテンなどの炭素原子数が２〜１４のα−オレフィンを主成分として生成される(共)二量化体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分として生成される(共)二量化体、およびそれらの変成体を例示することができる。

本発明に係るオレフィン多量化用触媒は、前記［Ａ］遷移金属錯体化合物を含み、必要に応じて前記［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および、（ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含み、必要に応じて担体［Ｃ］をさらに含むが、さらに必要に応じて後述するような［Ｄ］有機化合物成分を含むこともできる。

［［Ｄ］有機化合物成分］
本発明において、［Ｄ］有機化合物成分は、必要に応じて、多量化性能を向上させる目的で使用される。このような有機化合物としては、アルコール類 、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物およびスルホン酸塩等が挙げられるが、これに限られるものではない。

アルコール類およびフェノール性化合物としては、通常、Ｒ¹⁸−ＯＨで表されるものが使用され（ここで、Ｒ¹⁸は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０の ハロゲン化炭化水素基を示す）、アルコール類としては、Ｒ¹⁸がハロゲン化炭化水素のものが好ましい。

また、フェノール性化合物としては、水酸基のα,α’−位が炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたものが好ましい。
カルボン酸としては、通常、Ｒ¹⁹−ＣＯＯＨで表されるものが使用される。Ｒ¹⁹は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示し、特に炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基が好ましい。

リン化合物としては、Ｐ−Ｏ−Ｈ結合を有するリン酸類、Ｐ−ＯＲ、Ｐ＝Ｏ結合を有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ましく使用される。
スルホン酸塩としては、下記一般式（ＶＩ）で表されるものが使用される。

式（ＶＩ）中、Ｍ⁴は周期律表第１〜１４族の原子である。Ｒ²⁰は水素、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。ｍは1〜７の整数であり、ｎはＭの価数であり、１≦ｎ≦７である。

本発明のオレフィン多量化用触媒は、オレフィンの多量化に用いることができる。オレフィンとしてはエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキセン、スチレン、１−オクテン、１−デセンなどのビニル化合物、２−ブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、ノルボルネンなどの内部オレフィンが好ましく挙げられ、特にエチレンが好ましい。上記記載の複数のオレフィンを共多量化させてもよい。

以下、前記オレフィン多量化用触媒の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法について説明する。
［オレフィン多量体の製造方法］
オレフィン多量体の製造方法について説明する。

本発明に係るオレフィン多量体の製造方法は、前記オレフィン多量化用触媒の存在下でオレフィンの多量化反応、好ましくは三量化反応を行う。
好ましくはオレフィンとしてエチレンを用いたエチレンの多量化反応であり、特に好ましくはエチレンの三量化反応により１−ヘキセンを製造する方法である。

多量化の際、上記［Ａ］遷移金属錯体化合物（以下単に「成分［Ａ］」という）を反応器に添加する方法、各成分の使用法、添加方法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。

（１）成分［Ａ］のみを反応器に添加する方法。
（２）成分［Ａ］と、（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の成分［Ｂ］(以下単に「成分［Ｂ］」という)とを任意の順序で反応器に添加する方法。

（３）成分［Ａ］と成分［Ｂ］とを予め接触させた触媒を反応器に添加する方法。
（４）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（５）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分のみを反応器に添加する方法。
（６）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。

（７）成分［Ａ］と成分［Ｂ］とを担体［Ｃ］に担持した触媒を反応器に添加する方法。
（８）成分［Ａ］と成分［Ｂ］とを担体［Ｃ］に担持した触媒成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（９）成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１０）成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分、成分［Ａ］、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（１１）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した成分を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１２）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、成分［Ｂ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（１３）成分［Ａ］および有機化合物成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１４）成分［Ａ］、成分［Ｂ］、および成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。

（１５）成分［Ｂ］と成分［Ｄ］をあらかじめ接触させた成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１６）成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。

（１７）成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ａ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（１８）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｄ］を任意の順序 で反応器に添加する方法。

（１９）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｂ］、成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（２０）成分［Ａ］と成分［Ｂ］を予め接触させた触媒成分、および成分［Ｂ］と成分［Ｄ］をあらかじめ接触させた成分を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（２１）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、成分［Ｂ］および、成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。
（２２）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分と成分［Ｄ］を任意の順序で反応器に添加する方法。

（２３）成分［Ａ］を担体［Ｃ］に担持した成分、および成分［Ｂ］と成分［Ｄ］をあらかじめ接触させた成分を任意の順序で反応器に添加する方法。
（２４）成分［Ａ］と［Ｄ］を予め接触させた触媒を反応器に添加する方法。

（２５）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を予め任意の順序で接触させた触媒を反応器に添加する方法。
（２６）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を予め任意の順序で接触させた触媒成分および、成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

（２７）成分［Ａ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した触媒を反応器に添加する方法。
（２８）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した触媒を反応器に添加する方法。

（２９）成分［Ａ］と成分［Ｂ］と成分［Ｄ］を担体［Ｃ］に担持した触媒成分および、成分［Ｂ］を任意の順序で反応器に添加する方法。この場合、成分［Ｂ］は、同一でも異なっていてもよい。

本発明に係るオレフィン多量体の製造方法では、上記のようなオレフィン多量化用触媒の存在下に、オレフィンを多量化することによりオレフィン多量体を得る。本発明では、多量化は溶解反応、懸濁反応などの液相反応法または気相反応法のいずれにおいても実施できる。

液相反応法においては、不活性炭化水素媒体を用いるが、用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素； シクロペンタン、シクロへキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素； ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラリンなどの芳香族炭化水素； エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができる。反応溶媒としては特にペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタンが好ましい。

上記のようなオレフィン多量化用触媒を用いて、エチレンの３量化により１−ヘキセンの製造を行う場合には、成分［Ａ］は、反応容積１リットル当り、通常１０^-12〜１０^-2モル、好ましくは１０^-10〜１０^-3モルとなるような量で用いられる。本発明では、成分［Ａ］を、比較的薄い濃度で用いた場合であっても、高い多量化活性でオレフィン多量体を得ることができる。

また、成分［Ｂ］を用いる場合、成分（ｂ−１）は、成分（ｂ−１）と、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（ｂ−１）／Ｍ〕が、通常０．０１〜１０００００、好ましくは０．０５〜５００００となるような量で用いられる。

成分（ｂ−２）は、成分（ｂ−２）中のアルミニウム原子と、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（ｂ−２）／Ｍ〕が、通常１０〜５０００００、好ましくは２０〜１０００００となるような量で用いられる。

成分（ｂ−３）は、成分（ｂ−３）と、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（ｂ−３）／Ｍ〕が、通常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いられる。
成分［Ｃ］は、成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）のモル当たりに対する成分［Ｃ］の質量（ｇ）の比(ｇ/ｍｏｌ)が通常１００〜１００００、好ましくは１０００〜５０００となるような量で用いられる。

成分［Ｄ］は、成分［Ｂ］に対して、成分（ｂ−１）の場合、モル比〔（Ｄ）／（ｂ−１）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で、成分（ｂ−２）の場合、成分［Ｄ］と成分（ｂ−２）中のアルミニウム原子とのモル比〔（Ｄ）／（ｂ−２）〕が通常０．００１〜２、好ましくは０．００５〜１となるような量で、成分（ｂ−３）の場合、モル比〔（Ｄ）／（ｂ−３）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で用いられる。

このようなオレフィン多量化用触媒を用いたオレフィン多量化の反応温度は、通常、−５０〜２００℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。反応圧力は、通常、常圧〜１０ＭＰａ、好ましくは常圧〜５ＭＰａの条件であり、多量化反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。

このようなオレフィン多量化用触媒を用いたオレフィン多量化の反応は帯電防止剤を添加して行っても良い。帯電防止剤としてはポリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコールジステアレート、エチレンジアミン−ＰＥＧ−ＰＰＧ−ブロックコポリマー、ステアリルジエタノールアミン、ラウリルジエタノールアミン、アルキルジエタノールアミド、ポリオキシアルキレン（例えばポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール・ポリエチレングリコールブロック共重合体（ＰＥＧ−ＰＰＧ−ＰＥＧ））などが好ましく、特にポリオキシアルキレン（ＰＥＧ−ＰＰＧ−ＰＥＧ）が好ましい。これらの帯電防止剤は成分［Ａ］中の遷移金属原子（Ｍ）のモル当たりに対する質量（ｇ）の比(ｇ/ｍｏｌ)が通常１００〜１００００、好ましくは１００〜１０００となるような量で用いられる。

このようなオレフィン多量化用触媒を用いたオレフィン多量化の反応は水素を添加して行っても良い。反応の水素の圧力は０．０１ＭＰａ〜５ＭＰａ、好ましくは０．０１ＭＰａ〜１ＭＰａの条件である。

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお、反応生成物の収量および１−ヘキセンの選択率は、ガスクロマトグラフィー（島津ＧＣ−１４Ａ、Ｊ＆Ｗ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ＤＢ−５カラム）を用いて分析した。

［触媒活性］
単位時間当たりに得られた反応生成物の質量を、多量化に使用した遷移金属触媒成分中の遷移金属原子量（ミリモル）で除して求めた。

［１−ヘキセンの選択率］
以下の式に従い１−ヘキセンの選択率を求めた。
Ｓ（％）＝Ｗｐ／Ｗｒ×１００
Ｓ（％）：１−ヘキセンの選択率（重量分率）
Ｗｒ（重量）：反応により生成した炭素原子数が４以上からなる生成物の合計重量
Ｗｐ（重量）：反応により生成した１−ヘキセンの重量
以下に本発明の［Ａ］遷移金属化合物の具体的な合成例を示すとともに、エチレン多量化の具体的な実施例および比較例を示す。

［実施例１］
（化合物１の合成）

充分に乾燥した１００ｍLナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に３−ｍｅｔｈｏｘｙｐｒｏｐａｎ−１−ａｍｉｎｅを０．６２ｍL（６．０ｍｍｏｌ）、２−ｈｙｄｒｏｘｙ−３−(２−ｐｈｅｎｙｌｐｒｏｐａｎ−２−ｙｌ)ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを１．２０ｇ（５．０ｍｍｏｌ）加えエタノール２０ｍＬに溶解させ室温で６時間反応させた。この反応液から溶媒を減圧下で留去することにより化合物１を１．６３ｇ（収率 １００％、オレンジ色オイル）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 13.63 (s, 1H, OH), 8.29 (s, 1H, N=CH), 7.49 (d, J = 1.6 Hz, 1H, Ar-H), 7.46-7.12 (m, 6H, Ar-H), 6.88 (t, J = 7.9, 7.6 Hz, 1H, Ar-H), 3.56 (t, J = 5.9 Hz, 2H, CH₂), 3.38 (t, J = 6.2, 5.9 Hz, 2H, CH₂), 3.29 (s, 3H, CH₃), 1.92-1.82 (m, 2H, CH₂) 1.74 (s, 6H, C(CH₃)₂).
（化合物２の合成）

充分に乾燥した５０ｍＬ二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に化合物１を３１１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加えジエチルエーテル１０ｍＬに溶解させた。この混合液を−７８℃まで冷却した後に、ｎ−ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ／Ｌのヘキサン溶液０．６３ｍＬ(１．０ｍｍｏｌ)を滴下し、徐々に室温まで上昇させつつ１時間反応させた。この反応液にトリメチルシリルクロライドを０．５ｍＬ（４．０ｍｍｏｌ）加え室温で１５時間反応させた後グラスフィルターでろ過し、溶媒を留去することにより黄色オイルを得た。このオイルをジクロロメタン５ｍLに溶解させ、充分に乾燥した５０ｍＬ二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌し入り）に四塩化チタンの１．０ｍｏｌ／Ｌジクロロメタン溶液を１．０ｍＬ（１．０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン１０ｍLを加えたものに−７８℃にて滴下した。この反応液を徐々に室温まで昇温させつつ４時間反応させた後、約５ｍＬまで濃縮し、ペンテン２０ｍＬを加えることにより固体を析出させた。この固体をろ取し、ペンテンで洗浄することにより化合物２を２９２ｍｇ（収率 ６３％、オレンジ色固体）を得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.06 (s, 1H, N=CH), 7.58 (d, J = 7.9 Hz, 1H, Ar-H), 7.32-7.06 (m, 7H, Ar-H), 4.35 (t, J = 5.6, 5.3 Hz, 2H, CH₂), 4.13 (s, 3H, CH₃), 3.91 (bs, 2H, CH₂), 2.20 (bs, 2H, CH₂) 1.79 (s, 6H, C(CH₃)₂).
FD-MS: m/z = 463 (M⁺ C₂₀H₂₄Cl₃NO₂Ti)
［実施例２］
（化合物３の合成）

充分に乾燥した２００ｍＬ二口ナスフラスコ（コンデンサー、三方コック付、磁気攪拌子入り）に２−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを３．４４ｇ（２０ｍｍｏｌ）、２−ｂｒｏｍｏｂｅｎｚｅｎａｍｉｎｅを３．１９ｇ（２１ｍｍｏｌ）、塩化パラジウムを０．３５５ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィンを１．０５ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３０ｍｍｏｌ）加え、トルエン５０ｍLに縣濁させ、１００℃で９．５時間反応させた。この反応液に水５０ｍＬを加え、トルエンで抽出後、有機層をＭｇＳＯ₄で乾燥させ濃縮し６．３ｇの粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(溶離液；ヘキサン／酢酸エチル＝３／１)を用いて精製することにより化合物３を１．７６ｇ（収率 ４４％、黄色固体）を得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 7.38-6.98 (m, 6H, Ar-H), 6.85-6.75 (m, 2H, Ar-H), 3.80 (s, 3H, CH₃), 3.67 (br, 2H, NH₂).
（化合物４の合成）

充分に乾燥した１００ｍＬナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に化合物３を５９８ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）、２−ｈｙｄｒｏｘｙ−３−（２−ｐｈｅｎｙｌｐｒｏｐａｎ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを７２１ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）加えエタノール１５ｍＬに溶解させ室温で１８時間反応させた。反応液から溶媒を減圧下で留去した後に、メタノールから再結晶し、続いてヘキサンから再結晶することにより化合物４を２４０ｍｇ（収率 １９％、黄色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 13.21 (s, 1H, OH), 8.44 (s, 1H, N=CH), 7.50-6.58 (m, 16H, Ar-H), 3.32 (s, 3H, CH₃), 1.51 (s, 6H, C(CH₃)₂).
（化合物５の合成）

充分に乾燥した５０ｍＬ二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に化合物４を２４０ｍｇ（０．５７ｍｍｏｌ）を加えジエチルエーテル５ｍＬに溶解させた。この混合液を−７８℃まで冷却した後に、ｎ−ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ／Ｌのヘキサン溶液０．３６ｍＬ(０．５７ｍｍｏｌ)を滴下し徐々に室温まで上昇させつつ１時間反応させた。この反応液にトリメチルシリルクロライドを０．５ｍＬ（４．０ｍｍｏｌ）加え室温で２時間反応させた後グラスフィルターでろ過し溶媒を留去することにより黄色オイルを得た。このオイルをジクロロメタン５ｍＬに溶解させ、充分に乾燥した５０ｍＬ二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に四塩化チタンの１．０ｍｏｌ／Ｌジクロロメタン溶液を０．５７ｍＬ（０．５７ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５ｍＬを加えたものに−７８℃にて滴下した。この反応液を徐々に室温まで昇温させつつ８時間反応させた後、約２ｍＬまで濃縮し、ペンタン２０ｍＬを加えることにより固体を析出させた。この固体をろ取し、ペンタンで洗浄することにより化合物５を５８ｍｇ（収率 １８％、オレンジ色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図２に示す。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 7.95 (s, 1H, N=CH), 7.67 (d, J = 7.6 Hz, 1H, Ar-H), 7.42-6.98 (m, 15H, Ar-H), 4.10 (s, 3H, CH₃), 1.87 (s, 3H, C(CH₃)₂) 1.70 (s, 3H, C(CH₃)₂).
FD-MS: m/z = 523 (M⁺ - CH₃Cl C₂₈H₂₃Cl₂NO₂Ti)
［実施例３］
（化合物６の合成）

充分に乾燥した１００ｍＬナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に化合物３を８７７ｍｇ（４．４ｍｍｏｌ）、２−ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ−３−（２−ｐｈｅｎｙｌｐｒｏｐａｎ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを１．０２ｇ（４．０ｍｍｏｌ）加えエタノール２０ｍＬに溶解させ酢酸を二滴加え、室温で１８時間反応させた。反応液から溶媒を減圧下で留去した後に、メタノールから再結晶し、続いてヘキサンから再結晶することにより化合物６を１．２９ｇ（収率 ７４％、黄色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 12.92 (s, 1H, OH), 8.38 (s, 1H, N=CH), 7.38-7.07 (m, 12H, Ar-H), 6.98 (s, 1H, Ar-H), 6.89 (t, J = 7.6, 7.2 Hz, 1H, Ar-H), 6.58 (d, J = 8.2 Hz, 1H, Ar-H) 3.31 (s, 3H, OCH₃), 2.32 (s, 3H, CH₃), 1.65 (s, 6H, C(CH₃)₂)
（化合物７の合成）

充分に乾燥した５０ｍL二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に化合物６を４３６ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加えジエチルエーテル１０ｍLに溶解させた。この混合液を−７８℃まで冷却した後に、n−ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ/Lのヘキサン溶液０．６３ｍL(１．０ｍｍｏｌ)を滴下し徐々に室温まで上昇させつつ１．５時間反応させた。この反応液にトリメチルシリルクロライドを０．５ｍL（４．０ｍｍｏｌ）加え室温で１２時間反応させた後グラスフィルターでろ過し溶媒を留去することにより黄色オイルを得た。このオイルをジクロロメタン５ｍLに溶解させ、充分に乾燥した５０ｍL二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に四塩化チタンの１．０ｍｏｌ/Lジクロロメタン溶液を１．０ｍL（１．０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５ｍLを加えたものに、−７８℃にて滴下した。この反応液を徐々に室温まで昇温させつつ８時間反応させた後、ヘキサン２０ｍLを加えることにより固体を析出させた。この固体をろ取し、ヘキサンで洗浄することにより化合物７の異性体混合物を２４５ｍｇ（収率 ４２％、オレンジ色固体）を得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図３に示す。
¹H NMR (δ, CDCl₃): (最も多い異性体について示す) 7.90 (s, 1H, N=CH), 7.47-6.99 (m, 15H, Ar-H), 4.09 (s, 3H, OCH₃), 2.31 (s, 3H, CH₃), 1.85 (s, 3H, C(CH₃)₂) 1.67 (s, 3H, C(CH₃)₂)
FD-MS: m/z = 537 (M⁺- CH₃Cl C₂₉H₂₅Cl₃NO₂Ti)
［実施例４］
（化合物8の合成）

充分に乾燥した１００ｍＬナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に化合物３を２．２３ｇ（１１．３ｍｍｏｌ）、２−ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌ−３−（１−ａｄａｍａｎｔｙｌ）ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを３．０６ｇ（１１．３ｍｍｏｌ）加えトルエン５０ｍＬに溶解させパラトルエンスルホン酸を１０ｍｇ加え、１１０℃で１７時間反応させた。反応液から溶媒を減圧下で留去した後に、エタノールから再結晶することにより化合物８を２．８７ｇ（収率５６％、黄色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 13.02 (s, 1H, OH), 8.48 (s, 1H, N=CH), 7.45-6.85 (m, 8H, Ar-H), 3.75 (s, 3H, OCH₃), 2.25 (s, 3H, CH₃), 2.11 (s, 6H, CH₂), 2.10 (s, 3H, CH), 1.78 (s, 6H, CH₂)
（化合物9の合成）

充分に乾燥し窒素置換した１００ｍL二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）にトルエン５０ｍＬを加え、さらに四塩化チタントルエン溶液（１．０Ｍ）を６．２ｍＬを加えた。この溶液を−７８℃まで冷却した後に、化合物８を２．８０ｇ（６．２０ｍｍｏｌ）含むトルエン溶液２５ｍＬを２０分間かけて滴下した。この反応液を徐々に室温まで昇温させつつ１２時間反応させた。反応後に析出した固体をろ取し、ジエチルエーテル５ｍＬで洗浄し、減圧乾燥することにより化合物９を３．０８ｇ（収率８２％、赤褐色固体）得た。得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H-NMR（δ、CDCl₃）：8.11 (s, 3H), 7.58-7.04 (m, 10H), 4.44 (s, 3H), 2.34 (s, 3H), 2.22 (bs, 6H), 2.18 (bs, 3H), 1.81 (d, 3H, 12 Hz), 1.93 (d, 3H, 12 Hz).
FD-MS: m/z = 604 (M⁺ C₃₁H₃₂Cl₃NO₂Ti)
［実施例５］
（化合物１０の合成）

乾燥させた５０ｍＬナスフラスコ（三方コック付き、磁気攪拌子入り）に2-(8-Methoxy-naphthalen-1-yl)-phenylamineを０．６２３ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、2-Hydroxy-5-methyl-3-(1-methyl-1-phenyl-ethyl)-benzaldehyde０．７３６ｇ（２．７５ｍｍｏｌ）、エタノール１２．５ｍＬ、酢酸（１滴）を加え、６０℃で４時間反応させた後、減圧下溶媒を一部留去した。上澄みを取り除き、得られた沈殿物をメタノールで洗浄し、０．５０ｇ（１．０３ｍｍｏｌ、収率 ４１％）の化合物１０を得た。得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.47 ppm (s, 3H), 1.49 ppm (s, 3H), 2.24 ppm (s, 3H), 3.29 ppm (s, 3H), 6.54- 7.72 ppm (m, 17H), 8.30 ppm (s, 1H), 12.17 ppm (s, 1H)
（化合物１１の合成）

グローブボックス中で５０ｍＬナスフラスコＡ（三方コック付き、磁気攪拌子入り）にTiCl₄(thf)₂０．３３ｇ（１．００ｍｍｏｌ）を装入した。ナスフラスコＡをグローブボックスから取り出し、脱水ＴＨＦ４ｍＬを装入した後、ナスフラスコＡをドライアイス／メタノール浴を用いて−７８℃に冷却した。別の３０ｍＬナスフラスコＢ（三方コック付き、磁気攪拌子入り）に化合物１０を０．５０ｇ（１．００ｍｍｏｌ）装入し、ナスフラスコＢを窒素置換した後、脱水ＴＨＦ２ｍＬを装入し、化合物１０を溶解させた。化合物１０のＴＨＦ溶液をキャニュラーを用いてナスフラスコＡに−７８℃で滴下した。滴下後、ドライアイス／メタノール浴を取り除き、反応液を室温までゆっくり昇温した。室温で１２時間反応させた後、減圧下、溶媒を一部留去した。反応液に脱水ペンタン２０ｍＬを装入し、窒素下で反応液をろ過した。得られた固体を脱水ヘキサンで洗浄し、減圧下乾燥させ、０．６２８ｇの化合物１１を得た。得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。

FD-MS： m/z = 637 (M⁺, C₃₄H₃₀NO₂Cl₃Ti)
［実施例６］
（化合物１２の合成）

乾燥させた５０ｍＬナスフラスコ（三方コック付き、磁気攪拌子入り）に8-(2-Methoxy-phenyl)-naphthalen-1-ylamineを０．６２３ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、2-Hydroxy-5-methyl-3-(1-methyl-1-phenyl-ethyl)-benzaldehyde０．６３６ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、エタノール８ｍＬ、酢酸（１滴）を加え、６０℃で５時間反応させた後、室温で１２時間反応させた。得られた黄色沈殿をろ別した。黄色固体をエタノールで洗浄した後、減圧乾燥して１．１０ｇ（２．３３ｍｍｏｌ、収率 ９３％）の化合物１２を得た。得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.65 ppm (s, 3H), 1.74 ppm (s, 3H), 2.33 ppm (s, 3H), 3.40 ppm (s, 3H), 6.20-7.85 ppm (m, 17H), 8.03 ppm (s, 1H), 11.49 ppm (s, 1H)
（化合物１３の合成）

グローブボックス中で５０ｍＬナスフラスコＡ（三方コック付き、磁気攪拌子入り）にTiCl₄(thf)₂０．５８４ｇ（１．７５ｍｍｏｌ）を装入した。ナスフラスコＡをグローブボックスから取り出し、脱水ＴＨＦ５ｍＬを装入した後、ナスフラスコＡをドライアイス／メタノール浴を用いて−７８℃に冷却した。別の３０ｍＬナスフラスコＢ（三方コック付き、磁気攪拌子入り）に化合物１２を０．８２２ｇ（１．７５ｍｍｏｌ）装入し、ナスフラスコＢを窒素置換した後、脱水ＴＨＦ２ｍＬを装入し、化合物１２を溶解させた。化合物１２のＴＨＦ溶液をキャニュラーを用いてナスフラスコＡに−７８℃で滴下した。滴下後、ドライアイス／メタノール浴を取り除き、反応液を室温までゆっくり昇温した。室温で１２時間反応させた後、減圧下、溶媒を一部留去した。反応液に脱水ペンタン１０ｍＬを装入し、窒素下で反応液をろ過した。得られた固体を脱水ヘキサンで洗浄し、減圧下乾燥させ、１．４０ｍｍｏｌ（収率 ８０％）の化合物１３を得た。得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.74 ppm (s, 3H), 2.00 ppm (s, 3H), 2.27 ppm (s, 3H), 3.87 ppm (s, 3H), 5.28 ppm (d, 1H), 6.50-7.91 ppm (m, 17H)
FD-MS： m/z = 637 (M⁺, C₃₄H₃₀NO₂Cl₃Ti)
［実施例７〜３１］
実施例１〜６と同様の操作によって化合物１４〜３８の合成を行った。分析結果を示す。

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.16 (s, 1H, N=CH), 7.64 (dd, J = 7.91, 1.65 Hz, 1H, Ar-H), 7.52-7.14 (m, 9H, Ar-H), 7.07 (t, J = 7.91, 7.91 Hz, 1H, Ar-H ), 4.39 (s, 3H, OCH₃), 1.54 (s, 9H, C(CH₃)₃)
FD-MS: m/z = 513 (M⁺), 461 (M⁺- CH₃Cl ) C₂₄H₂₄Cl₃NO₂Ti

FD-MS: m/z = 651 (M⁺ C₃₅H₃₀Cl₃NO₂Ti)

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.19 (1H), 7.59-7.19 (9H), 6.81(1H, 2Hz), 4.44 (3H), 3.81 (3H), 1.56 (9H)．

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.18 (s, 1H, N=CH), 7.80-7.15 (m, 10H, Ar-H), 4.41 (s, 3H, OCH₃), 1.53 (s, 9H, C(CH₃)₃), 1.28 (s, 9H, C(CH₃)₃)

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.48 ppm (s, 9H), 2.40 ppm (s, 3H), 4.36 ppm (s, 3H), 6.98-7.60 ppm (m, 10H), 8.09 ppm (s, 1H).
FD-MS： m/z = 525 (M⁺, C₂₅H₂₆NO₂Cl₃Ti)

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.54 ppm (br, 9H), 2.43 ppm (br, 6H), 4.28 ppm (br, 3H), 6.96-7.61 ppm (m, 9H), 7.96 ppm (br, 1H)
FD-MS： m/z = 539 (M⁺, C₂₆H₂₈NO₂Cl₃Ti)

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：0.76 ppm (br, 3H), 1.46 ppm (br, 12H), 6.06 ppm (br, 1H), 6.95-7.66 ppm (m, 11H), 8.05 ppm (br, 1H)
FD-MS： m/z = 461

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.37 (bs, 1H, N=CH), 7.53-6.91 (m, 13H, Ar-H), 3.65 (bs, 3H, OCH₃), 2.36 (s, 3H, Ar-CH₃), 1.78 (s, 6H, C(CH₃)₂), 1.26 (s, 9H, C(CH₃)₃), 1.25 (s, 9H, C(CH₃)₃).
FD-MS: m/z = 699 (M⁺ C₃₈H₄₄Cl₃NO₂Ti)

室温、ＣＤＣｌ₃溶媒にて分析した¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図４に示す。
FD-MS： m/z = 525 (M⁺, C₂₅H₂₆NO₂Cl₃Ti)

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.49 ppm (s, 9H), 2.29 ppm (s, 3H), 2.30 ppm (s, 3H), 4.39 ppm (s, 3H), 6.87-7.60 ppm (m, 9H), 8.10 ppm (s, 1H)
FD-MS： m/z = 539 (M⁺, C₂₆H₂₈NO₂Cl₃Ti)

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.04 (s, 1H, N=CH), 7.43-6.86 (m, 13H, Ar-H), 4.16 (s, 3H, OCH₃), 2.53 (s, 3H, Ar-CH₃), 2.33 (s, 3H, Ar-CH₃), 2.29 (s, 3H, Ar-CH₃), 1.91 (s, 3H, C(CH₃)₂), 1.74 (s, 3H, C(CH₃)₂).
FD-MS: m/z = 615 (M⁺ C₃₂H₃₂Cl₃NO₂Ti)

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.20 (s, 1H), 7.65-7.04 (m, 10H) 4.43 (s, 3H), 2.30-2.00 (m, 18H). 2.00-1.53 (m, 12H).

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.17 (s, 1H), 7.57-7.09 (s, 10H), 4.43 (s, 3H), 2.53-2.40 (m, 1H), 2.21-2.15 (m, 9H), 1.97-1.65 (m, 10H), 1.48-1.21 (m, 5H).

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.18 (s, 1H, N=CH), 7.62(d, J=2.3Hz, 1H, Ar-H), 7.49-7.26 (m, 8H, Ar-H), 7.15-7.11 (m, 1H, Ar-H), 4.42 (s, 3H, OCH₃), 2.22-2.16 (m, 9H, Ad-H), 1.95-1.91 (m, 3H, Ad-H), 1.81-1.77 (m, 3H, Ad-H), 1.28 (s, 9H, C(CH₃)₃)

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.46 ppm (s, 9H), 2.27 ppm (s, 3H), 4.29 ppm (s, 3H), 6.97-7.59 ppm (m, 10H), 8.08 ppm (s, 1H)
FD-MS： m/z = 525 (M⁺, C₂₅H₂₆NO₂Cl₃Ti)

¹H NMR (δ, CDCl₃): 8.16 (s, 1H, N=CH), 7.72-7.03 (m, 21H, Ar-H), 4.31 (s, 3H, CH₃), 1.32 (s, 9H, C(CH₃)₃).
FD-MS: m/z = 585 (M⁺-C₇H₈Cl C₂₉H₂₆Cl₂NO₂SiTi)

室温、ＣＤＣｌ₃溶媒にて分析した¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図５に示す。

室温、ＣＤＣｌ₃溶媒にて分析した¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図６に示す。

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：4.34 ppm (br, 3H), 6.94-7.70 ppm (m, 16H), 8.17 ppm (br, 1H)FD-MS： m/z = 481

室温、ＣＤＣｌ₃溶媒にて分析した¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図７に示す。

室温、ＣＤＣｌ₃溶媒にて分析した¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図８に示す。

¹H-NMR（δ、CDCl₃）：1.31 ppm (s, 9H), 1.46 ppm (s, 9H), 4.34 ppm (br, 3H), 6.97-7.58 ppm (m, 10H), 8.09 ppm (br, 1H)
FD-MS： m/z = 567 (M⁺, C₂₈H₃₂NO₂Cl₃Ti)

室温、ＣＤＣｌ₃溶媒にて分析した¹Ｈ ＮＭＲスペクトルの測定結果を図９に示す。

［実施例３２］
（化合物３９の合成）

充分に乾燥した1００ｍL三口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に2,2'-ジニトロビフェニルを１２．２ｇ（５０ｍｍｏｌ）、５ｗｔ％Ｐｄ／Ｃを０．６１ｇ加え、エタノール７５ｍＬに縣濁させ水素雰囲気下、室温で４４．５時間反応させた。この反応液セライトろ過した後に、溶媒を減圧下で留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ (溶離液；ヘキサン/酢酸エチル＝６／１)を用いて精製することにより化合物３９を６．９５ｇ（収率 ７５％、白色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (CDCl₃): 7.43-7.03 (m, 4H, Ar-H), 6.82-6.71 (m, 4H, Ar-H), 3.51 (br, 4H, NH₂).
（化合物４０の合成）

２００ｍLナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に炭酸ナトリウム２．２２ｇ、水３０ｍＬ、ジオキサン４０ｍＬ、化合物３９を３．６９ｇ（２０ｍｍｏｌ）、を加え氷浴にて０℃まで冷却した後、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４．３７g（２０ｍｍｏｌ）を滴下した後、そのまま室温まで昇温させつつ６時間反応させた。この反応液さらに二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル２．１８g（１０ｍｍｏｌ）を滴下した後室温で２４時間反応させた。この反応液に純水１００ｍＬを加えた後、トルエン１００ｍＬ×１、５０ｍＬ×２で抽出し、有機相をＭｇＳＯ₄で乾燥させ、溶媒を減圧下で留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ (溶離液；ヘキサン/酢酸エチル＝６／１)を用いて精製することにより化合物４０を３．０７ｇ（収率 ５０％、白色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (CDCl₃): 7.99 (d, J = 6.8 Hz, 1H), 7.27-6.81 (m, 7H, Ar-H), 6.54 (s, 1H, NH), 3.58 (br, 2H, NH₂), 1.37 (s, 9H, C(CH₃)₃).
（化合物４１の合成）

２００ｍLナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に炭酸ナトリウム２．２２ｇ、水３０ｍＬ、ジオキサン４０ｍＬ、化合物４０を２．８４ｇ（１０ｍｍｏｌ）加え氷浴にて０℃まで冷却した後、ジメチル硫酸２．７８g（２２mmol）を滴下した後、そのまま室温まで昇温させつつ２４時間反応させた。この反応液にさらにジメチル硫酸１．２６g（１０mmol）を滴下した後室温で８．５時間反応させた。この反応液に純水１００ｍＬを加えた後、トルエン１００ｍＬ×１、５０ｍＬ×２で抽出し、有機相をＭｇＳＯ₄で乾燥させ、溶媒を減圧下で留去した。続いてジクロロメタン１００ｍＬに溶かし、トリフルオロ酢酸１０ｍＬを加え、室温で２０時間反応させた。この反応液に飽和ＮａＨＣＯ₃水１００ｍＬを加え、有機相を抽出し、続いて純水で有機相を洗浄後、有機相をＭｇＳＯ₄で乾燥させ、溶媒を減圧下で留去することにより粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ (溶離液；ヘキサン/酢酸エチル＝１９／１)を用いて精製することにより化合物４１を０．３３８ｇ（収率１２％、白色固体）を得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 7.33-7.00 (m, 6H, Ar-H), 6.87-6.74 (m, 2H, Ar-H), 4.17 (br, 2H, NH₂), 2.62 (s, 6H, CH₃).
（化合物４２の合成）

充分に乾燥した１００ｍLナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）に化合物４１を０．２２３ｇ（５．２５ｍｍｏｌ）、２‐ｈｙｄｒｏｘｙ‐５‐ｍｅｔｈｙｌ‐３‐ａｄａｍａｎｔｙｌｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅを０．２５４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）加えエタノール５ｍＬに溶解させたのち酢酸を1滴加え、室温で１６時間反応させた。この反応液から溶媒を減圧下で留去した後、エタノールから再結晶することにより化合物４２を０．３８０ｇ（収率 ８５％、黄色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
¹H NMR (δ, CDCl₃): 12.77 (s, 1H, OH), 8.24 (s, 1H, N=CH), 7.36-7.03 (m, 12H, Ar-H), 6.90- 6.85 (m, 2H, Ar-H), 6.94 (d, 1H, Ar-H), 2.30 (s, 3H, CH₃),2.20 (s, 6H, CH₃), 1.64 (s, 6H, C(CH₃)₂).
（化合物４３の合成）

充分に乾燥した１００ｍLナスフラスコ（三方コック、磁気攪拌子入り）にＴｉＣｌ₄（ｔｈｆ）₂を０．２３４ｇ（０．７ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ５ｍＬを加え−７８℃にドライアイス−メタノールバスにて冷却した。この混合液に化合物４２を０．３１４ｇ（０．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２．５ｍＬに溶かし滴下した後、室温まで昇温させつつ１３時間反応させた。反応後、析出物をろ取し、ペンタン２０ｍＬで洗浄後、乾燥させることにより、化合物４３を０．３２１ｇ（収率 ７６％、オレンジ色固体）得た。

得られた生成物を分析した結果は以下のとおりであった。
FD-MS: m/z = 602 (M⁺ C₃₁H₃₁Cl₃N₂OTi)
［実施例３３］
（化合物４４の合成）

充分に乾燥した５０ｍＬ二口ナスフラスコ（三方コック付、磁気攪拌子入り）に化合物１を３１１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）加えジエチルエーテル１０ｍＬに溶解させた。この混合液を−７８℃まで冷却した後に、ｎ−ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ／Ｌのヘキサン溶液０．６３ｍＬ(１．０ｍｍｏｌ)を滴下し、徐々に室温まで上昇させつつ１時間反応させた。この反応液に三塩化クロムの１．０ｍｏｌ／Ｌテトラヒドロフラン溶液を１．０ｍＬ（１．０ｍｍｏｌ）、−７８℃にて滴下した。この反応液を徐々に室温まで昇温させつつ４時間反応させた後、約５ｍＬまで濃縮し、ペンテン２０ｍＬを加えることにより固体を析出させた。この固体をろ取し、ペンテンで洗浄することにより化合物４４を３０２ｍｇ（収率 ６４％、褐色固体）得た。

［実施例３４］
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ、１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物２(１ｍＭトルエン溶液)を０．００１ｍｍｏｌ加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−２８℃で３０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は３５％であった。その他の生成物として微量の１−オクテンとデセン類が検出され、ポリエチレンの選択率は６５％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は０．０８ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例３５〜６４］
化合物２に代えて化合物５、７、９、１１、１３〜３８を用いた以外は、実施例３４と同様にして反応を行った。結果を表１に記す。

［実施例６５］
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物４３(１ｍＭトルエン溶液)を０．００１ｍｍｏｌ加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−２８℃で３０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレン（乾燥重量１４８ｍｇ）から分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。低沸点成分はすべて１−ヘキセン（３．６ｍｇ）であった。

［実施例６６］
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物４４(１ｍＭトルエン溶液)を０．００１ｍｍｏｌ加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−２８℃で３０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレン（乾燥重量 ５．１ｍｇ）から分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。低沸点成分はすべて１−ヘキセン（０．２ｍｇ）であった。

［比較例１］
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、ＷＯ／０１／４４３２４号パンフレットに記載の下記化合物４５(１ｍＭトルエン溶液)を０．００１ｍｍｏｌ加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−４０℃で３０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)をポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。生成物としてポリエチレンを２９８ｍｇ得たが、１−ヘキセンは検出されなかった。

［比較例２］
充分に窒素置換した内容積１００ｍＬのオートクレーブにトルエン２８ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)をアルミニウム原子換算で１．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ誌１９９９年１０６５−１０６６頁に記載の下記化合物４６(１ｍＭトルエン溶液)を０．００１ｍｍｏｌ加え、エチレン(０．８ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−４０℃で１０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)をポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。生成物としてポリエチレンを２．５４ｇ得たが、１−ヘキセンは検出されなかった。

［実施例６７］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにシクロヘキサン１４４ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケムＭＭＡＯ−３Ａ，１Ｍヘキサン溶液)をアルミニウム原子換算で５．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物９(０．５ｍＭトルエン溶液)を０．０００５ｍｍｏｌ加え、エチレン(３．２ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−３２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。反応器攪拌翼に付着していたポリエチレンは回収した（０．４８ｇ）。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は９３％であった。その他の生成物としてデセン類の選択率は６％、ポリエチレンの選択率は１％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は１１４ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例６８］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにｎ−ペンタン１４４ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケムＭＭＡＯ−３Ａ，１Ｍヘキサン溶液)をアルミニウム原子換算で５．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物９(０．５ｍＭトルエン溶液)を０．０００５ｍｍｏｌ加え、エチレン(３．２ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−３２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。反応器攪拌翼に付着していたポリエチレンは回収した（０．０９ｇ）。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は９４％であった。その他の生成物としてデセン類の選択率は５％、ポリエチレンの選択率は１％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は１１４ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例６９］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにｎ−ペンタン１４４ｍＬとＡｄｅｋａ Ｐｌｕｒｏｎｉｃ Ｌ ７２（０．３ｍｇ）を入れ、続いて、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケムＭＭＡＯ−３Ａ，１Ｍヘキサン溶液)をアルミニウム原子換算で５．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物９(０．５ｍＭトルエン溶液)を０．０００５ｍｍｏｌ加え、エチレン(３．２ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−３２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。ポリエチレンの反応器攪拌翼への付着は無かった。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は９３％であった。その他の生成物としてデセン類の選択率は６％、ポリエチレンの選択率は１％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は８９ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例７０］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにｎ−ペンタン１４４ｍＬを入れ、続いて、メチルアルミノキサン(東ソー・ファインケムＭＭＡＯ−３Ａ，１Ｍヘキサン溶液)をアルミニウム原子換算で５．０ｍｍｏｌ加えた。引き続き、上記化合物９(０．５ｍＭトルエン溶液)を０．０００５ｍｍｏｌ加え、エチレン(３．２ＭＰａ−Ｇ)および水素(０．１ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら２５−３２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。ポリエチレンの反応器攪拌翼への付着は無かった。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は９２％であった。その他の生成物としてデセン類の選択率は７％、ポリエチレンの選択率は１％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は８４ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例７１］
（担体１の調製）
多孔質シリカ(旭硝子社Ｈ−３１)６．２ｇ（１．０モル）、トルエン ８０ｍｌ）を充分に窒素置換した内容積３００ｍｌのフラスコに装入し液温を１５℃に保持しながら、メチルアルミノキサン(ＭＡＯ，１Ｍトルエン溶液)１２０ｍＬを滴下装入した。その後、液温を９５℃に昇温し６０分間加熱反応した。反応終了後、濾過にて固体部を採取し、トルエンにて充分洗浄した後、トルエンに加え担体１のトルエンスラリーとした。

また、以上の操作によって調製した担体１のトルエンスラリーの一部を乾燥し、組成を調べたところ担体１にはアルミニウムが２７．９重量％含まれていた。
（多量化反応）
担体１がアルミニウム原子換算で０．１５ｍｍｏｌ相当量含まれ、トルエンが４ｍＬ含まれる担体１のトルエンスラリーと上記化合物９（０．０００５ｍｍｏｌ）とを室温で一時間攪拌して触媒スラリー液を調製した。充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにｎ−ペンタン１４５ｍＬを入れ、続いてトリオクチルアルミニウム(０．１Ｍデカン溶液)をアルミニウム原子換算で０．０５ｍｍｏｌ加え攪拌した。予め調製しておいた触媒スラリー液を反応器に加え、引き続きエチレン(４．５ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら４５−５２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は８７％であった。その他の生成物としてデセン類の選択率は１１％、ポリエチレンの選択率は２％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は１０４ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例７２］
（担体２の調製）
無水塩化マグネシウム ９５．２ｇ（１．０モル）、デカン ４４２ｍＬおよび2-エチルヘキシルアルコール ３９０．６ｇ（３．０モル）を１３０℃で２時間反応を行い均一溶液とした。この均一溶液２５ｍＬ（マグネシウム原子換算で２５ミリモル）を充分に窒素置換した内容積２００ｍＬのフラスコに装入し、精製デカン １００ｍＬで希釈した。 次いで液温を１５℃に保持しながら、トリエチルアルミニウム ２６ｍｍｏｌを滴下装入した。その後、液温を８０℃に昇温し、再びトリエチルアルミニウム ４９ミリモルを滴下装入し、１５０分間加熱反応した。反応終了後、濾過にて固体部を採取し、トルエンにて充分洗浄した後、トルエンに加え担体２のトルエンスラリーとした。

また、以上の操作によって調製した担体２のトルエンスラリーの一部を乾燥し、組成を調べたところ、担体２にはマグネシウムが１７．０重量％であり、アルミニウムが２．９重量％含まれていた。

（多量化反応）
担体２がアルミニウム原子換算で０．１５ｍｍｏｌ相当量含まれ、トルエンが４ｍＬ含まれる担体２のトルエンスラリーと上記化合物９（０．０００５ｍｍｏｌ）とを室温で一時間攪拌して触媒スラリー液を調製した。充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにｎ−ペンタン１４５ｍＬを入れ、続いてトリオクチルアルミニウム(０．１Ｍデカン溶液) をアルミニウム原子換算で０．０５ｍｍｏｌ加え攪拌した。予め調製しておいた触媒スラリー液を反応器に加え、引き続きエチレン(４．５ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら３５−４２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレン（乾燥重量 １．６３ｇ）から分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。低沸点成分は１−ヘキセン（０．４４ｇ）とデセン類（０．０９ｇ）であった。

［実施例７３］
前記担体１がアルミニウム原子換算で０．１５ｍｍｏｌ相当量含まれ、トルエンが４ｍＬ含まれる担体１のトルエンスラリーと、上記化合物９（０．０００５ｍｍｏｌ）とを室温で一時間攪拌して触媒スラリー液を調製した。充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブにｎ−ヘプタン１４５ｍＬを入れ、続いてトリオクチルアルミニウム(０．１Ｍデカン溶液)をアルミニウム原子換算で０．０５ｍｍｏｌ加え攪拌した。予め調製しておいた触媒スラリー液を反応器に加え、引き続きエチレン(分圧４．５ＭＰａ−Ｇ)および水素(分圧０．１ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら４５−５２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。生成物のうち１−ヘキセンの選択率は８８％であった。その他の生成物としてデセン類の選択率は１１％、ポリエチレンの選択率は１％であり、これらの生成物量合計から算出した触媒活性は１０２ｋｇ−生成物／（ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈ）であった。

［実施例７４］
前記担体１がアルミニウム原子換算で０．１５ｍｍｏl相当量含まれ、トルエンが４ｍＬ含まれる担体１のトルエンスラリーと上記化合物９（０．０００５ｍｍｏｌ）とを室温で一時間攪拌して触媒スラリー液を調製した。充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのオートクレーブに１−ヘキセン９８．１ｇを入れ、続いてトリオクチルアルミニウム(０．１Ｍデカン溶液)をアルミニウム原子換算で０．０５ｍｍｏｌ加え攪拌した。予め調製しておいた触媒スラリー液を反応器に加え、引き続きエチレン(４．５ＭＰａ−Ｇ)で加圧して反応を開始した。同圧力でエチレンを供給しながら４５−５２℃で６０分間反応させた後、少量のイソプロパノールを添加することにより反応を停止した。反応終了後、０．１規定塩酸水および純水で反応液を洗浄し、減圧下に液体窒素トラップを用いて低沸点成分(炭素原子数１０以下)を高沸点成分およびポリエチレンから分離し、ガスクロマトグラフィーを用いて分析を行った。回収された１−ヘキセンの総量は１４３．９ｇであった。その他の生成物としてデセン類の生成量は９．４ｇ、ポリエチレンの生成量は１．３ｇであった。

Claims (13)

1. ［Ａ］下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属錯体化合物。
   

   

   （一般式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。
   Ｍは、周期律表第４族の遷移金属原子を示す。
   ｎは４である。
   Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
   Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
   Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＹとＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。
   式中、ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ¹とを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。
   Ｙ、ＮおよびＺが形成する構造は、下記（Ｃ）〜（Ｈ）に記載の構造群から選ばれる（（Ｃ）〜（Ｈ）に示す構造の中で、水素原子は上記Ｒ ¹ 〜Ｒ ⁶ で示した置換基によって置換されていてもよい）（下記（Ｃ）〜（Ｈ）に記載の構造において、炭素・炭素二重結合に接合する波線は、シス体またはトランス体を意味する）。
   また式中、点線表示は配位結合を示す。）
   

   

   

   

   

   

   
2. ［Ａ］一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹ、ＮおよびＺが一般式（ＩＩ）で表される構造を形成する請求項１に記載の遷移金属錯体化合物。
   

   

   （一般式（ＩＩ）中、Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
   Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合には、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。）
3. ［Ａ］下記一般式（Ｉ'）で表される遷移金属錯体化合物。
   

   

   （一般式（Ｉ'）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶およびＲ¹'は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ¹はＺと連結していてもよい。
   Ｍは、周期律表第４族の遷移金属原子を示す。
   ｎは４である。
   Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
   Ｙ'は、窒素原子またはリン原子を示す。
   Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、Ｙ'とＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。
   Ｙ'、ＮおよびＺが形成する構造は、下記（Ｉ）〜（Ｋ）に記載の構造群から選ばれる（（Ｉ）〜（Ｋ）に示す構造の中で、水素原子は上記Ｒ ¹ 〜Ｒ ⁶ で示した置換基によって置換されていてもよい）（下記（Ｉ）〜（Ｋ）に記載の構造において、炭素・炭素二重結合に接合する波線は、シス体またはトランス体を意味する）。
   また式中、点線表示は配位結合を示す。）
   

   

   

   
4. ［Ａ］一般式（Ｉ'）で表わされる遷移金属錯体化合物のＹ'、ＮおよびＺが一般式（ＩＩ'）で表される構造を形成する請求項３に記載の遷移金属錯体化合物。
   

   

   （一般式（ＩＩ'）中、Ｙ'は、窒素原子またはリン原子を示す。
   Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合には、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。）
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の［Ａ］遷移金属錯体化合物を含むオレフィン多量化用触媒。
6. 前記［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、
   ［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする請求項５に記載のオレフィン多量化用触媒。
7. 前記［Ａ］遷移金属錯体化合物に加えて、
   ［Ｂ］（ｂ−１）有機金属化合物、（ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（ｂ−３）［Ａ］遷移金属錯体化合物と反応してイオン対を形成する化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物ならびに、
   ［Ｃ］［Ａ］および［Ｂ］からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を担持するための担体を含むことを特徴とする請求項５に記載のオレフィン多量化用触媒。
8. 請求項５〜７のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。
9. 請求項５〜７のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒の存在下で、溶媒に炭素数５〜７の直鎖状飽和炭化水素を用いて、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。
10. 請求項５〜７のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒および水素の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。
11. 請求項５〜７のいずれかに記載のオレフィン多量化用触媒および帯電防止剤の存在下で、オレフィンの多量化反応を行うオレフィン多量体の製造方法。
12. 前記オレフィンがエチレンである請求項８〜１１のいずれかに記載のオレフィン多量体の製造方法。
13. 前記オレフィンがエチレンであり、オレフィン多量体が1−ヘキセンである請求項８〜１１のいずれかに記載のオレフィン多量体の製造方法。

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