JP5748415B2 - 遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒およびポリオレフィンの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒および該オレフィン重合用触媒を用いたポリオレフィンの製造方法に関する。

従来からエチレン重合体、エチレン・α−オレフィン共重合体などのオレフィン重合体を製造するための触媒として、チタン化合物と有機アルミニウム化合物とからなるチタン系触媒、およびバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなるバナジウム系触媒が知られている。

また、高い重合活性でオレフィン重合体を製造することのできる触媒としてジルコノセンなどのメタロセン化合物と有機アルミニウムオキシ化合物（アルミノキサン）とからなるメタロセン系触媒が知られている。

またオレフィン重合用触媒として、本出願人はサリチルアルドイミン配位子を有する遷移金属化合物を提案している（例えば特許文献１参照）。特許文献１の一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属化合物は、高いオレフィン重合活性を示すことが知られているが、重合活性のさらなる向上が求められている。また、該遷移金属化合物は、２種類以上のオレフィンを共重合する際の重合活性や共重合性は充分ではなく、さらなる改善が求められていた。

特開平１１−３１５１０９号公報

本発明は、前記従来技術の有する課題を鑑みてされたものであり、新規な遷移金属化合物、オレフィンの重合活性や、共重合を行う際の共重合性に優れる該遷移金属化合物を含有するオレフィン重合用触媒および該触媒の存在下で行うポリオレフィンの製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討をした結果、特定の遷移金属化合物を含有するオレフィン重合用触媒は、オレフィンの重合活性および、共重合を行う際の共重合性に優れ、コモノマー含量の高いポリマーを製造することができることを見出して本発明を完成させた。

すなわち、遷移金属化合物は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物である。

（上記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示し、
Ａは、酸素原子、硫黄原子、結合基−Ｒ⁶を有する窒素原子、または結合基−Ｒ⁶を有するリン原子を示す。

Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。

ｎは、Ｍの原子価を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。

Ｄは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＡとＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。
式中、ＡとＤとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。）

前記（Ａ）一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物のＡとＮとを結ぶ最短結合数が５または６であることが好ましい。
前記（Ａ）一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物のＡ、ＮおよびＤが一般式（ＩＩ）で表される構造を形成することが好ましい。

（一般式（ＩＩ）において、Ａは、酸素原子、硫黄原子、結合基−Ｒ⁶を有する窒素原子、または結合基−Ｒ⁶を有するリン原子を示す。

Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合は、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、
Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。）

前記（Ａ）一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物のＭが周期表第４族の遷移金属原子であり、ｎが４であることが好ましい。
本発明のオレフィン重合用触媒は、前記遷移金属化合物（Ａ）を含む。
本発明のオレフィン重合用触媒は、前記遷移金属化合物（Ａ）に加えて、(Ｂ）(B-1)有機金属化合物、(B-2)有機アルミニウムオキシ化合物、および(B-3)遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。

本発明のポリオレフィンの製造方法は、前記オレフィン重合用触媒の存在下において、オレフィンを単独重合または共重合させることを特徴とする。
なお、本明細書において「重合」という語は、「単独重合」と「共重合」とを包含した意味で用いる。また、「重合体」という語は、「単独重合体」と「共重合体」とを包含した意味で用いる。

本発明のオレフィン重合用触媒は、オレフィンを単独重合する際に優れたオレフィン重合活性を示し、また２種類以上のオレフィンを共重合する際にも優れた重合活性や共重合性を示す。このため、前記オレフィン重合用触媒の存在下で、２種類以上のオレフィンを共重合した場合には、高収率で、コモノマー含量の高いオレフィン共重合体を得ることができる。

本発明のオレフィン重合用触媒が、前記優れた性質を有する理由は明らかではないが、本発明者らは、上記一般式（Ｉ）で表わされる遷移金属化合物（Ａ）は、従来のサリチルアルドイミン配位子を有する遷移金属化合物と比べて、広い重合反応場を有するためであると推定している。

＜遷移金属化合物（Ａ）＞
本発明の遷移金属化合物（Ａ）は、下記一般式（１）で表わされる。

（上記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示し、
Ａは、酸素原子、硫黄原子、結合基−Ｒ⁶を有する窒素原子、または結合基−Ｒ⁶を有するリン原子を示す。

Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。

ｎは、Ｍの原子価を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。

Ｄは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＡとＮとを結ぶ最短結合数は４〜６である。
式中、ＡとＤとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。）
なお、一般式（Ｉ）においてＮとＭとを繋ぐ点線は、ＮがＭに配位していることを示す。

一般式（Ｉ）中、Ｍは周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示し、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、バナジウム原子、ニオブ原子、タンタル原子、クロム原子、モリブデン原子、タングステン原子、マンガン原子、レニウム原子、鉄原子、ルテニウム原子、コバルト原子、ロジウム原子、ニッケル原子またはパラジウム原子である。好ましくはＭは、周期律表第４族の金属原子であり、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子であり、特に好ましくはチタン原子である。

Ａは、酸素原子、硫黄原子、結合基−Ｒ⁶を有する窒素原子、または結合基−Ｒ⁶を有するリン原子を示す。
Ｒ¹〜Ｒ⁶は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｒ¹〜Ｒ⁶のうちの２個以上は、互いに連結して環を形成してもよい。

前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
前記炭化水素基として具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；
エチニル基、プロパルギル基など炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基などの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；
シクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基などの炭素数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；
フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；
トリル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ジ−ｔ−ブチルフェニル基などのアルキル置換アリール基；などが挙げられる。

上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、そのような水素原子がハロゲンで置換された炭化水素基として、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基などの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。

また、上記炭化水素基は、他の炭化水素基で置換されていてもよく、そのような炭化水素基で置換された炭化水素基として、例えば、ベンジル基、クミル基などのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。

さらにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；
アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基；
アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基；
ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；
メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；
ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基；
ケイ素含有基；ゲルマニウム含有基；またはスズ含有基を有していてもよい。

前記ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。

前記ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基などが挙げられ、より具体的には、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、エチルシリル基、ジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジメチル−ｔ−ブチルシリル基、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリル基などが挙げられる。これらの中では、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、エチルシリル基、ジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、トリフェニルシリル基などが好ましく、特にトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基が好ましい。前記炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシ基などが挙げられる。

前記ゲルマニウム含有基または前記スズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムまたはスズに置換した基が挙げられる。
上記炭化水素基が有していてもよい基として挙げた基のうち、
アルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などが挙げられ、
アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基などが挙げられ、
エステル基として具体的には、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、メトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ｐ−クロロフェノキシカルボニル基などが挙げられ、
アシル基として具体的には、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基などが挙げられ、
アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などが挙げられ、
イミノ基として具体的には、メチルイミノ基、エチルイミノ基、プロピルイミノ基、ブチルイミノ基、フェニルイミノ基などが挙げられ、
アミド基として具体的には、アセトアミド基、Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基などが挙げられ、
イミド基として具体的には、アセトイミド基、ベンズイミド基などが挙げられ、
チオエステル基として具体的には、アセチルチオ基、ベンゾイルチオ基、メチルチオカルボニル基、フェニルチオカルボニル基などが挙げられ、
アルキルチオ基として具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられ、
アリールチオ基として具体的には、フェニルチオ基、メチルフェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられ、
スルホンエステル基として具体的には、スルホン酸メチル基、スルホン酸エチル基、スルホン酸フェニル基などが挙げられ、
スルホンアミド基として具体的には、フェニルスルホンアミド基、Ｎ−メチルスルホンアミド基、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド基などが挙げられる。

上記炭化水素基としては、特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基などの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；
フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；
これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基もしくはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基もしくはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基が好ましい。

Ｒ¹〜Ｒ⁶は、前述のようにヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基になり得るが、これらの例としては、上記炭化水素基の説明にて例示したものと同様のものが挙げられる。

前述のように、上記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶のうちの２個以上の基は、たがいに連結して環を形成してもよい。より具体的には、Ｒ¹〜Ｒ⁶のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基は、互いに連結して脂肪族環、芳香環または、窒素原子などのヘテロ原子を含むヘテロ環などの環を形成してもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。

上記一般式（Ｉ）においてＸは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示す。

前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
前記炭化水素基としては、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、アイコシル基などのアルキル基；
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；
ビニル基、プロペニル基、シクロヘキセニル基などのアルケニル基；
ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのアリールアルキル基；
フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル基などのアリール基などが挙げられる。

ただし、前記炭化水素基はこれらに限定されるものではない。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素基、具体的には炭素原子数１〜２０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基も含まれる。これらのうち、ハロゲン化炭化水素基としては、炭素原子数が１〜１０のハロゲン化炭化水素基が好ましい。

前記酸素含有基としては、ヒドロキシ基；
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコシキ基；
フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ナフトキシ基などのアリーロキシ基；
フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基などのアリールアルコキシ基；
アセトキシ基；
カルボニル基などが挙げられる。ただし、前記酸素含有基はこれらに限定されるものではない。

前記イオウ含有基としては、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メチルスルフォネート基、トリフルオロメタンスルフォネート基、フェニルスルフォネート基、ベンジルスルフォネート基、ｐ−トルエンスルフォネート基、トリメチルベンゼンスルフォネート基、トリイソブチルベンゼンスルフォネート基、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート基、ペンタフルオロベンゼンスルフォネート基などのスルフォネート基；
メチルスルフィネート基、フェニルスルフィネート基、ベンジルスルフィネート基、ｐ−トルエンスルフィネート基、トリメチルベンゼンスルフィネート基、ペンタフルオロベンゼンスルフィネート基などのスルフィネート基；
アルキルチオ基；
アリールチオ基などが挙げられる。ただし、前記イオウ含有基はこれらに限定されるものではない。

前記窒素含有基として具体的には、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、アミノ基；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基などのアルキルアミノ基；
フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ジナフチルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられる。ただし、前記窒素含有基はこれらに限定されるものではない。

前記ホウ素含有基として具体的には、ＢＲ₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基またはハロゲン原子等を示す）が挙げられる。
前記アルミニウム含有基として具体的には、ＡｌＲ₄（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基またはハロゲン原子等を示す）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

前記リン含有基として具体的には、トリメチルホスフィン基、トリブチルホスフィン基、トリシクロヘキシルホスフィン基などのトリアルキルホスフィン基；
トリフェニルホスフィン基、トリトリルホスフィン基などのトリアリールホスフィン基；
メチルホスファイト基、エチルホスファイト基、フェニルホスファイト基などのホスファイト基（ホスフィド基）；
ホスホン酸基；
ホスフィン酸基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

前記ハロゲン含有基として具体的には、ＰＦ₆、ＢＦ₄などのフッ素含有基、ＣｌＯ₄、ＳｂＣｌ₆などの塩素含有基、ＩＯ₄などのヨウ素含有基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

前記ヘテロ環式化合物残基としては、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられる。
前記ケイ素含有基として具体的には、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、フェニルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、トリトリルシリル基、トリナフチルシリル基などの炭化水素置換シリル基；
トリメチルシリルエーテル基などの炭化水素置換シリルエーテル基；
トリメチルシリルメチル基などのケイ素置換アルキル基；
トリメチルシリルフェニル基などのケイ素置換アリール基などが挙げられる。

前記ゲルマニウム含有基として具体的には、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基が挙げられる。

前記スズ含有基として具体的には、上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の説明で例示したものと同様のものが挙げられ、より具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）においてｎは、Ｍの価数を満たす数であり、通常は３〜７の整数、好ましくは４〜６の整数、より好ましくは４または５であり、特に好ましくは４である。ｎが４以上の場合には、複数存在するＸは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。また複数存在するＸで示される基は、互いに結合して環を形成してもよい。

Ｄは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示す。ＡとＮとを結ぶ最短結合数は４〜６であり、好ましくは５または６である。また式中、ＡとＤとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。

なお、ＡとＮとを結ぶ最短結合数とは下記（α）、（β）のようにして数えることができ、（α）の場合には５であり、（β）の場合には４である。

前記一般式（１）において、Ｄは、Ｎと前記Ａとを結ぶ基であり、Ａ、ＮおよびＤが一般式（ＩＩ）で表される構造を形成することが好ましい。

（一般式（ＩＩ）において、Ａは、酸素原子、硫黄原子、結合基−Ｒ⁶を有する窒素原子、または結合基−Ｒ⁶を有するリン原子を示す。

Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合は、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、
Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。）
Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰の具体例としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹〜Ｒ⁶で例示したものと同様のものが挙げられる。

以下に、上記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物（Ａ）の具体的な例を示すが、遷移金属化合物（Ａ）はこれらに限定されるものではない。

なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を、Ａｄはアダマンチル基を示す。また上記例示において、チタンをジルコニウムまたはハフニウムに置き換えた遷移金属化合物も、遷移金属化合物（Ａ）の例として挙げることができる。

このような遷移金属化合物（Ａ）の製造方法は、特に限定されることなく、例えば以下のようにして製造することができる。
まず、遷移金属（Ａ）を構成する配位子は、サリチルアルデヒド類化合物と第１級アミン類化合物を反応させることにより得られる。第１級アミン類化合物は市販品で入手できるものをそのまま使用できるが、合成する場合は、例えば２−ハロゲン化アニリン類とフェノール誘導体のボロン酸との反応により得られる。具体的には、２−ハロゲン化アニリン類、フェノール誘導体のホウ素化合物、塩基性化合物、触媒としてパラジウム触媒、パラジウム触媒の配位子となる化合物の混合物に溶媒を加える。これらは溶媒に溶解していても良いし、していなくても良い。

２−ハロゲン化アニリン類として具体的には、２−ブロモアニリン、２−クロロアニリン、２−ヨードアニリン、２−ブロモ−４−メトキシアニリン、２−クロロ−４−メトキシアニリン、２−ヨード−４−メトキシアニリン、２−ブロモ−４−フルオロアニリン、２−クロロ−４−フルオロアニリン、４−フルオロ−２−ヨードアニリンなどが挙げられるが、この限りではない。

フェノール誘導体のホウ素化合物として具体的には、２−ヒドロキシフェニルボロン酸、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニルボロン酸、３，５−ジ−クミル−２−ヒドロキシフェニルボロン酸、３，５−ジ−アダマンチル−２−ヒドロキシフェニルボロン酸、３−クミル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニルボロン酸、３−アダマンチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニルボロン酸などが挙げられるが、この限りではない。

またフェノール誘導体のホウ素化合物として、２−メトキシフェニルボロン酸、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシフェニルボロン酸などのような、水酸基がメチル基で保護された化合物を用いる場合は、２−ハロゲン化アニリン類との反応後、３臭化ホウ素のような脱保護剤によりメチル基を脱離させることが好ましい。

また水酸基の保護基として良く使用される、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリチル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリイソプロピルシリル基、メタンスルホニル基、アセチル基、ピバロイル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等により水酸基が保護されたフェノール誘導体のホウ素化合物を用いる場合も、２−ハロゲン化アニリンとの反応後、公知の方法により保護基を脱離させるのが好ましい。

塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウムなどが挙げられるが、この限りではない。

パラジウム触媒としては具体的には、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）（クロロホルム）ジパラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、塩化アリルパラジウムダイマーなどが挙げられるが、この限りではない。

パラジウム触媒の配位子となる化合物として具体的には、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）ホスフィン、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２‘−（ジメチルアミノ）ビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’、６‘−ジメトキシビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’、４‘、６’−トリイソプロピルビフェニルなどのホスフィン化合物、および、テトラフルオロホウ酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（メチル）ホスホニウム塩などの、ホスフィン化合物の塩が挙げられるが、この限りではない。

また、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウムなどの、上記ホスフィン化合物とパラジウムとの錯体化合物や、｛１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾリデン｝（３−クロロピリジル）パラジウム二塩化物のような、カルベン型化合物とパラジウムとの錯体化合物を触媒として用いてもよい。

溶媒としては、このような反応に一般的なものを使用できるが、なかでもテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ，−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、エタノール、プロパノール等の極性溶媒、またはトルエン、キシレン等の炭化水素溶媒が好ましい。また、上記溶媒に水を加えたものを溶媒として用いてもよく、混合比としては、水/溶媒比が０／１００〜２５／７５であることが好ましい。

次いで、室温から還流条件で、約１〜４８時間攪拌すると、対応する２−ハロゲン化アニリンとフェノール誘導体のホウ素化合物が結合した第１級アミン類化合物が良好な収率で得られる。

次にこうして得られた第１級アミン類化合物または市販品で入手できる第１級アミン類化合物とサリチルアルデヒド類化合物を溶媒に溶解する。
溶媒としては、このような反応に一般的なものを使用できるが、なかでもメタノール、エタノール等のアルコール溶媒、またはトルエン等の炭化水素溶媒が好ましい。次いで、室温から還流条件で、約１〜４８時間攪拌すると、対応する配位子が良好な収率で得られる。配位子化合物を合成する際、触媒として、蟻酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸等の酸触媒を用いてもよい。また、脱水剤として、モレキュラーシーブス、無水硫酸マグネシウムまたは無水硫酸ナトリウムを用いたり、ディーンスタークにより脱水しながら行うと、反応進行に効果的である。

次に、こうして得られた配位子を遷移金属Ｍ含有化合物と反応させることで、対応する遷移金属化合物を合成することができる。具体的には、合成した配位子を溶媒に溶解し、必要に応じて塩基と接触させてフェノキサイド塩を調製した後、金属ハロゲン化物、金属アルキル化物等の金属化合物と低温で混合し、−７８℃から室温、もしくは還流条件下で、約１〜４８時間攪拌する。溶媒としては、このような反応に一般的なものを使用できるが、なかでもエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の極性溶媒、トルエン等の炭化水素溶媒などが好ましく使用される。また、フェノキサイド塩を調製する際に使用する塩基としては、ｎ−ブチルリチウム等のリチウム塩、水素化ナトリウム等のナトリウム塩等の金属塩や、トリエチルアミン、ピリジン等を例示することができるが、この限りではない。

また、化合物の性質によっては、フェノキサイド塩調製を経由せず、配位子と金属化合物とを直接反応させることで、対応する遷移金属化合物を合成することもできる。さらに、合成した遷移金属化合物中の金属Ｍを、常法により別の遷移金属と交換することも可能である。また、例えばＲ¹〜Ｒ⁵の一つ以上が水素である場合には、合成の任意の段階において、水素以外の置換基を導入することができる。
また、遷移金属化合物を単離せず、配位子と金属化合物との反応溶液をそのまま重合に用いることもできる。

＜オレフィン重合用触媒＞
以下、本発明のオレフィン重合用触媒について具体的に説明する。

本発明のオレフィン重合用触媒は、前記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物（Ａ）を含み、さらに（Ｂ）有機金属化合物（Ｂ−１）、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）および遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ−３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。なお、本明細書においてオレフィンとは、炭素・炭素二重結合を分子中に一つ有する炭化水素を示す。

本発明のオレフィン重合用触媒が含む、遷移金属化合物（Ａ）としては、前述の遷移金属化合物（Ａ）が用いられる。
以下、化合物（Ｂ）を詳細に説明する。

〔化合物（Ｂ）〕
本発明のオレフィン重合用触媒は、上記遷移金属化合物（Ａ）に加えて、（Ｂ）有機金属化合物（Ｂ−１）、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）、および遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ−３）から選ばれる少なくとも１種の化合物をさらに含むことが、重合活性の点から好ましい。以下、化合物（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｂ−３）について説明する。

（（Ｂ−１）有機金属化合物）
本発明で用いられる有機金属化合物（Ｂ−１）として、具体的には下記の一般式（Ｂ−１ａ）、（Ｂ−１ｂ）、（Ｂ−１ｃ）で表わされる有機金属化合物が挙げられる。

Ｒ^a _pＡｌ（ＯＲ^b）_qＨ_rＹ_s ・・・（Ｂ−１ａ）
（一般式（Ｂ−１ａ）中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｙはハロゲン原子を示し、ｐは０＜ｐ≦３、ｑは０≦ｑ＜３、ｒは０≦ｒ＜３、ｓは０≦ｓ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。）
Ｍ³ＡｌＲ^c ₄ ・・・（Ｂ−１ｂ）
（一般式（Ｂ−１ｂ）中、Ｍ³はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒ^cは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す。）
Ｒ^dＲ^eＭ⁴ ・・・（Ｂ−１ｃ）
（一般式（Ｂ−１ｃ）中、Ｒ^dおよびＲ^eは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｍ⁴はＭｇ、ＺｎまたはＣｄである。）

前記一般式（Ｂ−１ａ）で表わされる有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物を例示できる。
Ｒ^a _pＡｌ（ＯＲ^b）_3-p
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｐは好ましくは１．５≦ｐ≦３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、
Ｒ^a _pＡｌＹ_3-p
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｙはハロゲン原子を示し、ｐは好ましくは０＜ｐ＜３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、
Ｒ^a _pＡｌＨ_3-p
（式中、Ｒ^aは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｐは好ましくは２≦ｐ＜３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、
Ｒ^a _pＡｌ（ＯＲ^b）_qＹ_s
（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｙはハロゲン原子を示し、ｐは０＜ｐ≦３、ｑは０≦ｑ＜３、ｓは０≦ｓ＜３の数であり、かつｐ＋ｑ＋ｓ＝３である。）で表される有機アルミニウム化合物。

一般式（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としてより具体的には、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリｎ−アルキルアルミニウム；
トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリｓｅｃ−ブチルアルミニウム、トリｔｅｒｔ−ブチルアルミニウム、トリ２−メチルブチルアルミニウム、トリ３−メチルブチルアルミニウム、トリ２−メチルペンチルアルミニウム、トリ３−メチルペンチルアルミニウム、トリ４−メチルペンチルアルミニウム、トリ２−メチルヘキシルアルミニウム、トリ３−メチルヘキシルアルミニウム、トリ２−エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；
トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム；
トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；
ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド；
（ｉ−Ｃ₄Ｈ₉）_xＡｌ_y（Ｃ₅Ｈ₁₀）_z（式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。）などで表されるトリイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；
イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；
ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；
エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；
Ｒ^a _2.5Ａｌ（ＯＲ^b）_0.5で表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム（式中、Ｒ^aおよびＲ^bは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す）；
ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、エチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジイソブチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）などのジアルキルアルミニウムアリーロキシド；
ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；
エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；
エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；
ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；
エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；
エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを挙げることができる。

また（Ｂ−１ａ）に類似する化合物も本発明に使用することができ、そのような化合物として例えば、窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げることができる。このような化合物として具体的には、（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＡｌＮ（Ｃ₂Ｈ₅）Ａｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₂などを挙げることができる。

前記一般式（Ｂ−１ｂ）に属する化合物としては、ＬｉＡｌ（Ｃ₂Ｈ₅）₄、ＬｉＡｌ（Ｃ₇Ｈ₁₅）₄などを挙げることができる。
前記一般式（Ｂ−１ｃ）に属する化合物としては、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジフェニル亜鉛、ジ−ｎ−プロピル亜鉛、ジイソプロピル亜鉛、ジ−ｎ−ブチル亜鉛、ジイソブチル亜鉛、ビス（ペンタフルオロフェニル）亜鉛、ジメチルガドミウム、ジエチルカドミウムなどを挙げることができる。

またその他にも、有機金属化合物（Ｂ−１）としては、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリドなどを使用することもできる。

また重合系内で上記有機アルミニウム化合物が形成されるような化合物、例えばハロゲン化アルミニウムとアルキルリチウムとの組み合わせ、またはハロゲン化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組み合わせなどを、前記有機金属化合物（Ｂ−１）として使用することもできる。
上記のような有機金属化合物（Ｂ−１）は、１種類単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

（（Ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物）
本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）は、従来公知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）としては、具体的には、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン等が挙げられる。

従来公知のアルミノキサンは、例えば下記のような方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。
（１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する塩類、例えば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化合物とを反応させる方法。
（２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸気を作用させる方法。
（３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなどの有機スズ酸化物を反応させる方法。

なお前記アルミノキサンは、少量の有機金属成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミノキサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化合物を蒸留して除去した後、得られたアルミノキサンを溶媒に再溶解またはアルミノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。

アルミノキサンを調製する際に用いられる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記一般式（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物を挙げることができる。

これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。
上記のような有機アルミニウム化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。

アルミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または上記芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が挙げられる。さらにエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましい。

また本発明で用いられるベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であるもの、すなわち、ベンゼンに対して不溶性または難溶性であることが好ましい。

本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）としては、下記一般式（ＩＶ）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物を挙げることもできる。

（一般式（ＩＶ）中、Ｒ¹¹は炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示し、４つのＲ¹²は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。）

前記一般式（ＩＶ）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（Ｖ）で表されるアルキルボロン酸と、有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間反応させることにより製造できる。
Ｒ¹²−Ｂ（ＯＨ）₂ ・・・（Ｖ）
（一般式（Ｖ）中、Ｒ¹²は前記一般式（ＩＶ）におけるＲ¹²と同じ基を示す。）

前記一般式（Ｖ）で表されるアルキルボロン酸の具体的な例としては、メチルボロン酸、エチルボロン酸、イソプロピルボロン酸、ｎ−プロピルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、ｎ−ヘキシルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン酸、３，５−ジフルオロボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルボロン酸などが挙げられる。これらの中では、メチルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸が好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。

このようなアルキルボロン酸と反応させる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記一般式（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物を挙げることができる。

前記有機アルミニウム化合物としては、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
上記のような有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。

（（Ｂ−３）遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物）
本発明で用いられる、遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ−３）（以下、「イオン化イオン性化合物」という。）としては、特開平１−５０１９５０号公報、特開平１−５０２０３６号公報、特開平３−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公報、特開平３−２０７７０３号公報、特開平３−２０７７０４号公報、ＵＳＰ−５３２１１０６号などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などを挙げることができる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることができる。

具体的には、前記ルイス酸としては、ＢＲ₃（Ｒは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素である。）で示される化合物が挙げられ、例えばトリフルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス（４−フルオロフェニル）ボロン、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ボロン、トリス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどである。

前記イオン性化合物としては、例えば下記一般式（ＶＩ）で表される化合物が挙げられる。

（一般式（ＶＩ）中、Ｒ¹³はＨ⁺、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオンまたは遷移金属を有するフェロセニウムカチオンであり、Ｒ¹⁴〜Ｒ¹⁷は、互いに同一でも異なっていてもよく、有機基、好ましくはアリール基または置換アリール基である。）。

前記カルボニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンなどが挙げられる。

前記アンモニウムカチオンとして具体的には、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウムカチオン；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；ジ（イソプロピル）アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。

前記ホスホニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホニウムカチオンなどが挙げられる。

Ｒ⁹としては、カルボニウムカチオンおよびアンモニウムカチオンが好ましく、特にトリフェニルカルボニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。

またイオン性化合物として、トリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム塩などを挙げることもできる。

前記トリアルキル置換アンモニウム塩として具体的には、例えばトリエチルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ−トリル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ−ジメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｍ，ｍ−ジメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ホウ素などが挙げられる。

前記Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩として具体的には、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。

前記ジアルキルアンモニウム塩として具体的には、例えばジ（１−プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。

さらにイオン性化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、下記式（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）で表されるホウ素化合物などを挙げることもできる。

（式（ＶＩＩ）中、Ｅｔはエチル基を示す。）

（式（ＶＩＩＩ）中、Ｅｔはエチル基を示す。）
イオン化イオン性化合物（化合物（Ｂ−３））の例であるボラン化合物として具体的には、例えば、デカボラン；
ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ノナボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕デカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレートなどのアニオンの塩；
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ドデカハイドライドドデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ドデカハイドライドドデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＩＩ）などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられる。

イオン化イオン性化合物の例であるカルボラン化合物として具体的には、例えば４−カルバノナボラン、１，３−ジカルバノナボラン、６，９−ジカルバデカボラン、ドデカハイドライド−１−フェニル−１，３−ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド−１−メチル−１，３−ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド−１，３−ジメチル−１，３−ジカルバノナボラン、７，８−ジカルバウンデカボラン、２，７−ジカルバウンデカボラン、ウンデカハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボラン、ドデカハイドライド−１１−メチル−２，７−ジカルバウンデカボラン、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバドデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−トリメチルシリル−１−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムブロモ−１−カルバドデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム６−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム６−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム７−カルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム７，８−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム２，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムドデカハイドライド−８−メチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−エチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−ブチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−アリル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−９−トリメチルシリル−７，８−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−４，６−ジブロモ−７−カルバウンデカボレートなどのアニオンの塩；
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−１，３−ジカルバノナボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）銅酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）金酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート）クロム酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（トリブロモオクタハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）クロム酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）マンガン酸塩（ＩＶ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＶ）などの金属カルボランアニオンの塩などが挙げられる。

イオン化イオン性化合物の例であるヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタン、ゲルマニウム、ヒ素および錫から選ばれる原子と、バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンから選ばれる１種または２種以上の原子とを含む化合物である。具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリコノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モリブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンタングストバナジン酸、ゲルマノタングストバナジン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノモリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドニオブ酸、およびこれらの酸の塩が挙げられるが、この限りではない。また、前記塩としては、前記酸の、例えば周期律表第１族または２族の金属、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等との塩、トリフェニルエチル塩等の有機塩が挙げられる。

イオン化イオン性化合物の例であるイソポリ化合物は、バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンから選ばれる１種の原子の金属イオンから構成される化合物であり、金属酸化物の分子状イオン種であるとみなすことができる。具体的には、バナジン酸、ニオブ酸、モリブデン酸、タングステン酸、およびこれらの酸の塩が挙げられるが、この限りではない。また、前記塩としては、前記酸の例えば周期律表第１族または第２族の金属、具体的にはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等との塩、トリフェニルエチル塩等の有機塩が挙げられる。
上記のようなイオン化イオン性化合物（遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ−３））は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。

遷移金属化合物（Ａ）に加えて、助触媒成分としてのメチルアルミノキサンなどの有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）を併用すると、オレフィン化合物に対して非常に高い重合活性を示す。

また、本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上記遷移金属化合物（Ａ）と、有機金属化合物（Ｂ−１）、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）、およびイオン化イオン性化合物（Ｂ−３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）とともに、必要に応じて下記の担体（Ｃ）を含んでもよい。

〔担体（Ｃ）〕
本発明で用いられる担体（Ｃ）は、無機または有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の固体である。担体（Ｃ）に上記遷移金属化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を担持させることで、良好なモルフォロジーのポリマーが得られる。
前記無機化合物としては、多孔質酸化物、無機ハロゲン化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物が好ましい。

前記多孔質酸化物として、具体的にはＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＺｒＯ、ＴｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ₂など、またはこれらを含む複合物または混合物を使用することができ、さらに、例えば天然または合成ゼオライト、ＳｉＯ₂−ＭｇＯ、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂−Ｖ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂−ＭｇＯなどを使用することができる。これらのうち多孔質酸化物としては、ＳｉＯ₂および／またはＡｌ₂Ｏ₃を主成分とするものが好ましい。

なお、上記多孔質酸化物は、少量のＮａ₂ＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＭｇＣＯ₃、Ｎａ₂ＳＯ₄、Ａｌ₂（ＳＯ₄）₃、ＢａＳＯ₄、ＫＮＯ₃、Ｍｇ（ＮＯ₃）₂、Ａｌ（ＮＯ₃）₃、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏなどの炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支えない。

このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる多孔質酸化物は、粒径が１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍであって、比表面積が５０〜１０００ｍ²／ｇ、好ましくは１００〜７００ｍ²／ｇの範囲にあり、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ³／ｇの範囲にあることが望ましい。このような多孔質酸化物は、必要に応じて１００〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成して使用される。

上記無機ハロゲン化物としては、ＭｇＣｌ₂、ＭｇＢｒ₂、ＭｎＣｌ₂、ＭｎＢｒ₂等が用いられる。無機ハロゲン化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコールなどの溶媒に無機ハロゲン化物を溶解させた後、析出剤によって微粒子状に析出させたものを用いることもできる。

上記粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、上記イオン交換性層状化合物は、イオン結合などによって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。

また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、六方細密パッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ₂型、ＣｄＩ₂型などの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物などを例示することができる。

さらに、粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイトなどが挙げられ、
イオン交換性層状化合物としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、α−Ｚｒ（ＨＰＯ₄）₂、α−Ｚｒ（ＫＰＯ₄）₂・３Ｈ₂Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ₄）₂、α−Ｔｉ（ＨＡｓＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏ、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ₄）₂、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ₄）₂、γ−Ｔｉ（ＮＨ₄ＰＯ₄）₂・Ｈ₂Ｏなどの多価金属の結晶性酸性塩などが挙げられる。

このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上であることが好ましく、０．３〜５ｃｃ／ｇであることが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径２０〜３００００Åの範囲について測定される。

半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇより小さいものを担体として用いた場合には、高い重合活性が得られにくい傾向がある。
本発明で用いられる粘土、粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理など、何れも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇなどの陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層間距離を変えることができる。

本発明で用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、ＴｉＣｌ₄、ＺｒＣｌ₄などの陽イオン性無機化合物、Ｔｉ（ＯＲ）₄、Ｚｒ（ＯＲ）₄、ＰＯ（ＯＲ）₃、Ｂ（ＯＲ）₃などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基など）、［Ａｌ₁₃Ｏ₄（ＯＨ）₂₄］⁷⁺、［Ｚｒ₄（ＯＨ）₁₄］²⁺、［Ｆｅ₃Ｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₆］⁺などの金属水酸化物イオンなどが挙げられる。これらの化合物は単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。また、これらの化合物をインターカレーションする際に、Ｓｉ（ＯＲ）₄、Ａｌ（ＯＲ）₃、Ｇｅ（ＯＲ）₄などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基などを示す）などを加水分解して得た重合物、ＳｉＯ₂などのコロイド状無機化合物などを共存させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水することにより生成する酸化物なども挙げられる。

本発明で用いられる粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分けなどの処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

これらのうち、好ましいものは粘土または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロナイト、バーミキュライト、ペクトライト、テニオライトおよび合成雲母である。
前述のように担体（Ｃ）は無機または有機の化合物であるが、有機化合物としては、粒径が１０〜３００μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテンなどの炭素原子数が２〜１４のα−オレフィンを主成分として生成される（共）重合体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分として生成される（共）重合体、およびそれらの変成体を例示することができる。

本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上記遷移金属化合物（Ａ）、好ましくは上記化合物（Ｂ）、必要に応じて担体（Ｃ）を含むが、これらと共に、必要に応じてさらに下記の特定の有機化合物成分（Ｄ）を含むこともできる。

〔有機化合物成分（Ｄ）〕
本発明において有機化合物成分（Ｄ）は、必要に応じて、本発明のオレフィン重合用触媒の重合性能（例えば、触媒活性）および生成ポリマーの物性（例えば、生成ポリマーの高分子量化）を向上させる目的で使用される。このような有機化合物としては、アルコール類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物およびスルホン酸塩等が挙げられるが、この限りではない。

前記アルコール類および前記フェノール性化合物としては、通常、Ｒ¹⁸−ＯＨで表されるものが使用され、ここで、Ｒ¹⁸は炭素原子数１〜５０の炭化水素基（フェノール類の場合は炭素原子数は６〜５０）または炭素原子数１〜５０（フェノール類の場合は炭素原子数は６〜５０）のハロゲン化炭化水素基を示す。

アルコール類としては、Ｒ¹⁸がハロゲン化炭化水素基のものが好ましい。また、フェノール性化合物としては、水酸基のα，α’−位が炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたものが好ましい。

上記カルボン酸としては、通常、Ｒ¹⁹−ＣＯＯＨで表されるものが使用される。Ｒ¹⁹は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示し、特に、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基が好ましい。

上記リン化合物としては、Ｐ−Ｏ−Ｈ結合を有するリン酸類、Ｐ−ＯＲ、Ｐ＝Ｏ結合を有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ましく使用される。
上記スルホン酸塩としては、下記一般式（ＩＸ）で表されるものが挙げられる。

（一般式（ＩＸ）中、Ｍ²は周期律表第１〜１４族の元素であり、Ｒ²⁰は水素、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基であり、Ｚは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基または炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基であり、ｔは１〜７の整数であり、ｕは１≦ｕ≦７となる整数である。また、ｔ−ｕはｔ−ｕ≧1となる整数である。

＜ポリオレフィンの製造方法＞
本発明に係るポリオレフィンの製造方法では、上記のようなオレフィン重合用触媒の存在下に、オレフィンを単独重合または共重合することによりポリオレフィンを得る。なお、前述のように、本明細書においてオレフィンとは、炭素・炭素二重結合を分子中に一つ有する炭化水素を示す。

なお、本発明のポリオレフィンの製造方法では、上記オレフィン重合用触媒の存在下で、オレフィンの単独重合、またはオレフィンの共重合を行う。本発明において、オレフィンの共重合とは、モノマーの少なくとも１種がオレフィンであればよく、二種以上のオレフィンを共重合することも、オレフィン以外のモノマーと、オレフィンとを共重合することもできる。

重合における、本発明の触媒を構成する各成分の使用法、重合器への添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。
（１）遷移金属化合物（Ａ）を単独で重合器に添加する方法。
（２）遷移金属化合物（Ａ）をおよび化合物（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（３）遷移金属化合物（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および化合物（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（４）化合物（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および遷移金属化合物（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（５）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを担体（Ｃ）に担持した触媒成分を重合器に添加する方法。

（６）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および化合物（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
（７）化合物（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および遷移金属化合物（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（８）化合物（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、遷移金属化合物（Ａ）、および化合物（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一であっても異なっていてもよい。
（９）遷移金属化合物（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および化合物（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した成分を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１０）遷移金属化合物（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、化合物（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および化合物（Ｂ）を任意の順序重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。

（１１）遷移金属化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）、および有機化合物成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１２）化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）をあらかじめ接触させた成分、および遷移金属化合物（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１３）化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および遷移金属化合物（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１４）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および有機化合物成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１５）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および化合物（Ｂ）、有機化合物成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。

（１６）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を予め接触させた成分を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
（１７）遷移金属化合物（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、化合物（Ｂ）、および有機化合物成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１８）遷移金属化合物（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を予め接触させた成分を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１９）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を予め任意の順序で接触させた触媒成分を重合器に添加する方法。
（２０）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を予め任意の順序で接触させた触媒成分、および化合物（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一であっても異なっていてもよい。
（２１）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を担体（Ｃ）に担持した触媒を重合器に添加する方法。
（２２）遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）と有機化合物成分（Ｄ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および化合物（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、化合物（Ｂ）は、同一であっても異なっていてもよい。

上記の担体（Ｃ）に遷移金属化合物（Ａ）が担持された固体触媒成分、担体（Ｃ）に遷移金属化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）が担持された固体触媒成分には、オレフィンが予備重合されていてもよく、予備重合された固体触媒成分上に、さらに触媒成分が担持されていてもよい。

本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合などの液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できる。液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができ、また（共）重合に供するオレフィン（モノマー）自身を溶媒として用いることもできる。

上記のようなオレフィン重合用触媒を用いて、オレフィンの重合を行うに際して、遷移金属化合物（Ａ）は、反応容積１リットル当り、通常１０^-12〜１０^-2モル、好ましくは１０^-10〜１０^-3モルになるような量で用いられる。

有機金属化合物（Ｂ−１）は、有機金属化合物（Ｂ−１）と、遷移金属化合物（Ａ）中の全遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−１）／Ｍ〕が通常０．０１〜１０００００、好ましくは０．０５〜５００００となるような量で用いられる。有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）は、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）中のアルミニウム原子と、遷移金属化合物（Ａ）中の全遷移金属（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−２）／Ｍ〕が、通常１０〜５０００００、好ましくは２０〜１０００００となるような量で用いられる。遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（イオン化イオン性化合物）（Ｂ−３）は、イオン化イオン性化合物（Ｂ−３）と、遷移金属化合物（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−３）／Ｍ〕が、通常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いられる。

有機化合物成分（Ｄ）は、化合物（Ｂ）が有機金属化合物（Ｂ−１）の場合には、モル比〔（Ｄ）／（Ｂ−１）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で用いられる。化合物（Ｂ）が有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）の場合には、モル比〔（Ｄ）／（Ｂ−２）〕が通常０．０１〜２、好ましくは０．００５〜１となるような量で用いられる。化合物（Ｂ）がイオン化イオン性化合物（Ｂ−３）の場合は、モル比〔（Ｄ）／（Ｂ−３）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で用いられる。

また、このようなオレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合温度は、通常−５０〜＋２００℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。重合圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ²−Ｇ、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ²−Ｇの条件下であり、重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に分けて行うことも可能である。

得られるポリオレフィンの分子量は、重合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させることによって調節することができる。さらに、使用する化合物（Ｂ）の量により調節することもできる。

このような本発明のオレフィン重合用触媒により重合することができるオレフィンとしては、特に限定されないが、炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン、例えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン；
炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状オレフィン、例えばシクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−メチル１，４，５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンなどが挙げられる。

本発明のオレフィン重合用触媒は、オレフィンと他のモノマーとを共重合することもできる。他のモノマーとしては、オレフィン以外のモノマーであればよく、特に限定はされないが、例えば極性基（例えばカルボニル基、水酸基、エーテル結合基など）および重合性の炭素・炭素二重結合を分子中に有するモノマー（以下、極性基含有モノマーとも記す。）が挙げられる。

極性基含有モノマーとしては、具体的には、例えばアクリル酸、３−ブテン酸、４−ペンテン酸、５−ヘキセン酸、６−ヘプテン酸、７−オクテン酸、８−ノネン酸、９−デセン酸、１０−ウンデセン酸、１１−ドデセン酸、１２−トリデセン酸、１３−テトラデセン酸、１４−ペンタデセン酸、１５−ヘキサデセン酸、１６−ヘプタデセン酸、１７−オクタデセン酸、１８−ノナデセン酸、１９−エイコセン酸、２０−ヘニコセン酸、２１−ドコセン酸、２２−トリコセン酸、メタクリル酸、２−メチルペンテン酸、２，２−ジメチル−３−ブテン酸、２，２−ジメチル−４−ペンテン酸、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸、２，６−ヘプタジエン酸、２−（４−イソプロピルベンジリデン）−４−ペンテン酸、アリルマロン酸、２−（１０−ウンデセニル）マロン酸、フマル酸、イタコン酸、ビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン−２−カルボン酸、ビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン−２，３−ジカルボン酸などの不飽和カルボン酸類、およびこれらのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩類、およびこれら不飽和カルボン酸類のメチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチルエステル、イソブチルエステル、（５−ノルボルネン−２−イル）エステルなどの不飽和カルボン酸エステル類（該不飽和カルボン酸がジカルボン酸である場合にはモノエステルであってもジエステルであってもよい）、およびこれら不飽和カルボン酸類のアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類（該不飽和カルボン酸がジカルボン酸である場合にはモノアミドであってもジアミドであってもよい）；
無水マレイン酸、無水イタコン酸、アリルコハク酸無水物、イソブテニルコハク酸無水物、（２，７−オクタジエン−１−イル）コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン−２，３−ジカルボン酸無水物などの不飽和カルボン酸無水物類；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニルなどのビニルエステル類；
塩化ビニル、フッ化ビニル、臭化ビニル、ヨウ化ビニル、臭化アリル、塩化アリル、フッ化アリル、臭化アリルなどのハロゲン化オレフィン類；
アリルトリメチルシラン、ジアリルジメチルシラン、３−ブテニルトリメチルシラン、アリルトリイソプロピルシラン、アリルトリフェニルシラン等のシリル化オレフィン類；
アクリロニトリル、２−シアノビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン、２，３−ジシアノビシクロ［２．２．１］−５−ヘプテン等の不飽和ニトリル類；
アリルアルコール、３−ブテノール、４−ペンテノール、５−ヘキセノール、６−へブテノール、７−オクテノール、８−ノネノール、９−デセノール、１０−ウンデセノール、１１−ドデセノール、１２−トリデセノール等の不飽和アルコール化合物、およびこれらの酢酸エステル、安息香酸エステル、プロピオン酸エステル、カプロン酸エステル、カプリン酸エステル、ラウリン酸エステル、ステアリン酸エステル等の不飽和エステル類；
ビニルフェノール、アリルフェノール等の置換フェノール類；
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、アリルメチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルメタリルエーテル、メトキシスチレン、エトキシスチレン、アリルアニソール等の不飽和エーテル類；
ブタジエンモノオキシド、１，２−エポキシ−７−オクテン、３−ビニル−７−オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン等の不飽和エポキシド類；
アクロレイン、ウンデセナール等の不飽和アルデヒド類、およびこれらのジメチルアセタール、ジエチルアセタールなどの不飽和アセタール類；
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、アリルメチルケトン、アリルエチルケトン、アリルプロピルケトン、アリルブチルケトン、アリルベンジルケトン等の不飽和ケトン類、およびこれらのジメチルアセタール、ジエチルアセタールなどの不飽和アセタール類；
アリルメチルスルフィド、アリルフェニルスルフィド、アリルイソプロピルスルフィド、アリルｎ−プロピルスルフィド、４−ペンテニルフェニルスルフィド等の不飽和チオエーテル類；
アリルフェニルスルホキシド等の不飽和スルホキシド類；
アリルフェニルスルホン等の不飽和スルホン類；
アリルジフェニルホスフィン等の不飽和ホスフィン類；
アリルジフェニルホスフィンオキシドのような不飽和ホスフィンオキシド類などが挙げられる。

さらに、前記極性基含有モノマーとしては、例えば、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシスチレン、４−（３−ブテニロキシ）安息香酸メチル、メトキシスチレン、エトキシスチレン、トリフルオロ酢酸アリル、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、アクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、（２Ｈ−ペルフルオロプロピル）−２−プロペニルエーテル、リナロールオキシド、３−アリロキシ−１，２−プロパンジオール、２−（アリロキシ）エタノール、Ｎ−アリルモルホリン、アリルグリシン、Ｎ−ビニルピロリドン、アリルトリクロロシラン、アクリルトリメチルシラン、アリルジメチル（ジイソプロピルアミノ）シラン、７−オクテニルトリメトキシシラン、アリロキシトリメチルシラン、アリロキシトリフェニルシランなども挙げられ、本発明のオレフィン重合用触媒によってオレフィンと共重合させることができる。

また、極性基含有モノマー以外の他のモノマーとしては、ビニルシクロヘキサン、ジエンまたはポリエンなどを用いることができる。本発明のオレフィン重合用触媒存在下では、これらのモノマーも、オレフィンと共重合することができる。

前記ジエンまたはポリエンとしては、炭素原子数が４〜３０、好ましくは４〜２０であり二個以上の炭素・炭素二重結合を有する環状または鎖状の化合物が挙げられる。具体的には、ブタジエン、イソプレン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ペンタジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、ジビニルベンゼン；
７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８−デカトリエンなどが挙げられる。

さらに他のモノマーとしては、芳香族ビニル化合物を用いることができる。具体的にはスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレンなどのモノもしくはポリアルキルスチレン；
メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、などの官能基含有スチレン誘導体；
および３−フェニルプロピレン、４−フェニルプロピレン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。

本発明のオレフィン重合用触媒は上記に説明したように、従来のサリチルアルドイミン配位子を有する遷移金属化合物よりも重合活性が高く、しかもコモノマー含量の高いポリマーを製造することができる。

以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、合成例および実施例で得られた化合物の構造は、２７０ＭＨｚ ¹Ｈ ＮＭＲ（日本電子 ＧＳＨ−２７０）、ＦＤ−質量分析（日本電子 ＳＸ−１０２Ａ）等を用いて決定した。

なお、本実施例において、極限粘度（［η］）は、１３５℃、デカリン中で測定した。
また実施例で得られた共重合体のコモノマーの含量は、ＩＲ（日本分光 ＦＴ/ＩＲ―４２００）によって測定した。

ＩＲは、実施例で得られた共重合体を、１８０℃に加熱したホットプレスにて溶解延伸後、室温下加圧冷却することで得られたフィルムを測定サンプルとして用い、光源波長５０００ｃｍ^-1〜４００ｃｍ^-1間で測定した。プロピレン含量は、プロピレンに基づくＣ−ＣＨ３骨格振動（１１５０ｃｍ^-1）をキーバンドとし、キーバンドの吸光度（Ｄ１１５０）と内部標準バンド（４３２０ｃｍ^-1：Ｃ−Ｈ伸縮振動とメチレン、メチル変角振動の結合音）の吸光度（Ｄ４３２０）との比[Ｄ１１５０/Ｄ４３２０]により求めた。ヘキセン含量は、ヘキセンに基づくＣ−ＣＨ３骨格振動（１３７８ｃｍ^-1）をキーバンドとし、キーバンドの吸光度（Ｄ１３７８）と内部標準バンド（４３２０ｃｍ^-1：Ｃ−Ｈ伸縮振動とメチレン、メチル変角振動の結合音）の吸光度（Ｄ４３２０）との比[Ｄ１３７８/Ｄ４３２０]により求めた。

（１）配位子の合成
［合成例１]
充分に乾燥および窒素置換した５００ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム（油性）７．２７ｇ（６０ｗｔ％、１８２ｍｍｏｌ)を仕込み、ペンタンで洗浄し、減圧下乾燥させた。テトラヒドロフラン１５０ｍＬを加えた後、氷冷下で２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール２５．０ｇ（１２１ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン１５０ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加えた。室温で３時間攪拌した後、氷冷下でヨウ化メチル２５．８ｇ（１８２ｍｍｏｌ)を加えた。室温で２時間攪拌した後、イソブチルアルコールと水を加えて反応をクエンチした。ジエチルエーテルで可溶分を抽出し、得られた分画を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去することで、下記式（１）で示した目的物（以下化合物（１）という）がほぼ定量的に得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４ａｎｄ２．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ）３．８１（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₃），１．３８（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例２]
充分に乾燥および窒素置換した５００ｍＬの反応器に、合成例１で得られた化合物（１）２６．９５ｇ（１２２ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１００ｍＬ、酢酸１００ｍＬを仕込んだ。氷冷下、臭素を滴下し、室温で８時間攪拌した。亜硫酸水素ナトリウム水溶液で反応をクエンチし、塩化メチレンで可溶分を抽出した。得られた分画を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去することで、下記式（２）で示した目的物（以下化合物（２）という）が３６．０ｇ（収率９８％)得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），３．９１（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₃），１．３９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例３]
充分に乾燥および窒素置換した１０００ｍＬの反応器に、合成例２で得られた化合物（２）２１．１ｇ（７０．４ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン３００ｍＬを仕込み、−７８度に冷却した。ｎ−ブチルリチウム溶液５７．５ｍＬ（ヘキサン溶液、１．５９Ｍ、９１ｍｍｏｌ)を１時間かけて滴下した。−７８度で１時間攪拌した後、トリメトキシボラン２３．６ｍＬ（２１１ｍｍｏｌ)を３０分かけて滴下した。室温まで昇温しながら一晩攪拌した。１Ｎ塩酸水溶液３６０ｍＬを加えて１時間攪拌し、ジエチルエーテルで可溶分を抽出した。得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去することで、白色固体１８．８ｇを得た。充分に乾燥および窒素置換した３００ｍＬの三口フラスコに得られた白色固体１８．６ｇ、２−ブロモアニリン８．４７ｇ（４９．３ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム０．１１ｇ（０．４９ｍｍｏｌ)、リン酸三カリウム（Ｋ₃ＰＯ₄）２９．９ｇ（１４１ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルフォスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル０．３０ｇ（０．７４ｍｍｏｌ）、トルエン８０ｍＬを仕込み、オイルバス中で１時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水を加えて反応をクエンチした。酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画をシリカゲル層を通して濾過した。ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（３）で示した目的物（以下化合物（３）という）が１２．６ｇ（収率７８％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１４−７．２０（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．１ａｎｄ２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１ａｎｄ２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），３．８３（２Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ₂），３．３５（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₃），１．４３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例４]
充分に乾燥および窒素置換した５００ｍＬの反応器に、合成例３で得られた化合物（３）３．６９ｇ（１１．８ｍｍｏｌ)と塩化メチレン１５０ｍＬを仕込み、−７８度に冷却した。この反応液に三臭化ホウ素２７．０ｍＬ（２７．０ｍｍｏｌ、１Ｍ 塩化メチレン溶液）を３０分かけて滴下した。室温まで昇温し、１時間攪拌した後、還流下５時間さらに攪拌した。室温まで冷却し、水を２５ｍＬを加えてクエンチした後、有機層を分液し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、ろ液を留去することで、下記式（４）で示した目的物（以下化合物（４）という）が３．３６ｇ（収率９５％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１９−７．２５（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８２−６．９６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．４６（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例５]
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）０．７６ｇ（２．５６ｍｍｏｌ）、３−ｔ−ブチルサリチルアルデヒド０．４８ｇ（２．５８ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、１３時間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過し、ろ液を留去することで、下記式（５）で示した目的物（以下化合物（５）という）が０．９７ｇ（収率８３％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１１．８（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），８．６９（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．７１−６．８０（９Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），５．０２（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），１．４７（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．４１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）、１．２７（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：４５７

［合成例６]
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）１．２６ｇ（４．２４ｍｍｏｌ）、３−フェニルサリチルアルデヒドビ０．７０ｇ（３．５３ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、１時間４０分攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。溶媒を留去して得られた残渣を、メタノールで洗浄すると下記式（６）で示した目的物（以下化合物（６）という）が１．３９ｇ（収率８１％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．８（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），８．４９（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５８−７．２１（１２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．０４（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），１．３８（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２６（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：４７７

［合成例７]
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）１．１５ｇ（３．８７ｍｍｏｌ）、３−クミル−５−メチルサリチルアルデヒド０．７０ｇ（３．８７ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去しすることで、下記式（７）で示した目的物（以下化合物（７）という）が１．９４ｇ（収率９４％)得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１１．８（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），８．３０（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４３−７．１０（１１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．００（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），２．２９（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨ₃），１．６５（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．３３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５３３

［合成例８]
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）０．５０ｇ（１．６８ｍｍｏｌ）、３−（１，１−ジフェニルエチル）サリチルアルデヒド０．５１ｇ（１．６８ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン１０ｍＬを仕込み、加熱還流下、４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去することで、下記式（８）で示した目的物（以下化合物（８）という）が０．８９ｇ（収率９１％)得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．６（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），８．３７（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４７−７．０４（１６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．６８−６．６２（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），４．８９（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），２．２５（３Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例９]
充分に乾燥および窒素置換した５００ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム（油性）５．０４ｇ（６０ｗｔ％、１２６ｍｍｏｌ)を仕込み、ペンタンで洗浄し、減圧下乾燥させた。テトラヒドロフラン１３０ｍＬを加えた後、氷冷下で２，４−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェノール３３．５ｇ（１０５ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン５０ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加えた。室温で３時間攪拌した後、氷冷下でヨウ化メチル８．０ｍＬ（１２９ｍｍｏｌ)を加えた。室温で１５時間攪拌した後、イソブチルアルコールと水を加えて反応をクエンチした。酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去することで、下記式（９）で示した目的物（以下化合物（９）という）がほぼ定量的に得られた。

［合成例１０]
充分に乾燥および窒素置換した５００ｍＬの反応器に、合成例９で得られた未精製の化合物（９）１９．２ｇ（約５５．７ｍｍｏｌ）、塩化メチレン５０ｍＬ、酢酸１００ｍＬを仕込んだ。氷冷下、臭素１８．０ｇ（１１３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で３時間攪拌した。亜硫酸水素ナトリウム水溶液で反応をクエンチし、塩化メチレンで可溶分を抽出した。得られた分画を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去することで、下記式（１０）で示した目的物（以下化合物（１０）という）がほぼ定量的に得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３６−７．０８（１２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），２．７７（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₃），１．７０（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．５８（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃）ｐｐｍ

［合成例１１]
充分に乾燥および窒素置換した１０００ｍＬの反応器に、合成例１０で得られた未精製の化合物（１０）４５．０ｇ（約１０６ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン３００ｍＬを仕込み、−７８度に冷却した。ｎ−ブチルリチウム溶液８２．０ｍＬ（ヘキサン溶液、１．５９Ｍ、１３０ｍｍｏｌ)を４５分間かけて滴下した。−７８度で１時間攪拌した後、トリメトキシボラン２３．０ｍＬ（２０７ｍｍｏｌ)を１５分かけて滴下した。室温まで昇温しながら一晩攪拌した。２Ｎ塩酸水溶液２５０ｍＬを加えて１時間攪拌し、ジエチルエーテルで可溶分を抽出した。得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去しすることで、黄色オイル状残渣を得た。充分に乾燥および窒素置換した３００ｍＬの三口フラスコに得られた黄色オイル状残渣、２−ブロモアニリン１２．１ｇ（７０．３ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム０．１６ｇ（０．７１ｍｍｏｌ)、リン酸三カリウム（Ｋ₃ＰＯ₄）４２．６ｇ（２０１ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル０．５８ｇ（１．４１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを仕込み、オイルバス中で１時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水を加えて反応をクエンチした。酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（１１）で示した目的物（以下化合物（１１）という）が２５．５ｇ（収率約８３％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３７−７．２７（５Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２３−７．１４（５Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１３−７．０３（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．７４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），３．５４（２Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＮＨ₂），２．３５（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₃），１．７３（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．６９（３Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．５８（３Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃）ｐｐｍ

［合成例１２]
充分に乾燥および窒素置換した５００ｍＬの反応器に、合成例１１で得られた化合物（１１）９．７５ｇ（２２．４ｍｍｏｌ）と塩化メチレン２５ｍＬを仕込んだ。この反応液に三臭化ホウ素４５．０ｍＬ（４５．０ｍｍｏｌ、１Ｍ 塩化メチレン溶液）を５分かけて滴下した後、還流下４時間攪拌した。室温まで冷却し、水２５ｍＬを加えてクエンチした後、有機層を分液し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、ろ液を留去することで、下記式（１２）で示した目的物（以下化合物（１２）という）が９．２６ｇ（収率９８％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３７−７．０３（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．３ａｎｄ０．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．６８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．１ａｎｄ０．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．９１（１Ｈ，ｂｒ-ｓ，−ＯＨ），３．５２（２Ｈ，ｂｒ-ｓ，−ＮＨ₂），１．７３（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．６６（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃）ｐｐｍ

［合成例１３]
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例１２で得られた化合物（１２）２．１１ｇ（４．７７ｍｍｏｌ）、３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド０．８５ｇ（８．６８ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、４時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（１３）で示した目的物（以下化合物（１３）という）が２．５４ｇ（収率９１％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１３．２（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），８．３２（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４２−７．０５（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０３−６．９３（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．２７（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），１．７１（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．５７（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５８１

［合成例１４]
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）０．７０ｇ（２．３５ｍｍｏｌ）、２―ヒドロキシベンズアルデヒド０．２９ｇ（２．３５ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン１０ｍＬを仕込み、加熱還流下、３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去し、ヘキサンを用いて再結晶化することにより、下記式（１４）で示した黄色粉末の化合物（以下化合物（１４）という）を０．５７ｇ（収率６０％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．１（１Ｈ，ｂｒ，−ＯＨ），８．４７（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５１−７．２３（７Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８９−６．８３（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），４．９８（１Ｈ，ｂｒ，−ＯＨ），１．３９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２７（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例１５]
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）１．２５ｇ（４．２１ｍｍｏｌ）、２−クロロフェノールと３−クロロ−２−ヒドロキシ−ベンズアルデヒドの１：１混合物１．１４ｇ（互いに４．００ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、４時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（１５）で示した目的物（以下化合物（１５）という）と２−クロロフェノールの２：３混合物が１．４３ｇ（収率６９％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．９（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），８．４４（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５４−７．４５（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４５−７．３５（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３５−７．２６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８ａｎｄ１．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０４−６．９８（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．００（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），１．４０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．２８（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：４３５

［合成例１６]
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）１．３１ｇ（４．４２ｍｍｏｌ）、３−イソプロピル−２−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド０．６６ｇ（４．０２ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、３時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（１６）で示した目的物（以下化合物（１６）という）が１．６１ｇ（収率９１％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），８．４５（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５２−７．４３（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４２−７．３３（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．２１（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６ａｎｄ１．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．０４（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），３．２８（１Ｈ，ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＣＨ（ＣＨ₃）₂），１．３４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．２８（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．１８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＣＨ（ＣＨ₃）₂）ｐｐｍ

［合成例１７]
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）１．１８ｇ（３．９８ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒド０．６５ｇ（３．７９ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン１０ｍＬを仕込み、加熱還流下、２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去し、ヘキサンを用いて再結晶化することにより、下記式（１７）で示される黄色粉末の化合物（以下化合物（１７）という）を１．３７ｇ（収率８０％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３８（１Ｈ，ｂｒ，−ＣＨ＝Ｎ−），８．２９（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６４（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５５−７．３５（７Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−７．０５（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例１８]
充分に乾燥および窒素置換した３００ｍＬの三口フラスコに合成例３で得られた化合物（３）４．４１ｇ、２−ブロモ−４，６−ジフルオロアニリン２．４３ｇ（１１．７ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム０．０２６ｇ（０．１２ｍｍｏｌ)、リン酸三カリウム（Ｋ₃ＰＯ₄）７．０９ｇ（３３．４ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルフォスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル０．０７２ｇ（０．１８ｍｍｏｌ）、トルエン４０ｍＬを仕込み、オイルバス中で１時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画をシリカゲル層を通して濾過した。ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（１８）で示される白色粉末の化合物（以下化合物（１８）という）を１．７２ｇ（収率３０％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８５−６．７４（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），３．８４（２Ｈ, ｂｒ, −ＮＨ₂）, ３．３８（３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ），１．４３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３２（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例１９]
充分に乾燥および窒素置換した２００ｍＬの反応器に、合成例１８で得られた化合物（１８）１．００ｇ（２．８８ｍｍｏｌ)と塩化メチレン２０ｍＬを仕込み、−７８℃に冷却した。この反応液に三臭化ホウ素５．８ｍＬ（５．７６ｍｍｏｌ、１Ｍ 塩化メチレン溶液）を５分かけて滴下した。室温まで昇温し、２時間３０分攪拌した。溶液を氷冷下、水を２５ｍＬを加えてクエンチした後、有機層を分液し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、ろ液を留去することで、下記式（１９）で示される白色粉末の化合物（以下化合物（１９）という）を０．８１ｇ（収率８４％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９０−６．８０（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），３．７３（２Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ₂），１．４５（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例２０]
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例１９で得られた化合物（１９）０．４０ｇ（１．２０ｍｍｏｌ）、３−ｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロキシベンズアルデヒド０．２３ｇ（１．２６ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン１０ｍＬを仕込み、加熱還流下、１４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２０）で示される黄色粉末の化合物（以下化合物（２０）という）を０．２９ｇ（収率４９％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．６（１Ｈ，ｂｒ，−ＯＨ），８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．３３−７．２９（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０４−６．９５（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．８２（１Ｈ，ｂｒ，−ＯＨ），１．３４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３２（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２６（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例２１]
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例１２で得られた化合物（１２）１．７７ｇ（４．２０ｍｍｏｌ）、２−ヒドロキシベンズアルデヒド０．４９ｇ（４．００ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン２０ｍＬを仕込み、加熱還流下、３時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２１）で示した目的物（以下化合物（２１）という）が１．７９ｇ（収率８５％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．４（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），８．３１（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．３９−７．２４（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２４−７．１５（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１５−７．０６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０２−６．９３（５Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．８９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．５ａｎｄ１．０Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．３４（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ），１．７０（６Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−（ＣＨ₃）₂），１．５７（６Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−（ＣＨ₃）₂）ｐｐｍ

［合成例２２]
充分に乾燥、窒素置換した５００ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム（油性）５．０９ｇ（６０ｗｔ％、１２７ｍｍｏｌ)を仕込み、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた後、氷冷下で２−ヒドロキシビフェニル１７．０ｇ（１００ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン５０ｍＬに溶解させた溶液をカニュラーでゆっくり滴下した。室温で３時間攪拌した後、氷冷下でクロロメチルメチルエーテル９．５０ｍＬ（１２５ｍｍｏｌ)を加えた。室温で２時間攪拌した後、水を加えて反応をクエンチした。酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２２）で示した目的物（以下化合物（２２）という）が２１．０ｇ（収率約９８％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．５６−７．４８（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４５−７．３６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．２５（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２ａｎｄ１．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．４ａｎｄ１．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．１０（２Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃），３．３８（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃）ｐｐｍ

［合成例２３]
充分に乾燥、窒素置換した５００ｍＬの反応器に、合成例２２で得られた化合物（２２）２０．９ｇ（９７．６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン２００ｍＬを仕込み、ｎ−ブチルリチウム溶液７０．５ｍＬ（ヘキサン溶液、１．６５Ｍ、１１６ｍｍｏｌ)を加えた。室温で２時間攪拌した後−７８℃に冷却し、トリメトキシボラン１６．５ｍＬ（１４８ｍｍｏｌ)を１５分かけて滴下した。室温まで昇温しながら一晩攪拌した後、この反応混合物の溶媒を留去することで、黄色オイル状残渣を得た。この残渣に、２−ブロモアニリン１２．１ｇ（７０．３ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム０．１８ｇ（０．８０ｍｍｏｌ)、リン酸三カリウム（Ｋ₃ＰＯ₄）４１．１ｇ（１９４ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル０．６４ｇ（１．５７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン２５０ｍＬ、蒸留水５０ｍＬを仕込み、オイルバス中で２時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水を加えて反応をクエンチし、濃塩酸２０ｍＬを加えた。酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２３）で示した目的物（以下化合物（２３）という）が１２．８ｇ（収率６０％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４６−７．２７（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２７−７．１１（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．８４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．５ａｎｄ１．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０ａｎｄ０．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃），３．８４（２Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＮＨ₂），２．６５（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＯＣＨ₃）ｐｐｍ

［合成例２４]
充分に乾燥、窒素置換した３００ｍＬの反応器に、合成例２３で得られた化合物（２３）１２．７ｇ（４１．６ｍｍｏｌ）とメタノール４０ｍＬと塩化メチレン４０ｍＬを仕込んだ。この反応液にｐ−トルエンスルホン酸９．５７ｇ（５０．３ｍｍｏｌ）と濃塩酸７．０ｍＬ（１２Ｍ、約８４ｍｍｏｌ）加え、一晩攪拌した。氷冷下水酸化ナトリウム水溶液７３ｍＬ（２．０Ｍ、１４５ｍｍｏｌ）を加えてクエンチした後、塩化メチレンで可溶分を抽出し、得られた分画を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２４）で示した目的物（以下化合物（２４）という）が９．０５ｇ（収率８３％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６０−７．５６（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４７−７．１７（７Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），６．９６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．６ａｎｄ１．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０ａｎｄ０．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），３．７５（２Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＮＨ₂）ｐｐｍ

［合成例２５]
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例２４で得られた化合物（２４）０．８３ｇ（３．１８ｍｍｏｌ）、２−ヒドロキシビフェニル−３−カルバルデヒド０．６０ｇ（３．０３ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン１５ｍＬを仕込み、加熱還流下、１．５時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２５）で示した目的物（以下化合物（２５）という）が１．３０ｇ（収率９８％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１３．４（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），８．６１（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６４−７．１９（１７Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６ａｎｄ１．８Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．３４（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ）ｐｐｍ

［合成例２６]
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの三口フラスコに２−ヨードフェノール０．３７ｇ（１．６８ｍｍｏｌ）、４−ビフェニルボロン酸０．５０ｇ（２．５２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム０．０１９ｇ（０．０８４ｍｍｏｌ)、リン酸三カリウム（Ｋ₃ＰＯ₄）０．７２ｇ（３．３７ｍｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルフォスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル０．０３５ｇ（０．０８４ｍｍｏｌ）、トルエン４０ｍＬ、水１０ｍＬを仕込み、オイルバス中で１時間３０分加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチルで可溶分を抽出し、得られた分画をシリカゲル層を通して濾過した。ろ液を留去して得られた残渣をヘキサン・酢酸エチルの混合溶媒で洗浄し、上澄みを除去、残渣を乾燥させることにより、白色粉末が得られた。この白色粉末およびテトラヒドロフラン４ｍＬを充分に乾燥および窒素置換した１０ｍＬの反応器に仕込み、攪拌した。この溶液を、０℃に冷却したエチルマグネシウムブロミド溶液０．４３ｍＬ（３．００Ｍ、１．２９ｍｍｏｌ）に滴下した。滴下終了後、室温まで戻しながら３０分攪拌を続けた。パラホルムアルデヒド０．１１ｇ（３．５７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．２５ｍＬ（１．７８ｍｍｏｌ）を加え、オイルバス中で１時間３０分加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、濃塩酸１ｍＬと水３ｍＬの混合液によりクエンチし、有機層を分液し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、減圧乾燥することにより黄色粉末の化合物を０．２２ｇ得た。充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、この黄色粉末化合物０．２２ｇ、合成例４で得られた化合物（４）０．２３ｇ（０．７９ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン１０ｍＬを仕込み、加熱還流下、５時間攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過した後、ろ液を留去して得られた残渣をヘキサンを用いて再結晶化することで、下記式（２６）で示される黄色粉末の化合物（以下化合物（２６）という）を０．２３ｇ（２−ヨードフェノールに対して収率２４％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．９（１Ｈ，ｂｒ，−ＯＨ），８．５１（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６８−７．６０（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．５２−７．２３（１０Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．０４（１Ｈ，ｂｒ，−ＯＨ），１．３９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２８（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［合成例２７]
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）０．４９ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）、２−ヒドロキシ−５−メトキシ−３−（２−フェニルプロパン−２−イル）ベンズアルデヒド０．４１ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン８ｍＬを仕込み、加熱還流下、２時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２７）で示した目的物（以下化合物（２７）という）が０．７５ｇ（収率９１％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１１．７（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），８．２８（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４７−７．３７（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３７−７．２８（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２４−７．０７（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），５．００（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），３．７７（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＯＣＨ₃），１．６５（６Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−（ＣＨ₃）₂），１．３２（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．２３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ

［合成例２８]
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）０．４９ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）、３−（１，１−ジフェニルエチル）−２−ヒドロキシ−５−メトキシベンズアルデヒド０．５０ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン８ｍＬを仕込み、加熱還流下、２時間攪拌した。溶媒を留去して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、下記式（２８）で示した目的物（以下化合物（２８）という）が０．８３ｇ（収率９０％）得られた。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：１２．１（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），８．３３（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４９−７．３９（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３８−７．３０（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２７−７．１２（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１０−７．０１（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．９５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ，−ＯＨ），３．５９（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＯＣＨ₃），２．２５（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−ＣＨ₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．２１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ

（２）遷移金属化合物の合成
［実施例１］
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの反応器に、合成例５で得られた化合物（５）１．２１ｇ（２．１３ｍｍｏｌ）、トルエン溶液２５ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液１．２１ｍＬ（１．００Ｍ、１．２１ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液２５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１５時間攪拌を続けた。

反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン２０ｍＬを加え、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ａ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ａ）という）を０．７８ｇ（収率６４％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３９（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６ａｎｄ１．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５４−７．３７（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３１−７．２５（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１７−７．０３（３Ｈ，Ａｒ−Ｈ），１．５１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．４５（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５７４

［実施例２］
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例６で得られた化合物（６）０．２９ｇ（０．６４ｍｍｏｌ）、トルエン溶液７．５ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．６２ｍＬ（１．００Ｍ、０．６４ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液７．５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１６時間攪拌を続けた。

反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジエチルエーテルを加え、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｂ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｂ）という）を０．２５ｇ（収率６８％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．４３（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１ａｎｄ２．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７０−７．６７（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．５３−７．４１（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８−７．１３（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．４１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５９３

［実施例３］
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例７で得られた化合物（７）０．４７ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）、トルエン溶液７．５ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．８９ｍＬ（１．００Ｍ、０．８９ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液７．５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１８時間攪拌を続けた。

反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｃ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｃ）という）を０．４２ｇ（収率７４％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．２６（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４７−７．１９（１１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９９−６．９６（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），２．３６（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨ₃），１．８３（３Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．８１（３Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃）１．３４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：６４９

［実施例４］
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例８で得られた化合物（８）０．４２ｇ（０．７３ｍｍｏｌ）、トルエン溶液７．５ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．７６ｍＬ（１．００Ｍ、０．７６ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液７．５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１６時間攪拌を続けた。

反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｄ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｄ）という）を０．４１ｇ（収率８１％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３８（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４８−６．９８（１９Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），２．４８（３Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．３５（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：６９７

［実施例５］
充分に乾燥、アルゴン置換した１００ｍＬの反応器に、合成例１３で得られた化合物（１３）０．８７ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、トルエン溶液１５ｍＬを仕込み、攪拌した。 この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタン１．５０ｍＬトルエン溶液（１．００Ｍ、１．５０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液１５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１８時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン３０ｍＬを加え、超音波を照射し、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｅ）で示される褐色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｅ）という）を０．９９ｇ（収率９５％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３５（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８ａｎｄ１．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４９−７．３１（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３０−６．９０（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．７３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，Ｃ−ＣＨ₃），１．６１（６Ｈ，ｓ，Ｃ−ＣＨ₃），１．５０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：６９７

［実施例６］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、合成例４で得られた化合物（４）０．２０ｇ（０．６７ｍｍｏｌ）、３−アダマンチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンズアルデヒドビ０．１８ｇ（０．６７ｍｍｏｌ）、少量のｐ−トルエンスルホン酸、トルエン５ｍＬを仕込み、加熱還流下、２時間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ過し、ろ液を留去することで黄色の固体（ａ）を０．３１ｇ得た。（ａ）０．１３ｇをトルエン５ｍＬに溶解させ、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．２４ｍＬ（１．００Ｍ、０．２４ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら１５時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｆ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｆ）という）を０．１４ｇ（四塩化チタンに対して収率８６％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３２（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５１−７．３８（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１６（１Ｈ，ｂｒｓ，Ａｒ−Ｈ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０７−７．０４（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），２．３５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ₃），２．１６−１．７７（１５Ｈ，ｍ，Ａｄ）１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［実施例７］
充分に乾燥および窒素置換した５０ｍＬの反応器に、合成例１４で得られた化合物（１４）０．２０ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）、トルエン溶液３ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．５２ｍＬ（１．００Ｍ、０．５２ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液３ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１８時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｇ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｇ）という）を０．２４ｇ（収率９４％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３６（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６５−７．４６（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２９−７．０２（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［実施例８］
充分に乾燥、アルゴン置換した１００ｍＬの反応器に、合成例１５で得られた化合物（１５）０．３６ｇ（６０ｗｔ％，０．５０ｍｍｏｌ）、トルエン溶液３ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．５０ｍＬ（１．００Ｍ、０．５０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１６時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン１０ｍＬを加え、超音波を照射し、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｈ）で示される褐色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｈ）という）を０．２７ｇ（収率９７％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３７（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９ａｎｄ１．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５６−７．４０（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１５−７．０４（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．４５（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５５１

［実施例９］
充分に乾燥、アルゴン置換した１００ｍＬの反応器に、合成例１６で得られた化合物（１６）０．２２ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）、トルエン溶液３ｍＬを仕込み、攪拌した。 この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．５０ｍＬ（１．００Ｍ、０．５０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１７時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン１５ｍＬを加え、超音波を照射し、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｉ）で示される褐色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｉ）という）を０．２０ｇ（収率７２％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３６（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５９−７．４０（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７ａｎｄ１．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．２０（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１８−６．９２（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），３．４７（１Ｈ，ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＣＨ（ＣＨ₃）₂），１．４５（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．３７−１．２１（１５Ｈ，ｍ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃，−ＣＨ（ＣＨ₃）₂）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５５９

［実施例１０］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、合成例１７で得られた化合物（１７）０．３０ｇ（０．６６ｍｍｏｌ）、トルエン溶液１０ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．７０ｍＬ（１．００Ｍ、０．７０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液７．５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１８時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｊ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｊ）という）を０．３３ｇ（収率８８％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．５５（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．４８（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．８１−７．７９（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．７１−７．６４（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．５７−７．４３（５Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），１．４３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［実施例１１］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、合成例２０で得られた化合物（２０）０．１５ｇ（０．３０ｍｍｏｌ）、トルエン溶液７ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．３０ｍＬ（１．００Ｍ、０．３０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１８時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｋ）で示される橙色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｋ）という）を０．１４ｇ（収率７７％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１ａｎｄ２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１ａｎｄ２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０９−６．９８（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．５１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．４２（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：６０９

［実施例１２］
充分に乾燥、アルゴン置換した１００ｍＬの反応器に、合成例２１で得られた化合物（２１）０．２６ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）、トルエン溶液３ｍＬを仕込み、攪拌した。 この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．５０ｍＬ（１．００Ｍ、０．５０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら５時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン６ｍＬを加え、超音波を照射し、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｌ）で示される褐色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｌ）という）を０．３１ｇ（収率９７％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．２５（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．６３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．３ａｎｄ１．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７ａｎｄ１．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４５−７．３５（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３５−７．１０（８Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０５−６．９７（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．９２−６．７０（５Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．９９（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−ＣＨ₃），１．７３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｃ−（ＣＨ₃）₂），１．３８（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−ＣＨ₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：６４１

［実施例１３］
充分に乾燥、アルゴン置換した１００ｍＬの反応器に、合成例２５で得られた化合物（２５）０．２２ｇ（０．５１ｍｍｏｌ）、トルエン溶液３ｍＬを仕込み、攪拌した。 この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．５０ｍＬ（１．００Ｍ、０．５０ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら２４時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン１０ｍＬを加え、超音波を照射し、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｍ）で示される褐色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｍ）という）を０．２５ｇ（収率９０％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．３６（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６ａｎｄ１．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６０−７．０４（１９Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ⁺）：５５７

［実施例１４］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、合成例２６で得られた化合物（２６）０．１０ｇ（０．１７ｍｍｏｌ）、トルエン溶液５ｍＬを仕込み、攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタントルエン溶液０．１８ｍＬ（１．００Ｍ、０．１８ｍｍｏｌ）を含むトルエン溶液５ｍＬに滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで戻しながら１８時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｎ）で示される深赤色粉末の化合物（以下チタン化合物（Ｎ）という）を０．０８２ｇ（収率７２％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．４５（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１ａｎｄ２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８０−７．６３（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．５５−７．４５（６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．４０−７．３７（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３１−７．２８（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１２−７．０９（１Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３１（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ

［実施例１５］
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム２３ｍｇ（６０ｗｔ％，０．５８ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル２ｍＬを仕込んだ。氷冷下で、合成例５で得られた化合物（５）０．２３ｇ（０．５０ｍｍｏｌ)をジエチルエーテル３ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加え、室温で３０分攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却したテトラクロロビス（テトラヒドロフラン）ジルコニウム０．１８ｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を含むジエチルエーテル溶液５ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら１６時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタン５ｍＬを加え、超音波を照射することで、懸濁液を調整し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン７ｍＬを加え、超音波を照射することで、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｏ）で示される黄色粉末の化合物（以下ジルコニウム化合物（Ｏ）という）を０．２４ｇ（収率７１％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．０８（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７ａｎｄ１．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４９−７．４２（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３２−７．２３（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７ａｎｄ１．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．０１（２Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），３．９４（２Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．６３（４Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．４９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．４３（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ−ＴＨＦ⁺）：６１７

［実施例１６］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム３５ｍｇ（６０ｗｔ％，０．８８ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル３ｍＬを仕込み、０℃に冷却した。氷冷下で、合成例７で得られた化合物（７）０．１９ｇ（０．３５ｍｍｏｌ)をジエチルエーテル３ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加え、室温で１時間攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却したテトラクロロビス（テトラヒドロフラン）ジルコニウム１３１ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）を含むジエチルエーテル溶液３ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら１５時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサンを加え攪拌し、静置後上澄み溶液を除去した。トルエンを用いて、セライト濾過を行い、得られた溶液を減圧乾燥することにより、下記式（Ｐ）で示される淡黄色粉末の化合物（以下ジルコニウム化合物（Ｐ）という）を０．１４ｇ（収率５４％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．９６（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４０（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３０−７．１６（９Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９８（１Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），３．８５（ｂｒｓ，４Ｈ，ＴＨＦ），２．２６（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ₃），１．８４（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ₃），１．７６（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ₃），１．５６（４Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．３５（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ−ＴＨＦ⁺）：６９３

［実施例１７］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム３５ｍｇ（６０ｗｔ％，０．８８ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル５ｍＬを仕込み、０℃に冷却した。氷冷下で、実施例６で得られた固体（ａ）０．１９ｇをジエチルエーテル５ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加え、室温で１時間攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却したテトラクロロビス（テトラヒドロフラン）ジルコニウム１３３ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）を含むジエチルエーテル溶液５ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら１５時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサンを加え攪拌し、静置後上澄み溶液を除去した。トルエンを用いて、セライト濾過を行い、得られた溶液を減圧乾燥することにより、下記式（Ｑ）で示される淡黄色粉末の化合物（以下ジルコニウム化合物（Ｑ）という）を０．０６２ｇ（収率２２％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．０３（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４５（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．２４（１Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．９６（１Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），３．９６（４Ｈ，ｂｒ，ＴＨＦ），２．２６（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ₃），２．１８（４Ｈ，ｂｒ，ＴＨＦ），２．１１−１．６２（１５Ｈ，ｂｒｍ，Ａｄ）１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ−ＴＨＦ⁺）：７０９

［実施例１８］
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム４１ｍｇ（６０ｗｔ％，１．０３ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン６ｍＬを仕込んだ。氷冷下で、合成例２７で得られた化合物（２７）０．２２ｇ（０．３９ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン２ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加え、室温で３時間攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却したテトラクロロビス（テトラヒドロフラン）ジルコニウム０．１９ｇ（０．５１ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン溶液７ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら２０時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタン１０ｍＬを加え、超音波を照射することで、懸濁液を調整し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン１０ｍＬを加え、超音波を照射することで、懸濁液を調整し、不溶物をガラスフィルターで除去した。得られた溶液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン５ｍＬを加え、不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｒ）で示される黄色粉末の化合物（以下ジルコニウム化合物（Ｒ）という）を０．１２ｇ（収率３１％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：７．９９（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４７−７．３７（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３６−７．２５（５Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．２２−７．１２（３Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），３．８６（４Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），３．７２（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＯＣＨ₃），１．８５（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−ＣＨ₃），１．７５（３Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｃ−ＣＨ₃），１．５６（４Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．３６（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．２９（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ−ＴＨＦ⁺）：７０９

［実施例１９］
充分に乾燥および窒素置換した３０ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム３２ｍｇ（６０ｗｔ％，０．８１ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル２ｍＬを仕込み、０℃に冷却した。氷冷下で、合成例２８で得られた化合物（２８）０．２５ｇ（０．４０ｍｍｏｌ)をジエチルエーテル４ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加え、室温で２時間攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却したテトラクロロビス（テトラヒドロフラン）ジルコニウム１５２ｍｇ（０．４０ｍｍｏｌ）を含むジエチルエーテル溶液２ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら１５時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体をトルエンに溶解させ、セライト濾過を行い、得られた溶液を減圧乾燥した。得られた固体にｎ−ヘキサンを加え攪拌し、静置後上澄み溶液を除去、その後減圧乾燥することにより、下記式（Ｓ）で示される黄色粉末の化合物（以下ジルコニウム化合物（Ｓ）という）を０．１９ｇ（収率５７％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．０６（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．４３−７．０５（１６Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），３．８４（ｂｒ，４Ｈ，ＴＨＦ），３．５８（ｓ，３Ｈ，−ＯＭｅ），２．４５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ₃），１．５５（４Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．３７（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃)₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ−ＴＨＦ⁺）：７７１

［実施例２０］
充分に乾燥および窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水素化ナトリウム２６ｍｇ（６０ｗｔ％，０．６４ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン２ｍＬを仕込んだ。氷冷下で、合成例５で得られた化合物（５）０．２３ｇ（０．５０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン３ｍＬに溶解させた溶液をシリンジで加え、室温で３時間攪拌した。この溶液を、−７８℃に冷却したテトラクロロハウニウム０．１６ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン溶液５ｍＬに滴下した。滴下後、ゆっくりと室温まで戻しながら１９時間攪拌を続けた。反応液の溶媒を留去した後、得られた固体にジクロロメタン５ｍＬを加え、超音波を照射することで、懸濁液を調整し、不溶物をガラスフィルター上のセライトで除去した。得られた溶液の溶媒を留去した後、得られた固体にｎ−ヘキサン１０ｍＬを加え、超音波を照射することで、懸濁液を調整した。不溶物をガラスフィルターで濾別し、残渣を減圧乾燥することにより下記式（Ｔ）で示される鶯色粉末の化合物（以下ハフニウム化合物（Ｔ）という）を０．２９ｇ（収率７５％）得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：８．１２（１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７ａｎｄ１．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５０−７．４０（４Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｈ），７．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７ａｎｄ１．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．０５（２Ｈ，ｂｒｓ, ＴＨＦ），３．９３（２Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．６２（２Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．４８（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．４４（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃），１．３２（２Ｈ，ｂｒｓ，ＴＨＦ），１．３０（９Ｈ，ｓ，−Ｃ（ＣＨ₃）₃）ｐｐｍ
ＦＤ−質量分析（Ｍ−ＴＨＦ⁺）：７０５

［実施例２１］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍＬを装入し、エチレン１００リットル／ｈｒで液相及び気相を飽和させた。その後、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）をアルミニウム原子換算で１．２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．００５ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、２５℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリエチレンが０．１２ｇ得られた。重合活性は１４０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリエチレンの極限粘度［η］は３．１４ｄＬ／ｇであった。

［実施例２２］
重合温度を５０℃、重合時間を５分にした以外は実施例２１と同様にしてエチレン重合を行った。結果を表１に示す。

［実施例２３］
重合温度を７５℃、重合時間を５分にした以外は実施例２１と同様にしてエチレン重合を行った。結果を表１に示す。

［実施例２４〜３２］
表１−１に示す化合物を用いて、表１-１に示すように重合条件を変えた以外は、実施例２１と同様にしてエチレン重合を行った。結果を表１−１に示す。

［実施例３３］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、２５℃で５分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリエチレンが０．５６ｇ得られた。重合活性は２，６７０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリエチレンの極限粘度［η］は１．２２ｄＬ／ｇであった。

［実施例３４］
重合温度を５０℃にした以外は実施例３３と同様にしてエチレン重合を行った。結果を表１−１に示す。

［実施例３５］
重合温度を７５℃にした以外は実施例３３と同様にエチレン重合を行った。結果を表１−１に示す。

［実施例３６〜９２］
表１−１から表１−３に示す化合物を用いて、表１−１から表１−３に示すように重合条件を変えた以外は、実施例３３と同様にしてエチレン重合を行った。結果を表１−１から表１−３に示す。表１−１から表１−３に記載の略語ＭＡＯはメチルアルミノキサン、ＴｒＢはトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ＴＩＢＡはトリイソブチルアルミニウムを各々示している。

［実施例９３］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍＬを装入し、エチレン５０リットル／ｈｒ、プロピレン１５０リットル／ｈｒの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）をアルミニウム原子換算で１．２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．００５ｍｍｏｌ加え、共重合を開始した。

５０℃で１０分間共重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
得られたポリマー懸濁液に、少量の塩酸を含む１００ｍＬの水を加えて激しく振とうし、静置した後水層を取り除いた。この操作を合計３回繰り返した後、溶媒を減圧下で留去し、さらに１３０℃にて１０時間減圧乾燥した。

得られたエチレン・プロピレン共重合体（ＥＰＲ）は、０．３８ｇであった。重合活性は４６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したプロピレン含量は７８．９ｍｏｌ％であった。

［実施例９４］
エチレン流量を１００リットル/ｈｒ、プロピレン流量を１００リットル/ｈｒにした以外は、実施例９３と同様にしてエチレン/プロピレン共重合を行った。結果を表２に示す。

［実施例９５］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン５０リットル/ｈｒ、プロピレン１５０リットル/ｈｒの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウムを０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．００３ｍｍｏｌを加え共重合を開始した。５０℃で１０分間共重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。

得られたポリマー懸濁液に、少量の塩酸を含む１００ｍＬの水を加えて激しく振とうし、静置した後水層を取り除いた。この操作を合計３回繰り返した後、溶媒を減圧下で留去し、さらに１３０℃にて１０時間減圧乾燥した。

得られたエチレン・プロピレン共重合体（ＥＰＲ）は、３．９８ｇであった。重合活性は９，５６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したプロピレン含量は６７．３ｍｏｌ％であった。

［実施例９６］
エチレン流量を１００リットル/ｈｒ、プロピレン流量を１００リットル/ｈｒにした以外は、実施例９５と同様にしてエチレン/プロピレン共重合を行った。結果を表２に示す。

［実施例９７〜１０９］
表２に示す化合物を用いて、表２に示すように重合条件を変えた以外は、実施例９６と同様にしてエチレン/プロピレン共重合を行った。結果を表２に示す。

［実施例１１０］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、ヘキセンを５．０ｍｍｏｌ、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．０２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．０００５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．０００６ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で５分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、得られたエチレン・ヘキセン共重合体（ＥＨＲ）は、０．８８ｇであった。重合活性は２１，２００ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したヘキセン含量は６．３ｍｏｌ％であった。

［実施例１１１］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、ヘキセンを１０．０ｍｍｏｌ、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．０６２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１５で得られたジルコニウム化合物（Ｏ）を０．００１２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００１５ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で５分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、得られたエチレン・ヘキセン共重合体（ＥＨＲ）は、０．５２ｇであった。重合活性は４，９６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したヘキセン含量は５．８ｍｏｌ％であった。

［実施例１１２］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、２５℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが５．０７ｇ得られた。重合活性は１２，２００ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は９．５６ｄＬ／ｇであった。

［実施例１１３］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例２で得られたチタン化合物（Ｂ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが０．８９ｇ得られた。重合活性は２，１３０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は９．６２ｄＬ／ｇであった。また融点は１４０℃であった。

［実施例１１４］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１０で得られたチタン化合物（Ｊ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが０．４２ｇ得られた。重合活性は１，０００ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は１０．２ｄＬ／ｇであった。また融点は１２０℃であった。

［実施例１１５］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１１で得られたチタン化合物（Ｋ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、２５℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが２．４４ｇ得られた。重合活性は５，８５０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は９．４４ｄＬ／ｇであった。

［実施例１１６］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１４で得られたチタン化合物（Ｎ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが０．２３ｇ得られた。重合活性は５５０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は９．４１ｄＬ／ｇであった。また融点は１３５℃であった。

［実施例１１７］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１５で得られたジルコニウム化合物（Ｏ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが１．４７ｇ得られた。重合活性は３、５２０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は０．３２１ｄＬ／ｇであった。

［実施例１１８］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１６で得られたジルコニウム化合物（Ｐ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、７５℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが０．６９ｇ得られた。重合活性は１、６５０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は０．２５１ｄＬ／ｇであった。

［実施例１１９］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１８で得られたジルコニウム化合物（Ｒ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが３．３１ｇ得られた。重合活性は７、９４０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は０．３３１ｄＬ／ｇであった。

［実施例１２０］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、プロピレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例２０で得られたハフニウム化合物（Ｔ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

プロピレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリプロピレンが０．２１ｇ得られた。重合活性は５１０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｈｆ・ｈｒであり、得られたポリプロピレンの極限粘度［η］は０．１３１ｄＬ／ｇであった。

［実施例１２１］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にヘキセン２５０ｍｌを装入し、その後、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．１２５ｍｍｏｌ、引き続き、実施例１で得られたチタン化合物（Ａ）を０．００２５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．００３ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

窒素を少量連続的に供給し、常圧下、２５℃で１０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノールとアセトン混合溶媒中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、ポリヘキセンが０．７１ｇ得られた。重合活性は１、７００ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリヘキセンの極限粘度［η］は１．３８１ｄＬ／ｇであった。

［比較例１］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍＬを装入し、エチレン５０リットル／ｈｒ、プロピレン１５０リットル／ｈｒの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）をアルミニウム原子換算で１．２５ｍｍｏｌ、引き続き、下記チタン化合物（Ｕ）を０．００５ｍｍｏｌ加え、重合を開始した。

５０℃で１５分間共重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
得られたポリマー懸濁液に、少量の塩酸を含む１００ｍＬの水を加えて激しく振とうし、静置した後水層を取り除いた。この操作を合計３回繰り返した後、溶媒を減圧下で留去し、さらに１３０℃にて１０時間減圧乾燥した。

得られたエチレン・プロピレン共重合体（ＥＰＲ）は、０．９５ｇであった。重合活性は７６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したプロピレン含量は４．７ｍｏｌ％であった。

［比較例２］
エチレン流量を１００リットル/ｈｒ、プロピレン流量を１００リットル/ｈｒにした以外は、比較例１と同様にしてエチレン/プロピレン共重合を行った。

得られたエチレン・プロピレン共重合体（ＥＰＲ）は、２．３２ｇであった。重合活性は１８６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したプロピレン含量は１．６ｍｏｌ％であった。

［比較例３］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル/ｈｒ、プロピレン１００リットル/ｈｒの混合ガスで液相および気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウムを０．２０ｍｍｏｌ、引き続き、チタン化合物（Ｕ）を０．００５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．０１ｍｍｏｌを加え共重合を開始した。５０℃で５分間共重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。

得られたポリマー懸濁液に、少量の塩酸を含む１００ｍＬの水を加えて激しく振とうし、静置した後水層を取り除いた。この操作を合計３回繰り返した後、溶媒を減圧下で留去し、さらに１３０℃にて１０時間減圧乾燥した。

得られたエチレン・プロピレン共重合体（ＥＰＲ）は、０．１４ｇであった。重合活性は３２０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したプロピレン含量は３６．９ｍｏｌ％であった。

［比較例４］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、ヘキセンを１０．０ｍｍｏｌ、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）をアルミニウム原子換算で１．２５ｍｍｏｌ、引き続き、チタン化合物（Ｕ）を０．００５ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で５分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、得られたエチレン・ヘキセン共重合体（ＥＨＲ）は、０．９８ｇであった。重合活性は２，３５０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したヘキセン含量は０．６ｍｏｌ％であった。

［比較例５］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製反応器にトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル/ｈｒ で液相及び気相を飽和させた。その後、ヘキセンを１０．０ｍｍｏｌ、トリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）を０．０２ｍｍｏｌ、引き続き、チタン化合物（Ｕ）を０．００５ｍｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＴｒＢ）を０．０１ｍｍｏｌ加え重合を開始した。

エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、２０℃で６０分間重合を行った後、少量のイソブタノールを添加することにより重合を停止した。
重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃にて１０時間減圧乾燥し、得られたエチレン・ヘキセン共重合体（ＥＨＲ）は、１．４０ｇであった。重合活性は２８０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈｒであり、ＩＲにより測定したヘキセン含量は５．６ｍｏｌ％であった。

本発明に係る新規な遷移金属化合物を含むオレフィン重合用触媒を使用すれば、高コモノマー含量のポリオレフィンを高収率で得ることができる。該ポリオレフィンは耐衝撃性、柔軟性、高弾性、軽量性、透明性、高耐熱性、耐候性、耐薬品性等に優れているため、本発明には工業的に極めて高い価値がある。

Claims (5)

1. （Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物。
   

   

   （上記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第３〜１０族の遷移金属原子を示し、
   Ａは、酸素原子、硫黄原子、結合基−Ｒ⁶を有する窒素原子、または結合基−Ｒ⁶を有するリン原子を示す。
   Ｒ¹〜Ｒ⁶は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるヘテロ環式化合物残基は、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジン、フラン、ピラン、またはチオフェンの残基、あるいはこれらの基に炭素原子数が１〜３０のアルキル基または、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が置換した基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶における酸素含有基は、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、またはカルボン酸無水物基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶における窒素含有基は、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、またはアミノ基がアンモニウム塩となったものである。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるホウ素含有基は、ボランジイル基、ボラントリイル基、またはジボラニル基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるイオウ含有基は、メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、またはスルフェニル基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるリン含有基は、ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、またはホスファト基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるケイ素含有基は、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、または炭化水素置換シロキシ基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるゲルマニウム含有基は、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基である。
   前記Ｒ¹〜Ｒ⁶におけるスズ含有基は、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基である。
   ｎは、Ｍの原子価を示す。
   Ｘは、ハロゲン原子を示し、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよい。
   Ａ、ＮおよびＤが一般式（ＩＩ）で表される構造を形成する。）
   

   

   （一般式（ＩＩ）において、
   Ｒ ⁷〜Ｒ¹⁰は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちＲ⁷〜Ｒ¹⁰が炭化水素基の場合は、Ｒ⁷とＲ⁸は互いに連結して環を形成していてもよく、
   Ｒ⁹とＲ¹⁰は互いに連結して環を形成していてもよい。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるヘテロ環式化合物残基は、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジン、フラン、ピラン、またはチオフェンの残基、あるいはこれらの基に炭素原子数が１〜３０のアルキル基または、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が置換した基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰における酸素含有基は、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、またはカルボン酸無水物基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰における窒素含有基は、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、またはアミノ基がアンモニウム塩となったものである。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるホウ素含有基は、ボランジイル基、ボラントリイル基、またはジボラニル基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるイオウ含有基は、メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、またはスルフェニル基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるリン含有基は、ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、またはホスファト基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるケイ素含有基は、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、または炭化水素置換シロキシ基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるゲルマニウム含有基は、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基である。
   前記Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰におけるスズ含有基は、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基である。）
2. （Ａ）一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物のＭが周期表第４族の遷移金属原子であり、ｎが４である請求項１に記載の遷移金属化合物。
3. 請求項１または２に記載の遷移金属化合物（Ａ）を含むオレフィン重合用触媒。
4. 前記遷移金属化合物（Ａ）に加えて、(Ｂ）(B-1)有機金属化合物、(B-2)有機アルミニウムオキシ化合物、および(B-3)遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことを特徴とする請求項３に記載のオレフィン重合用触媒。
5. 請求項３または４に記載のオレフィン重合用触媒の存在下において、オレフィンを単独重合または共重合させることを特徴とするポリオレフィンの製造方法。