JP5111320B2 - Pd−Cr−W系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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本発明の実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットは、Pd、Cr、Wを主要成分として含有するPd−Cr−W系スパッタリングターゲットであって、CrおよびWのうちの少なくとも1種を含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなる合金マトリックス中に、Cr相およびW相のうちの少なくとも1種の相が分散した構造を有し、前記ターゲット全体に対するCrの含有量が5〜50at%、Wの含有量が5〜40at%であることを特徴とする。
PdはRuと同じく貴金属であり、また、Pdの原子番号は46であってRuの原子番号44と近く、原子半径等の特性がPdはRuと近似している。さらに、Pdは貴金属の中では比較的安価である。このため、Pdは、Ruターゲットの代替となり得るターゲットの主成分となるという役割を有する。
Cr、Wは体心立方構造(bcc)であり、面心立方構造(fcc)であるPdの結晶構造に積層欠陥を導入して、スパッタリングにより得られる中間層におけるPdの結晶構造を、六方最密充填構造(hcp)であるRuの結晶構造に近づけるという役割を有する。また、Crは、スパッタリングによって得られるPd−W層の耐久性を向上させる役割も有する。
本実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットにおいて、合金マトリックスは、CrおよびWのうちの少なくとも1種を含有している。このため、ターゲット全体においてPdのみが存在する箇所がなくなり、Pdは常にCrまたはWと併存するか、CrおよびWと併存することになる。この結果、本実施形態に係るターゲットを用いてのスパッタリングにおいて、特定の箇所の削られる速度が極端に大きくなるということがなくなり、スパッタリングは良好なものとなる。
本実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットは、前記合金マトリックス中に、Cr相およびW相のうちの少なくとも1種の相が分散した構造を有する。Cr相およびW相の両者を合わせた相の平均サイズは3〜100μmであることが好ましい。Cr相およびW相の両者を合わせた相の平均サイズを3μmよりも小さくするためには、製造に用いるCr粉末およびW粉末の粒径を十分に小さくする必要があるが、Cr粉末およびW粉末の粒径をこのように小さくするとCr粉末およびW粉末の酸素含有量が多くなり、ターゲット中の酸素含有量が多くなりすぎてしまう。一方、Cr相およびW相の両者を合わせた相の平均サイズが100μmよりも大きいと、スパッタリングにより成膜した際、膜中にCrの偏析ができやすくなったり、スパッタリングの際の均一なエロージョンが得られにくくなったりする。
ターゲット中の酸素濃度が高いと、ターゲット中に酸化物が生じて介在物となる。該介在物は、スパッタリング中の異常放電の基点となるとともにパーティクルとなるおそれがある。また、ターゲット中の酸素は、スパッタリングによって得られる膜中の不純物となり、膜の特性を劣化させる。このため、ターゲット中の酸素濃度は低いほどよく、1500質量ppm以下であることが好ましい。
本発明の実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットにおいて、酸素以外の不可避的不純物としては、Pt、Au、Ag、Rh、Ir、Ru、Cu、Ni、Sb、Si、Mn、C、S、N、Fe、Mo等が挙げられる。
本発明の実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法は、CrおよびWのうちの少なくとも1種を含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなる合金粉末をアトマイズ法で作製し、作製した該合金粉末に、粉末全体に対するCrの含有量が5〜50at%、Wの含有量が5〜40at%となるようにCr粉末およびW粉末のうちの少なくとも1種の粉末を混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形することを特徴とする。
CrおよびWのうちの少なくとも1種を含有(好ましくはCrを0〜35at%、Wを0〜22at%含有)し、残部がPdおよび不可避的不純物からなる溶湯に、アトマイズ法を適用して、該溶湯と同一組成のアトマイズ合金粉末(以下、単に合金粉末と記すことがある。)を作製する。
前記のようにしてアトマイズ法により得られた合金粉末に、粉末全体に対するCrの含有量が5〜50at%、Wの含有量が5〜40at%となるように平均粒径10〜100μm(好ましくは30〜70μm)のCr粉末および平均粒径4〜40μmのW粉末を混合して混合粉末を作製する。混合粉末の平均粒径は、得られるターゲットにおいて、Cr相およびW相の両者を合わせた相の平均サイズが3〜100μmとなるようにすることが好ましく、混合粉末の平均粒径は2〜90μmとすることが好ましい。
前記混合粉末を加圧下で加熱して成形する方法は特に限定されず、例えば、ホットプレス法、熱間静水圧プレス法(HIP法)、放電プラズマ焼結法(SPS法)等を用いることができる。
本発明の実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットは、以上説明したような構成成分および構造からなり、ルテニウムターゲットの代替となり得る。さらに、本実施形態に係るターゲットは、安価な材料を用いており、かつ、特殊な方法を用いずに安価な製造方法により製造することができるので、安価である。
本実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットを用いて形成される層は、ルテニウムの結晶構造に近似しているので、このPd−Cr−W系スパッタリングターゲットは、磁気記録媒体の中間層、特に垂直磁気記録媒体の中間層を作製することに適する。ただし、本実施形態に係るPd−Cr−W系スパッタリングターゲットは、磁気記録媒体作製という用途に限定されず、ルテニウム層が用いられている用途であれば、磁気記録媒体作製以外の用途にも用いることができる。
合金組成がPd:95at%、W:5at%となるように各金属を秤量し、1850℃まで加熱してPd−W合金溶湯とし、噴射温度1850℃でガスアトマイズを行ってPd−5at%W合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を日機装株式会社製のマイクロトラックMT3000により測定したところ、50μmであった。
合金組成がPd:75at%、Cr:25at%となるように各金属を秤量し、1650℃まで加熱してPd−W合金溶湯とし、噴射温度1650℃でガスアトマイズを行ってPd−25at%Cr合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を実施例1と同様に測定したところ、50μmであった。
合金組成がPd:71.2at%、Cr:23.8at%、W:5at%となるように各金属を秤量し、1850℃まで加熱してPd−Cr−W合金溶湯とし、噴射温度1850℃でガスアトマイズを行ってPd−23.8at%Cr−5at%W合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を実施例1と同様に測定したところ、50μmであった。
合金組成がPd:67.5at%、Cr:22.5at%、W:10at%となるように各金属を秤量し、1900℃まで加熱してPd−Cr−W合金溶湯とし、噴射温度1900℃でガスアトマイズを行ってPd−22.5at%Cr−10at%W合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を実施例1と同様に測定したところ、50μmであった。
アトマイズ法で作製したPd−22.5at%Cr−10at%W合金粉末に添加するW粉末の平均粒径が12μmである以外は実施例4と同様にして混合粉末を作製した。作製した混合粉末を、実施例4と同様の条件でホットプレスを行い、焼結体を得た。得られた焼結体の密度を実施例1と同様に計測したところ、12.3(g/cm3)であった。理論密度は12.8(g/cm3)であるので、相対密度は96.1%であった。
アトマイズ法で作製したPd−22.5at%Cr−10at%W合金粉末に添加するW粉末の平均粒径が4μmである以外は実施例4と同様にして混合粉末を作製した。作製した混合粉末を、実施例4と同様の条件でホットプレスを行い、焼結体を得た。得られた焼結体の密度を実施例1と同様に計測したところ、12.4(g/cm3)であった。理論密度は12.8(g/cm3)であるので、相対密度は96.9%であった。
アトマイズ法で作製したPd−22.5at%Cr−10at%W合金粉末に添加するW粉末の平均粒径が2μmである以外は実施例4と同様にして混合粉末を作製した。作製した混合粉末を、実施例4と同様の条件でホットプレスを行い、焼結体を得た。得られた焼結体の密度を実施例1と同様に計測したところ、12.3(g/cm3)であった。理論密度は12.8(g/cm3)であるので、相対密度は96.1%であった。
合金組成がPd:60at%、Cr:35at%、W:5at%となるように各金属を秤量し、1850℃まで加熱してPd−W合金溶湯とし、噴射温度1850℃でガスアトマイズを行ってPd−35at%Cr−5at%W合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を実施例1と同様に測定したところ、50μmであった。
合金組成がPd:60at%、Cr:30at%、W:10at%となるように各金属を秤量し、1900℃まで加熱してPd−W合金溶湯とし、噴射温度1900℃でガスアトマイズを行ってPd−30at%Cr−10at%W合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を実施例1と同様に測定したところ、50μmであった。
合金組成がPd:90at%、Cr:5at%、W:5at%となるように各金属を秤量し、1850℃まで加熱してPd−Cr−W合金溶湯とし、噴射温度1850℃でガスアトマイズを行ってPd−5at%Cr−5at%W合金粉末を作製した。作製した合金粉末の平均粒径を実施例1と同様に測定したところ、50μmであった。
ガスアトマイズを行ってPd−25at%W合金粉末を作製し、作製した該合金粉末(アトマイズ粉末)にCr粉末を添加して、Pd−20at%Cr−20at%W合金粉末を作製し、ホットプレスを行って焼結体を得ることを試みた。
ガスアトマイズを行ってPd−20at%Cr−25at%W合金粉末を作製し、作製した該合金粉末(アトマイズ粉末)のみで、ホットプレスを行って焼結体を得ることを試みた。
ガスアトマイズを行ってアトマイズ粉末を作製することをせず、アトマイズ粉末ではないPd粉末(平均粒径50μm)、Cr粉末(平均粒径63μm)、W粉末(平均粒径30μm)をボールミルで4時間混合して、Pd−20at%Cr−20at%W混合粉末を作製した。作製した該混合粉末に対して、実施例2と同様の条件でホットプレスを行って焼結体を得た。得られた焼結体の密度を実施例1と同様に計測したところ、12.02(g/cm3)であった。理論密度は12.79(g/cm3)であるので、相対密度は94.0%であった。
102…基材
104…軟磁性裏打ち層
106…中間層
108…記録層(磁性層)
Claims (14)
- Pd、Cr、Wを主要成分として含有するPd−Cr−W系スパッタリングターゲットであって、
CrおよびWのうちの少なくとも1種を含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなる合金マトリックス中に、Cr相およびW相のうちの少なくとも1種の相が分散した構造を有し、前記ターゲット全体に対するCrの含有量が5〜50at%、Wの含有量が5〜40at%であることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲット。 - 請求項1において、
前記合金マトリックスは、Crを0〜35at%、Wを0〜22at%含有していることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲット。 - 請求項1又は2において、
前記Pd−Cr−W系スパッタリングターゲット中のCr相およびW相の両者を合わせた相の平均サイズが3〜100μmであることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲット。 - 請求項1〜3のいずれかにおいて、
前記Pd−Cr−W系スパッタリングターゲット中の酸素濃度が1500質量ppm以下であることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲット。 - 請求項1〜4のいずれかにおいて、
磁気記録媒体用であることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲット。 - CrおよびWのうちの少なくとも1種を含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなる合金粉末をアトマイズ法で作製し、作製した該合金粉末に、粉末全体に対するCrの含有量が5〜50at%、Wの含有量が5〜40at%となるようにCr粉末およびW粉末のうちの少なくとも1種の粉末を混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形することを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。
- 請求項6において、
アトマイズ法で作製された前記合金粉末が、Crを0〜35at%、Wを0〜22at%含有していることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6又は7において、
前記Pd−Cr−W系スパッタリングターゲット中のCr相およびW相の両者を合わせた相の平均サイズが3〜100μmであることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6〜8のいずれかにおいて、
得られるPd−Cr−W系スパッタリングターゲット中の酸素濃度を1500質量ppm以下とすることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6〜9のいずれかにおいて、
前記アトマイズ法は、アルゴンガスまたは窒素ガスを用いて行うことを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6〜10のいずれかにおいて、
前記アトマイズ法は、噴射温度を1600〜2100℃にして行うことを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6〜11のいずれかにおいて、
作製した前記混合粉末を放電プラズマ焼結法で成形することを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6〜12のいずれかにおいて、
得られるPd−Cr−W系スパッタリングターゲットは、磁気記録媒体用であることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項6〜13のいずれかに記載の製造方法により製造されることを特徴とするPd−Cr−W系スパッタリングターゲット。
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