JP5077355B2 - 感放射線性組成物 - Google Patents
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Description
本発明の感放射線性組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない第一の重合体(A)と、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(b1)及びフッ素原子を含有する繰り返し単位(b2)を含む第二の重合体(B)と、感放射線性酸発生剤(C)とを含有し、第二の重合体(B)を、第一の重合体(A)100質量部に対して、0.1〜20質量部含有する感放射線性組成物である。なお、上記第一の重合体(A)に対する第二の重合体(B)の含有割合は、固形分換算の質量から算出した値である。
本発明の感放射線性組成物に含まれる第一の重合体(A)は、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない重合体である。なお、上記した「フッ素原子を含まない」とは、第一の重合体(A)の調製時において、意図してフッ素原子を含めていないということを意味する。
第二の重合体(B)は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(b1)及びフッ素原子を含有する繰り返し単位(b2)を含む重合体である。
(II)その重合体自身が現像液に可溶であり、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する。
(III)その重合体自身は現像液に不溶であり、アルカリの作用によりアルカリ可溶性となる。
(IV)その重合体自身が現像液に可溶であり、アルカリの作用によりアルカリ可溶性が増大する。
本発明の感放射線性組成物に含有される感放射線性酸発生剤(C)(以下、単に「酸発生剤(C)」ということがある)は、露光により酸を発生するものであり、光酸発生剤として機能する。この酸発生剤は、露光により発生した酸によって、感放射線性組成物に含有される第一の重合体(A)中に存在する酸解離性基を解離させて(即ち、保護基を脱離させて)、第一の重合体(A)をアルカリ可溶性とする。そして、その結果、レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、これによりポジ型のレジストパターンが形成される。
本発明の感放射線性組成物は、これまでに説明した第一の重合体(A)、第二の重合体(B)及び感放射線性酸発生剤(C)に加えて、窒素含有化合物(D)を更に含有していてもよい。この窒素含有化合物(D)は、露光により酸発生剤から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制するものである。即ち、この窒素含有化合物(D)は、酸拡散制御剤として機能する。
本発明の感放射線性組成物には、必要に応じて、脂環式骨格含有添加剤(e1)、界面活性剤(e2)、増感剤(e3)等の各種の添加剤(E)を配合することができる。各添加剤の含有割合は、その目的に応じて適宜決定することができる。
溶剤(F)としては、第一の重合体(A)、第二の重合体(B)、及び感放射線性酸発生剤(C)が溶解する溶剤であれば、特に限定されるものではない。なお、感放射線性組成物が窒素含有化合物(D)、及び添加剤(E)を更に含有する場合には、これらの成分も溶解する溶剤であることが好ましい。
本発明の感放射線性組成物は、化学増幅型レジストとして有用である。化学増幅型レジストにおいては、露光により酸発生剤から発生した酸の作用によって、感放射線性組成物に含まれる重合体中の酸解離性基が解離して、カルボキシル基を生じ、その結果、レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、この露光部がアルカリ現像液によって溶解、除去され、ポジ型のフォトレジストパターンが得られる。
東ソー社製のGPCカラム(商品名「G2000HXL」2本、商品名「G3000HXL」1本、商品名「G4000HXL」1本)を使用し、流量:1.0ミリリットル/分、溶出溶媒:テトラヒドロフラン、カラム温度:40℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定した。また、分散度「Mw/Mn」は、Mw及びMnの測定結果より算出した。
それぞれの重合体の13C−NMR分析は、日本電子社製の商品名「JNM−EX270」を使用し、測定した。
ODSカラム(商品名「Inertsil ODS−25μmカラム」(内径4.6mm、長さ250mm)、ジーエルサイエンス社製)を使用し、流量:1.0ミリリットル/分、溶出溶媒:アクリロニトリル/0.1%リン酸水溶液の分析条件で、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により測定した。なお、低分子量成分は、モノマーを主成分とする、分子量1,000未満(即ち、トリマーの分子量以下)の成分である。
まず、コータ/デベロッパ(1)(商品名「CLEAN TRACK ACT8」、東京エレクトロン社製)を用いて、8インチシリコンウエハの表面に膜厚77nmの下層反射防止膜(商品名「ARC29A」、ブルワー・サイエンス社製)を形成して基板とした。
上記感度(1)の評価で形成したライン・アンド・スペースのレジストパターンの線幅のうち、ラインの最小線幅(nm)を解像度の評価値とした(表4中、「解像度(1)(nm)」と示す)。解像度は、数値が小さいほど良好であることを示す。
上記感度(1)の評価の最適露光量にて解像した90nmのライン・アンド・スペースパターンの観測において、感度(1)の評価と同じ走査型電子顕微鏡にてパターン上部から観察した際に、線幅を任意のポイントで観測し、その測定ばらつきを3σ(nm)で評価した。
まず、コータ/デベロッパ(2)(商品名「CLEAN TRACK ACT12」、東京エレクトロン社製)を用いて、12インチシリコンウエハの表面に膜厚77nmの下層反射防止膜(商品名「ARC29A」、ブルワー・サイエンス社製)を形成して基板とした。
上記感度(2)の評価で形成したライン・アンド・スペースのレジストパターンの線幅のうち、ラインの最小線幅(nm)を解像度の評価値とした(表4中、「解像度(2)(nm)」と示す)。解像度は、数値が小さいほど良好であることを示す。
上記感度(2)の評価で得たレジスト膜の65nmライン・アンド・スペースパターンの断面形状を、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡(商品名「S−4800」)で観察し、レジストパターンの中間での線幅Lbと、膜の上部での線幅Laを測定した。測定した結果、(La−Lb)/Lbで算出される値が、0.9≦(La−Lb)/Lb≦1.1の範囲内である場合を「良好」とし、範囲外である場合を「不良」とした。
まず、上記コータ/デベロッパ(2)を用いて、12インチシリコンウエハの表面に膜厚77nmの下層反射防止膜(商品名「ARC29A」、ブルワー・サイエンス社製)を形成して基板とした。
重合体(A)は、各合成例において、表1に示す化合物(M−1)〜(M−8)を用いて合成した。化合物(M−1)〜(M−8)を、以下の式(M−1)〜(M−8)に示す。
上記化合物(M−1)27.51g(50モル%)、上記化合物(M−2)5.29g(15モル%)、上記化合物(M−3)17.20g(35モル%)を2−ブタノン100gに溶解し、更に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(表1中「AIBN」と記す)1.72g(5モル%)を投入した単量体溶液を準備した。
表1に示す配合処方とした以外は、合成例1と同様にして重合体(A−2)、及び重合体(B−1)〜(B−4)を合成した。なお、合成例3〜6においては、開始剤として、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート(表1中「MAIB」と記す)を用いた。
表3に、各実施例及び比較例にて調製された感放射線性組成物の組成と、及び露光前及び露光後加熱条件(PB及びPEB)を示す。また、上記合成例にて合成した重合体(A−1)、重合体(A−2)、及び重合体(B−1)〜(B−4)以外の感放射線性組成物を構成する各成分(感放射線性酸発生剤(C)、窒素含有化合物(D)、及び溶剤(F))について以下に示す。
(C−1):トリフェニルスルホニウム・ノナフルオロ−n−ブタンスルホネート
(C−2):1−(4−n−ブトキシナフタレン−1−イル)テトラヒドロチオフェニウム・ノナフルオロ−n−ブタンスルホネート
(D−1):N−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキシピペリジン
(F−1):プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(F−2):シクロヘキサノン
(F−3):γ−ブチロラクトン
合成例1で得られた重合体(A−1)100質量部、重合体(B−1)5.0質量部、感放射線性酸発生剤(C)としてトリフェニルスルホニウム・ノナフルオロ−n−ブタンスルホネート(C−1)7.0質量部と1−(4−n−ブトキシナフタレン−1−イル)テトラヒドロチオフェニウム・ノナフルオロ−n−ブタンスルホネート(C−2)2.0質量部、窒素含有化合物(D)としてN−t−ブトキシカルボニル−4−ヒドロキシピペリジン(C−1)1.12質量部を混合し、この混合物に、溶剤(F)としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(F−1)1400質量部とシクロヘキサノン(F−2)600質量部とγ−ブチロラクトン(F−3)30質量部を添加し、上記混合物を溶解させて混合溶液を得、得られた混合溶液を孔径0.20μmのフィルターでろ過して感放射線性組成物を調製した。表3に感放射線性組成物の配合処方を示す。
感放射線性組成物を調製する各成分を表3に示すように変えた以外は、実施例1と同様にして、感放射線性組成物(実施例2〜4、及び比較例1〜4)を得た。得られた実施例2〜4、及び比較例1〜4の感放射線性組成物について、上述した、感度(1)、解像度(1)、LWR(ラインラフネス特性)、感度(2)、解像度(2)、パターンの断面形状、ウォーターマーク欠陥及びバブル欠陥について評価を行った。評価結果を表4に示す。
表4から明らかなように、特定の繰り返し単位を含む重合体(B−1)や重合体(B−2)を含有する本発明の感放射線性組成物は、一般的なレジスト性能、具体的には、感度(1)、解像度(1)、及びLWR(ラインラフネス特性)が向上するだけでなく、液浸露光に特有な、感度(2)、解像度(2)、パターンの断面形状、ウォーターマーク欠陥及びバブル欠陥についても良好な結果を得ることができた。特に、感放射線性組成物、特定の一般式で表される繰り返し単位(式(M−1))と、フッ素原子を含有する繰り返し単位とを含む第二の重合体(B)を含有することにより、表面の撥水性が向上し特に液浸露光において、液浸由来欠陥(即ち、ウォーターマーク欠陥)を良好に低減することが可能であることが判明した。
Claims (3)
- 酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない第一の重合体(A)と、下記一般式(1)で表される繰り返し単位(b1)及びフッ素原子を含有する繰り返し単位(b2)を含む第二の重合体(B)と、感放射線性酸発生剤(C)とを含有し、
前記第二の重合体(B)を、前記第一の重合体(A)100質量部に対して、0.1〜20質量部含有する感放射線性組成物。
- 前記感放射線性酸発生剤(C)が、下記一般式(4)で表される化合物である請求項1又は2に記載の感放射線性組成物。
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