JP5076682B2 - N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法 - Google Patents

N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、次世代フォトレジストに対応するモノマー等、有機中間体として有用な化合物である式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド
Figure 0005076682
の製造方法に関する。
式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドは、有機中間体として有用な化合物であり、例えば次世代フォトレジストに対応するモノマーとして期待される有用な化合物である。
N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドは、次の[a法]または[b法]で合成できることが、非特許文献1に開示されている。
[a法]
式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物
Figure 0005076682
と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン
Figure 0005076682
とを、無水塩化メチレン溶媒中、塩基としてトリエチルアミンの存在下、反応させる方法。
[b法]
式[4]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸フルオリド
Figure 0005076682
と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとを、無水塩化メチレン溶媒中、塩基としてトリエチルアミンの存在下で、反応させる方法。
スルホン化剤としてスルホン酸ハライドを用いるスルホンアミド化反応は、一般的によく知られた方法であり、比較的高い選択率でスルホンアミド化合物を製造することができる。例えば、対象化合物は異なるが、上述の[b法](トリフルオロメタンスルホン酸フルオリドを原料に使用)の他にも、次のような例が知られている。
(例)式[5]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸クロリド
Figure 0005076682
をスルホン化剤として用い、これを塩基としてピリジンの存在下で、無水エーテル溶媒中で、アニリンと反応させ、トリフルオロメタンスルホン酸アニリドを合成する例(非特許文献2)。
(例)m−トリフルオロメチルフェニルスルホン酸クロリドをスルホン化剤として用い、これを塩基として20%水酸化ナトリウム溶液の存在下、エーテル溶媒中で、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンと反応させ、N−(m−トリフルオロメチルフェニルスルホニル)−5−アミノメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンを合成する例(非特許文献1)。
この他に、トリフルオロメチル基を含有するスルホン酸ハライドを、アミン系化合物と反応させ、[−SO−NH−]結合を形成する反応の例として、特許文献1〜3等が知られている。
Zhurnal Organicheskoi Khimii(ロシア国)、(1995), 31(3), p.357-64 Journal of Chemical Society, vol.6 (5), p.2574-2578 (1957年刊行) 特開平8−81436号公報 特開平11−209338号公報 国際公開97/23448号パンフレット
上述のように、スルホン酸ハライドを、アミン類と反応させ、[−SO−NH−]結合を形成する反応としては、数多くの例が知られている。しかし、スルホン酸ハライドを原料に用いたスルホンアミド化においては、副反応として「不飽和結合へのハロゲンの付加反応」が起こるという問題がある。例えば、トリフルオロメタンスルホン酸クロライドを原料に用いて、スルホンアミド化合物の合成を行うと、次式で表されるN−[(6−クロロビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イル)メチル]−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド(塩素付加体)が、2%〜3%副生する(参考例1を参照)。
Figure 0005076682
この「ハロゲン付加体」を目的物から分離することは容易ではない。例えば蒸留で分離するには高段数の蒸留塔を用いた精密蒸留が必要である。蒸留収率も低く、大量規模での製造には必ずしも有利とは言えない。
これに対し、「スルホン酸無水物」を、アミン類と反応させ、スルホンアミドを合成した例ははるかに少ない(上述の[a法])。スルホン酸無水物は、1分子中にアルキル鎖(例えばCF基)が2個存在するため、その単価はスルホン酸ハライドに比べて高いことが多い。しかしながら、スルホン酸無水物を用いる場合には、上述のような副反応(付加反応)は進行しない。この結果、反応後の精製の負荷が著しく軽減され、特に要求される目的物の純度が高い場合には、総合的には却って有利になる。特に、電子材料に用いられる材料への塩素の混入は好ましくないことから、そのような用途に供される目的物を製造する際には、塩素付加体の副生がない「トリフルオロメタンスルホン酸無水物」を使用することは非常に有用である。
上述のように、この「スルホン酸無水物」を原料とする、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法としては、上記[a法]が知られている。同方法によれば、高い選択率で目的物を製造でき、分離の難しい副生物も生成しないというメリットがある。
しかしながら、この方法の主たる問題点は、トリエチルアミンという比較的高価な有機塩基を用いることにある。またこの塩基は、反応後に有機廃液として処理しなければならないため、処理費用が大きい。さらに、反応に伴い副生成物として、水にも有機相にも難溶解性の「トリフルオロメタンスルホン酸のトリエチルアミン塩」が析出するため、該塩を濾過で除去する工程が必須であり、後処理に過大な負担がかかる。
すなわち、非特許文献1記載の「トリフルオロメタンスルホン酸無水物」を原料とする方法は、小規模〜中規模で目的物を生産するには有用な方法であるが、大量規模での生産にはなお十分とは言えず、さらなる改善が求められていた。
本発明者らはかかる問題点に鑑み、大量規模での製造に適したN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造法を確立するべく、鋭意検討を行なった。
その結果、式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとを、水の存在下、および、「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」から選ばれる塩基の存在下、反応させることにより、高収率で目的とする式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドを製造できることを見出し、本発明に到達した。
本発明において「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」から選ばれる塩基とは、一般に「無機塩基」として知られている物質に該当する。ここで「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」とは、アルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属水酸化物の、酢酸、プロピオン酸、ホウ酸、リン酸、炭酸など、「弱酸ないし中程度の酸」との塩であって、塩基性(例えば0.1mol・dm−3濃度の水溶液を調整したとき、pHが8以上の値を示すものをいう)を呈するものをいう。このような無機塩基を使用できるようになったことで、製造コストを大幅に削減できることとなった。
本発明においては、反応系内に水を共存させることが重要である。すなわち、水を共存させ、二相系(不均一系)にすることによって、「無機塩基」を用いた場合でも目的反応が高い収率で進行するようになった。また反応に伴い副生するトリフルオロメタンスルホン酸塩は水に易溶であることから、反応後の精製処理の負荷も大幅に低減されることとなった。
一般に酸無水物は水と接触すると、容易に、対応する酸(カルボン酸やスルホン酸)へと分解してしまうことが知られている(例えば「化学大辞典」(共立出版株式会社)、第3巻、997頁を参照)。このため、カルボン酸無水物やスルホン酸無水物を反応剤として使用する場合、反応は専ら無水条件下で行われる。上記[a法]もこの例外ではない。
ところが、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成に関しては、上記[a法]にならって、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を原料とし、塩基として上述の「無機塩基」を用いた場合、無水条件では、目的の反応はごく低い収率でしか進行しないことがわかった(比較例1を参照)。
本発明者らはこのような状況に鑑み、水を系内に共存させることを試みたところ、意外にも目的反応が高収率で進行するようになることを見出した。すなわち、本反応系では、水が系内に共存しても、「水によるトリフルオロメタンスルホン酸無水物の分解」は有意には起こらず、目的反応が優先して起こることが判明した。その結果、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドを、従来技術よりも格段に有利に製造できることとなった。
本発明者らは、上記反応を、式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物または水の何れか一方を、反応系内に逐次添加または連続添加する方法で実施することにより、一層好ましく進行することを見出した。
本発明者らは、さらに上記反応が、非水溶性有機溶媒の共存下で、一層好ましく進行することを見出した。また、上述の「無機塩基」の種類、水の量、非水溶性有機溶媒の種類や量などが特定のものであることが一層好ましいことを見出し、本発明の完成に到達した。
すなわち、本発明は[発明1]〜[発明11]を含み、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドを製造するための新規方法を提供する。
[発明1]
式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物
Figure 0005076682
と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン
Figure 0005076682
とを、水の存在下、および、「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」から選ばれる塩基の存在下、反応させることを特徴とする、式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド
Figure 0005076682
の製造方法。
[発明2]
式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物または水の何れか一方を、反応系内に逐次添加または連続添加することにより、反応を行うことを特徴とする、発明1に記載の式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法。
[発明3]
非水溶性有機溶媒をさらに共存させて、反応を行うことを特徴とする、発明1または発明2に記載の方法。
[発明4]
塩基が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸水素二カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、発明1乃至発明3の何れかに記載の方法。
[発明5]
塩基が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、発明1乃至発明3の何れかに記載の方法。
[発明6]
非水溶性有機溶媒がペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、発明3乃至発明5の何れかに記載の方法。
[発明7]
水の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり、0.2g〜100gであることを特徴とする、発明1乃至発明6の何れかに記載の方法。
[発明8]
非水溶性有機溶媒の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり、0.5g〜100gであることを特徴とする、発明3乃至発明7の何れかに記載の方法。
[発明9]
反応を行う際の温度が、−10℃〜50℃であることを特徴とする、発明1乃至発明8の何れかに記載の方法
[発明10]
式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物
Figure 0005076682
と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン
Figure 0005076682
とを、水の存在下、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、燐酸水素二ナトリウム、および燐酸水素二カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の塩基の存在下、反応させ、式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド
Figure 0005076682
を製造する方法であって、
トリフルオロメタンスルホン酸無水物以外の反応試薬を予め反応器に投入し、そこにトリフルオロメタンスルホン酸無水物を逐次または連続的に導入して反応を行い、反応の際、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり0.2g〜100gの水と、0.5g〜100gの非水溶性有機溶媒を共存させ、かつ、−10℃〜50℃で反応させる、ことを特徴とする、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法。
[発明11]発明10に記載のN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法であって、
塩基の種類は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムからなる群より選ばれ、
水の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり2g〜6gであり、なおかつ、
非水溶性有機溶媒の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり2g〜5gであることを特徴とする、発明10に記載の方法。
本発明によれば、式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとを、無機塩基の存在下、水と非水溶性有機溶媒を混合させた不均一系での反応を特徴とする、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法を提供する。本発明によれば、目的物を、安価な原料から高収率で製造することができる。また、「無機塩基」を用いることができることから廃液の処理等、反応後の操作の負荷も軽減され、大量規模で目的化合物を製造するために有用である。本発明の方法によれば、有害物質である塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素等を用いる必要もなく、塩を濾過で除去する工程が削減できるため操作も簡便になることから、工業的な規模で、かつ高い収率で、目的物を製造する上で特に有用な方法である。
以下、本発明につき、さらに詳細に説明する。本発明は、式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとを、水の存在下、および「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」から選ばれる塩基の存在下、反応させることによって達成される。以下においてその反応条件を述べるが、当業者が容易に調節しうる程度の反応条件の変更を妨げるものではない。
(反応の形式)
本発明の方法は、バッチ式反応装置によって実施するのが簡便で、有利である。
また、トリフルオロメタンスルホン酸無水物または水の何れか一方を、反応系内に逐次添加または連続添加する方式で行うと、トリフルオロメタンスルホン酸無水物と水との接触を最小限に抑えることができ、不要な副反応であるトリフルオロメタンスルホン酸への分解反応を抑制できるため、好ましい。前述のように、本発明の反応系では、トリフルオロメタンスルホン酸への分解反応よりも、目的化合物であるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの生成が優先するため、敢えてこのような逐次または連続的な添加方式をとらなくとも、目的物を得ることは可能である。しかし、逐次または連続添加方式をとることによって、目的物の収率を向上でき、併せて反応の制御も行いやすくなる。このため本発明においては、トリフルオロメタンスルホン酸無水物または水の何れか一方を、反応系内に逐次添加または連続添加し、反応の進行状況や反応系の温度を測定しつつ、添加速度を調節していくことが特に好ましい。中でもトリフルオロメタンスルホン酸無水物を逐次または連続的に添加していく方法が好ましい。
(原料の混合比)
本発明で使用する出発原料の、式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンの混合比に特別の制限はないが、1:1のモル比での反応であるため、通常、両者を等モル比率(1:1)前後で混合することが好ましい。具体的には、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1モルに対して、トリフルオロメタンスルホン酸無水物は、通常0.5モル〜2モルであり、0.9モル〜1.5モルが好ましく、1モル〜1.2モルがより好ましい。0.5モル未満では反応に関与しない1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンが多くなって、経済的に不利であるばかりでなく、反応終了後に着色が生じることがあり、精製に負荷がかかる場合がある。また、2モルを超えると反応に関与しないトリフルオロメタンスルホン酸無水物が増加し、廃棄の手間から経済的に好ましくない。
(塩基について)
本発明に用いることができる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどの、水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸水素二カリウムなど、「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」が挙げられる。これらのうち経済性、その取り扱い易さ、塩基としての反応性の高さなどから炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが特に好ましい。
本反応に使用する塩基の量は基質の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1モルに対して、一価の塩基の場合0.2モル〜2モルであり、0.5モル〜1.5モルが好ましく、0.9モル〜1.2モルがより好ましい。基質の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1モルに対して塩基の量が0.2モル未満では反応の選択率、目的物の収率共に低下し、2モルを超えると反応に関与しない塩基の量が増加するため経済的に好ましくない。これらの量関係は、塩基の価数に反比例し、例えば二価の塩基の場合は、この半分である。
(水の量について)
本発明においては、その反応性の増大を達成するために、水を反応系に共存させることが必要である。また、水を共存させることによって、反応に伴い析出するトリフルオロメタンスルホン酸塩が水相に溶解するため、非特許文献1とは異なり「難溶解性塩の析出」を回避でき、操作性も著しく改善される。
共存させる水の量は、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gに対して通常、0.2g〜100g(20重量%〜10000重量%)であり、1g〜10g(100重量%〜1000重量%)が好ましく、2g〜6g(200重量%〜600重量%)がより好ましい。1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gに対して共存させる水の量が0.2g(20重量%)未満では、収率向上の程度が小さく、敢えて水を添加する効果を得られにくいため好ましくない。これに対して、水の量が1g(100重量%)以上、より好ましくは1.5g(150重量%)以上、さらに好ましくは2g(200重量%)以上であると、本発明に利用する無機塩基を十分量溶解させることができ、高い反応性を確保できるのみならず、反応に伴い副生するトリフルオロメタンスルホン酸塩をより確実に溶解できる。このような過剰量の水を用いることは、特に大量規模で反応を実施する場合に著しく有利である。したがって、水の量が1.5g〜6g、とりわけ2g〜6g(200重量%〜600重量%)であることは、本発明を実施する上で、一層好ましい。本発明は、このような大過剰の水を系内に共存させても、トリフルオロメタンスルホン酸無水物の水との反応は有意に起こらず、なおかつ、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとの反応は大幅に促進される、という点に特徴がある。
一方、水の量が100gを超えると生産性の観点から経済的に好ましくない。
(非水溶性有機溶媒について)
本反応においては、収率の向上と、生成した目的物と副生したトリフルオロメタンスルホン酸塩水溶液との分離を容易にする目的で、非水溶性有機溶媒をさらに系内に共存させることが好ましい。
使用可能な非水溶性有機溶媒の種類に特別な制限はないが、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の飽和炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族化合物、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル化合物、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素化合物を用いることができ、これらは単独で用いても、複数の溶媒を併用しても良い。また、上述の通り、非特許文献1においては、溶媒として塩化メチレンが使用されていたが、本発明では、このようなハロゲン化炭化水素を使用しなくとも、反応は良好に進行するという利点もある。したがって本発明では、その利点を一層活かす上で、ハロゲン系炭化水素やベンゼンなどよりも、環境の負荷の少ないトルエン、キシレン、ペンタン、ヘキサン、ジイソプロピルエーテルなどを用いることが一層好ましい。
本反応に非水溶性有機溶媒を使用する場合、その量は1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gに対して通常、0.5g〜100gであり、1g〜10gが好ましく、2g〜5gがより好ましい。溶媒量が1g、特に、2g以上であると、無機塩基が溶解する水相と、反応物が溶解する有機相が良好な二相系を形成し、目的物の収率の観点で良好である。一方、溶媒量が1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gに対して0.5g未満では、反応後の二層分離が困難となる等、操作性の問題も起こることがある。また、100gを超えると生産性の観点から経済的に好ましくない。
本発明を実施するには、例えば、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gに対して水が1g〜10g、非水溶性有機溶媒が1〜10gであることは好ましい組み合わせである。そして水が2〜6g、非水溶性有機溶媒が2〜5gであることは特に好ましい組み合わせである。
(温度について)
本発明を実施する際の反応温度は通常、−20℃〜100℃であり、−15℃〜70℃が好ましく、−10℃〜50℃がより好ましい。−20℃未満では反応系中の水が固化するため操作性が低下し、100℃を超えると生成物の分解等が起こる場合があるため好ましくない。
(反応器について)
本発明の反応を行う反応器に特に制限はなく、密閉系、開放系どちらでも用いることができる。材質としては、四フッ化エチレン樹脂、クロロトリフルオロエチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、PFA樹脂、ガラスなどを内部にライニングしたもの、グラス容器、もしくはステンレスで製作したものが好ましい。
本発明を実施する方法は限定されるものではないが、望ましい態様の一例につき、詳細を述べる。反応条件に耐えられる反応器に塩基、溶媒および原料の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを加え、外部より温度を制御しながら、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を加えて撹拌する。サンプリング等により原料の消費をモニタリングして、反応が終了したことを確認することが好ましい。
(精製方法について)
本発明の方法で製造された式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドは公知の方法を適用して精製できる。
本発明の反応を実施した後は、目的物N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドは有機相(未反応原料や非水溶性有機溶媒等からなる相)中に存在し、副生したトリフルオロメタンスルホン酸塩は水相に溶存している。このため、反応液を二層分離することで、容易にトリフルオロメタンスルホン酸塩を系外に除去できる。その後、水洗し、さらに溶媒を留去することで粗有機物が得られる。得られた粗有機物は、分離の難しい副生物を含まないことから、カラムクロマトグラフィーや蒸留等の精製を行うことで、容易に高純度のN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドを得ることができる。
本発明は、式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとを、水の存在下、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、燐酸水素二ナトリウム、および燐酸水素二カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の塩基の存在下、反応させる方法であって、なおかつ、トリフルオロメタンスルホン酸無水物以外の反応試薬を予め反応器に投入し、そこにトリフルオロメタンスルホン酸無水物を逐次または連続的に導入して反応を行い、反応の際、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり0.2g〜100gの水と、0.5g〜100gの非水溶性有機溶媒を共存させ、かつ、−10℃〜50℃で反応させると、特に、高い収率で、しかも操作的にも有利にN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドを製造でき、本発明を実施する上で特に好ましい態様である。
また、その中でも、
トリフルオロメタンスルホン酸無水物以外の反応試薬を予め反応器に投入し、そこにトリフルオロメタンスルホン酸無水物を逐次または連続的に導入して反応を行い、
塩基の種類は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムからなる群より選ばれ、なおかつ、
反応の際、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり2g〜6gの水と、2g〜5gの非水溶性有機溶媒を共存させ、かつ、反応温度が−10℃〜50℃である、
という態様は、特に優れたものとして挙げられる。
本反応では原料の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンは異性体混合物を使用することができる。その場合における反応生成物も対応するN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの混合物として得られ、ノルボルネンのendo、exoを考慮すると2種類の異性体の混合物となる。これらの中で一つの異性体のみを単離する場合はカラムクロマトグラフィー等の手法によれば良い。
[実施例]
以下、実施例により本発明を詳細に説明するがこれらの実施態様に限られない。ここで、組成分析値の「%」とは、反応混合物の一部を採取してガスクロマトグラフィーによって測定して得られた、溶媒成分を除く有機成分の「面積%」を表す。また、反応で用いた1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンの異性体比をガスクロマトグラフィーによって測定したところ、(endo)−1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンが82%、(exo)−1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンが18%であった。
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた1Lの四つ口フラスコにヘプタンを100g、水酸化ナトリウムを17.9g(0.45モル)、水を200g(11.1モル)、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを50g(0.41モル)入れ撹拌した。外部冷却装置により内温が10℃以下になったところで、トリフルオロメタンスルホン酸無水物114g(0.41モル)を滴下ロートより1時間かけて添加した。滴下終了後、内温20℃で1時間撹拌した後、組成をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、目的とするN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が合計99.5%であった。その他に原料の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンが0.5%検出された。反応液を分液ロートにて二層分離後、有機層を5%硫酸水溶液100mlで洗浄し、続いて100mlの水で2回洗浄した。得られた溶液を溶媒留去して92.1gの粗有機物が得られた。この粗有機物を、理論段数2〜3段の単蒸留搭で減圧蒸留(13Pa)に付し、120℃〜130℃の留分を集めたところ、88.0gのN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が得られた。ガスクロマトグラフィーにより組成を調べたところ、目的物である(endo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド、(exo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計99.9%、原料の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンが0.1%であった。収率は85%であった。
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた1Lの四つ口フラスコにヘプタンを100g、水酸化ナトリウムを17.9g(0.45モル)、水を200g、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを50g(0.41モル)入れ撹拌した。外部冷却装置により内温が10℃以下になったところで、トリフルオロメタンスルホン酸無水物114g(0.41モル)を滴下ロートから1時間かけて添加した。滴下終了後、内温50℃で1時間撹拌した後、組成をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、目的とするN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計が99.8%であった。その他に原料の1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンが0.2%検出された。反応液を分液ロートにて二層分離後、有機層を5%硫酸水溶液100mlで洗浄し、続いて100mlの水で2回洗浄した。得られた溶液を溶媒留去して95.6gの粗有機物が得られた。この粗有機物を、理論段数2〜3段の単蒸留搭で減圧蒸留(13Pa)に付し、120℃〜130℃の留分を集めたところ、91.3gのN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が得られた。ガスクロマトグラフィーにより組成を調べたところ、目的物である(endo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド、(exo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計が99.8%、その他が0.2%であった。収率は88%であった。
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた1Lの四つ口フラスコにトルエンを200g、水酸化ナトリウムを17.9g(0.45モル)、水を200g、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを50g(0.41モル)入れ撹拌した。外部冷却装置により内温が10℃以下になったところで、トリフルオロメタンスルホン酸無水物114g(0.41モル)を滴下ロートから1時間で添加した。滴下終了後、内温20℃で1時間撹拌した後、組成をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、目的とするN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が合計98.2%であった。その他が1.8%検出された。反応液を分液ロートにて二層分離後、有機層を5%硫酸水溶液100mlで洗浄し、続いて100mlの水で2回洗浄した。得られた溶液を溶媒留去して94.9gの粗有機物が得られた。この粗有機物を、理論段数2〜3段の単蒸留搭で減圧蒸留(13Pa)に付し、120℃〜130℃の留分を集めたところ、91.8gのN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が得られた。ガスクロマトグラフィーにより組成を調べたところ、目的物である(endo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド、(exo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計98.8%、その他が1.2%であった。収率は87%であった。
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた1Lの四つ口フラスコにヘプタンを100g、水酸化カルシウムを16.6g(0.22モル)、水を200g、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを50g(0.41モル)入れ撹拌した。外部冷却装置により内温が10℃以下になったところで、トリフルオロメタンスルホン酸無水物114g(0.41モル)を滴下ロートから1時間かけて添加した。滴下終了後、内温20℃で撹拌した。1時間後、組成をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、目的とするN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が合計99.5%であった。その他が0.5%検出された。反応液を分液ロートにて二層分離後、有機層を5%硫酸水溶液100mlで洗浄し、続いて100mlの水で2回洗浄した。得られた溶液を溶媒留去して91.5gの粗有機物が得られた。この粗有機物を、理論段数2〜3段の単蒸留搭で減圧蒸留(13Pa)に付し、120℃〜130℃の留分を集めたところ、87.8gのN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が得られた。ガスクロマトグラフィーにより組成を調べたところ、目的物である(endo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド、(exo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計が99.7%、その他が0.3%であった。収率は85%であった。
[実施例5〜10]
表1に特に示した以外は、実施例1と全く同じ条件でN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成を行なった。
実施例1〜10の結果を表1に示す。
このように、実施例1〜10では、いずれも安価で排液処理の負担も小さい無機塩基を用いて、下記の比較例1と比べて顕著に高い収率で、目的物が得られた。さらに、実施例1〜10においては、反応終了後の蒸留は、理論段数2〜3段の簡易な蒸留であったにも関わらず、下記の参考例1と同等の純度で目的物が得られた。
なお、実施例1〜10の中で、水の量が比較的少ない実施例7と実施例6でも、反応自体は良好に進行したが、反応進行に伴いトリフルオロメタンスルホン酸の金属塩がスラリー状に析出した。これに対し、その他の実施例(水の量が200重量%もしくはそれ以上)の場合、スラリーの析出が抑制され、より円滑な反応性を観測した。このように、過剰量の水を用いることは、特に大量規模で目的物を製造する場合に、攪拌等の負荷を低減する効果を持ち、優位性が高いことが判った。
[比較例1]
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた1Lの四つ口フラスコにジイソプロピルエーテルを400g、炭酸カリウムを61.7g(0.45モル)、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを100g(0.81モル)入れ撹拌した。外部冷却装置により内温が10℃以下になったところで、トリフルオロメタンスルホン酸無水物240g(0.81モル)を滴下ロートより1時間で添加した。滴下終了後、内温20℃で1時間撹拌した後、組成をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、目的とするN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が合計99.9%であった。その他が0.1%検出された。生じた塩を濾過によって除去した後、得られた濾液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液200mlで洗浄し、続いて200mlの水で3回洗浄した。得られた溶液を溶媒留去して96.5gの粗有機物が得られた。この粗有機物を理論段数25段の蒸留搭で減圧蒸留(13Pa)を行い、120℃〜130℃の留分を集めたところ、88.6gのN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が得られた。ガスクロマトグラフィーにより組成を調べたところ、目的物である(endo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド、(exo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計が99.9%、その他が0.1%であった。収率は43%であった。比較例1の結果を表1に示す。
このように、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を用いる系において、無水条件で、塩基として無機塩基を用いると、目的物の収率はごく低い値に留まることが分かる。
Figure 0005076682
[参考例1]
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた1Lの四つ口フラスコにジイソプロピルエーテルを300g、トリエチルアミンを86.3g(0.85モル)、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンを100g(0.81モル)入れ撹拌した。外部冷却装置により内温が10℃以下になったところで、トリフルオロメタンスルホン酸クロライド137g(0.81モル)を滴下ロートより1時間で添加した。滴下終了後、内温20℃で1時間撹拌した後、組成をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、目的とするN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が合計97.3%であった。また、副生成物として、塩素付加体であるN−[(6−クロロビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イル)メチル]−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドが2.5%あり、その他が0.2%検出された。反応液を分液ロートにて二層分離後、有機層を5%硫酸水溶液100mlで洗浄し、続いて100mlの水で2回洗浄した。得られた溶液を溶媒留去して167.3gの粗有機物が得られた。この粗有機物を、理論段数25段の蒸留搭で減圧蒸留(13Pa)に付し、120℃〜130℃の留分を集めたところ、160.1gのN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物が得られた。ガスクロマトグラフィーにより組成を調べたところ、目的物である(endo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド、(exo)−N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの異性体混合物の合計が99.2%、塩素付加体であるN−[(6−クロロビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イル)メチル]−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドが0.6%、その他が0.2%であった。収率は75%であった。
このように、参考例1では、塩素付加体を除去するために、高い段数の蒸留塔が必要であり、それに伴い、目的物の単離収率も実施例(実施例7を除く実施例)に比べて若干低下した。
[参考例2]
式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物と式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミンとの反応を、非特許文献1にならって、溶媒を無水塩化メチレンとし、塩基をトリエチルアミンとし、実施例1と同様の条件、操作方法で行った。その結果、目的物の単離収率は79%であった。

Claims (11)

  1. 式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物
    Figure 0005076682
    と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン
    Figure 0005076682
    とを、水の存在下、および、「アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、またはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属含有の塩基性塩」から選ばれる塩基の存在下、反応させ、反応物を二層分離して得られた有機相を水洗することを特徴とする、式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド
    Figure 0005076682
    の製造方法。
  2. 式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物または水の何れか一方を、反応系内に逐次添加または連続添加することにより、反応を行うことを特徴とする、請求項1に記載の式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法。
  3. 非水溶性有機溶媒をさらに共存させて、反応を行うことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の方法。
  4. 塩基が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸水素二カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項1乃至請求項3の何れかに記載の方法。
  5. 塩基が炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項1乃至請求項3の何れかに記載の方法。
  6. 非水溶性有機溶媒がペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素からなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項3乃至請求項5の何れかに記載の方法。
  7. 水の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり、0.2g〜100gであることを特徴とする、請求項1乃至請求項6の何れかに記載の方法。
  8. 非水溶性有機溶媒の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり、0.5g〜100gであることを特徴とする、請求項3乃至請求項7の何れかに記載の方法。
  9. 反応を行う際の温度が、−10℃〜50℃であることを特徴とする、請求項1乃至請求項8の何れかに記載の方法。
  10. 式[1]で表されるトリフルオロメタンスルホン酸無水物
    Figure 0005076682
    と、式[2]で表される1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン
    Figure 0005076682
    とを、水の存在下、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、燐酸水素二ナトリウム、および燐酸水素二カリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の塩基の存在下、反応させ、反応物を二層分離して得られた有機相を水洗し、式[3]で表されるN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミド
    Figure 0005076682
    を製造する方法であって、トリフルオロメタンスルホン酸無水物以外の反応試薬を予め反応器に投入し、そこにトリフルオロメタンスルホン酸無水物を逐次または連続的に導入して反応を行い、反応の際、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり0.2g〜100gの水と、0.5g〜100gの非水溶性有機溶媒を共存させ、かつ、−10℃〜50℃で反応させる、ことを特徴とする、N−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法。
  11. 請求項10に記載のN−(ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメチル)−1,1,1−トリフルオロメタンスルホンアミドの製造方法であって、
    塩基の種類は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムからなる群より選ばれ、水の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり2g〜6gであり、なおかつ、非水溶性有機溶媒の量が、1−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−イルメタンアミン1gあたり2g〜5gであることを特徴とする、請求項10に記載の方法。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5239238B2 (ja) * 2006-07-26 2013-07-17 セントラル硝子株式会社 フルオロアルカンスルホンアミド誘導体の製造方法
JP5047030B2 (ja) * 2008-03-26 2012-10-10 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5401910B2 (ja) * 2008-10-17 2014-01-29 セントラル硝子株式会社 重合性アニオンを有する含フッ素スルホン塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP5471382B2 (ja) * 2008-12-26 2014-04-16 セントラル硝子株式会社 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法
US9223217B2 (en) 2010-02-19 2015-12-29 International Business Machines Corporation Sulfonamide-containing topcoat and photoresist additive compositions and methods of use
US9223209B2 (en) * 2010-02-19 2015-12-29 International Business Machines Corporation Sulfonamide-containing photoresist compositions and methods of use

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57130967A (en) * 1981-02-05 1982-08-13 Sumitomo Chem Co Ltd Trifluoromethanesulfonanilide derivative, its preparation and herbicide containing said derivative as active component
JPS56154452A (en) * 1980-04-11 1981-11-30 Sumitomo Chem Co Ltd Trifluoromethanesulfonanilide derivative, its salt and preparation and herbicide containing the same as active constituent
JPS60120863A (ja) * 1983-12-02 1985-06-28 Sumitomo Chem Co Ltd トリフルオロメタンスルホンアミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤
FR2628739B1 (fr) * 1988-03-17 1990-09-07 Atochem Procede de synthese d'arylsulfonylalkylamide
JP3117369B2 (ja) 1994-09-12 2000-12-11 セントラル硝子株式会社 スルホンイミドの製造方法
US5874616A (en) 1995-03-06 1999-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Preparation of bis (fluoroalkylenesulfonyl) imides and (fluoroalkysulfony) (fluorosulfonyl) imides
US5514493A (en) 1995-03-06 1996-05-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Perfluoroalkylsulfonates, sulfonimides, and sulfonyl methides, and electrolytes containing them
JP3169168B2 (ja) * 1996-04-23 2001-05-21 セントラル硝子株式会社 トリフルオロメタンスルホンアニリド誘導体の製造方法
JPH11209338A (ja) 1998-01-20 1999-08-03 Central Glass Co Ltd スルホンイミドの製造方法
US6235849B1 (en) * 1999-02-05 2001-05-22 The B. F. Goodrich Company Method of preparing norbornene sulfonamide polymers
DE50311954D1 (de) * 2002-06-17 2009-11-12 Saltigo Gmbh Verfahren zur Herstellung von mono-N-sulfonylierten Diaminen
JP2004091429A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Fuji Photo Film Co Ltd スルホンアミド化合物の製造方法
JP2004269491A (ja) * 2003-02-21 2004-09-30 Kanto Denka Kogyo Co Ltd パーフルオロアルキルイミド化合物の製造方法
JP2005222040A (ja) * 2003-12-30 2005-08-18 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Si−成分を含むフォトレジスト組成物
JP4736474B2 (ja) * 2004-03-02 2011-07-27 セントラル硝子株式会社 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法
JP4960614B2 (ja) * 2005-08-12 2012-06-27 セントラル硝子株式会社 α−置換アクリル酸ノルボルナニル類及びその製造方法、並びにそれを用いた共重合体
US20080027246A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Andrew Bell Process for forming perfluorinated-alkyl sulfonamide substituted norbornene-type monomers
JP5239238B2 (ja) * 2006-07-26 2013-07-17 セントラル硝子株式会社 フルオロアルカンスルホンアミド誘導体の製造方法

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