JP2004269491A - パーフルオロアルキルイミド化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
ルイス酸触媒及び有機イオン伝導体等として有用な物質であるパーフルオロアルキルイミド化合物の簡便且つ効率的な工業的製法を提供する。
【解決手段】
パーフルオロアルキルカルボン酸無水物及びパーフルオロアルキルスルホン酸無水物からなる群より選択される1種以上の化合物と;第一アミンと;第三アミン、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;を反応させる工程を含む製造方法により、パーフルオロアルキルイミド塩 M[Rf 1Y1−N−Y2Rf 2](式中、Mは一価の陽イオンであり;Rf 1及びRf 2はパーフルオロアルキル基であって、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基であって、同じであっても異なってもよい)を製造する。
Description
(1) パーフルオロアルキルスルホニルハライドとN−トリメチルシリルパーフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩とを反応させる方法(例えば、特許文献1及び2参照)。
(RfSO2)2NLi+2Me3SiX
(式中、Xはハロゲンを表す)
(2) パーフルオロアルキルスルホニルフルオライドとパーフルオロアルキルスルホンアミドのアルカリ金属塩とを反応させる方法(例えば、非特許文献1参照)。
(3) 無水パーフルオロアルキルスルホン酸と尿素又はアンモニウムハロゲン化物とを反応させる方法(例えば、特許文献3参照)。
(RfSO2)2O+NH4X → (RfSO2)2NH+H2O+HX
(式中、Xはハロゲンを表す。)
(4) パーフルオロアルキルスルホニルハライドと金属窒化物とを反応させる方法(例えば、特許文献4参照)。
(式中、Xはハロゲンを表す)
(5) パーフルオロアルキルスルホニルハライドとアンモニアとを第3アミン又は複素環式アミンの存在下で反応させる方法(例えば、特許文献5〜8参照)。
→(RfSO2)2NNHR1R2R3+2R1R2R3NHX
(式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5までのアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく、Xはハロゲンを表す。)
(6) パーフルオロアルキルスルホニルハライドとパーフルオロアルキルスルホンアミドとを第3アミン又は複素環式アミンの存在下で反応させる方法(例えば、特許文献5参照)。
→(RfSO2)2NH+R1R2R3NHX
(式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5までのアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく、Xはハロゲンを表す。)
(7) ビス(パーフルオロアルキルチオ)アミンを次亜塩素酸ナトリウムで酸化する方法(例えば、非特許文献2参照)。
→(RfSO2)2NNa+HCl+3NaCl
(8) パーフルオロアルキルハライドとビス(クロロスルホニル)イミドとを0価の金属の存在下で反応させる方法(例えば、特許文献9参照)。
→(RfSO2)2NM1+M2X2+M2Cl2
(式中、Xはハロゲンを、M1は1価の陽イオンを表す。M2は左辺では0価の金属であり、反応により酸化され、右辺では2価の陽イオンとなる。)
(9)パーフルオロアルキルカルボン酸無水物とイソシアン酸とを反応させる方法(例えば、非特許文献3参照)。
(RfCO2)2O+HNCO → (RfCO2)2NH+CO2
(10) パーフルオロアルキルスルホニルイソシアネート又はパーフルオロアルキルカルボニルイソシアネートとパーフルオロアルキルカルボンチオール酸とを反応させる方法(例えば、非特許文献4参照)。
(式中、YはSO2基又はCO基を表す。)
しかしながら、(1)〜(4)、(5)の一部、及び(6)は加圧条件下で、(5)の一部及び(8)は加熱条件下で反応を行う必要がある。また、(4)は不安定な金属窒化物を、(7)は腐食性の酸化物を用いる必要があり、操作が煩雑である。さらに、(1)、(3)〜(5)、及び(7)〜(9)は1段階反応であるため、目的物が非対称である場合には選択率が低下するという問題が生じる。上記の例の中で(10)は唯一、穏和な条件で非対称の目的イミド化合物も合成し得る方法であるが、前駆体であるイソシアネートの合成が困難であるという問題がある。
M[Rf 1Y1−N−Y2Rf 2] (VII)
(式中、Mは一価の陽イオンであり;Rf 1及びRf 2は、炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよい)
で表されるパーフルオロアルキルイミド塩について、従来の製造方法では工業上で問題があるため、温和な条件下での簡便な装置による製造方法が求められている。特に非対称のイミド化合物(Rf 1Y1≠Rf 2Y2であるイミド化合物)について、従来の製造方法では選択性が低く、満足のいく方法が見あたらないのが実情である。
(式中、Rf 1及びRf 2は炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよく;Arは置換又は無置換の芳香環を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミドの製造方法であって、
酸無水物 (Rf 1Y1)2O (IIa) (式中、Rf 1及びY1は式(I)と同じ基を表す)と;
酸無水物 (Rf 2Y2)2O (IIb) (式中、Rf 2及びY2は式(I)と同じ基を表す)と;
第1アミン ArCH2NH2 (III) (式中、Arは式(I)と同じ基を表す)と;
第3アミン R1R2R3N (IV)(式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5のアルキル基を表し、同じであっても異なってもよい)、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、パーフルオロアルキルイミド(I)の製造方法により解決される。Rf 1及びRf 2が同一であり、Y1及びY2が同一であってもよい。
酸無水物 (Rf 1Y1)2O (IIa)と;
第1アミン ArCH2NH2 (III)と;
第3アミン R1R2R3N (IV)、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、パーフルオロアルキルアミド (V)の製造方法により解決する。
パーフルオロアルキルアミド ArCH2NH(Y1Rf 1) (V)と;
酸無水物 (Rf 2Y2)2O (IIb)と;
第3アミン R1R2R3N (IV)、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、パーフルオロアルキルイミド(I)の製造方法により解決する。なお、パーフルオロアルキルアミド(V)として、上記のように第1アミン(III)を原料として製造したものを用いることができる。
M[Rf 1Y1−N−Y2Rf 2] (VII)
で表されるパーフルオロアルキルイミド塩、及び式(VI):
Rf 1Y1−NH−Y2Rf 2 (VI)
で表されるパーフルオロアルキルイミドが含まれる。式中、Mは一価の陽イオンであれば特に制限はないが、例えばLi+、Na+、K+といったアルカリ金属イオン;Me4N+、Et4N+、Et3MeN+、n−Bu4N+、及びt−Bu4N+といったR4N+(Rは炭素数1から6のアルキル基)で表される4級アンモニウムイオンが挙げられる。Rf 1及びRf 2は炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよい。Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよい。
(RfY)2O (II)
(Rfは炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基であり、YはCO基又はSO2基である)
で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸無水物及びパーフルオロアルキルカルボン酸無水物からなる群より選択される1種以上の酸無水物、好ましくは2種の酸無水物を加え、一工程とすることができる。
還元反応に触媒を用いると、より温和な条件下で反応を進行させることができる。還元反応に使用される触媒に特に制限はないが、パラジウム含有触媒といった貴金属系の触媒が好ましく、さらに好ましくは、パラジウム担持活性炭やパラジウム担持アルミナ等が挙げられる。パーフルオロアルキルイミド(I)は水分に対して不安定であり、水分が存在すると副生成物を形成しやすいため、水分含有量の低い触媒が好ましい。パラジウム担持アルミナは、水分含有量が低いものを入手し易いという点で有利である。
式(I)のイミド(ArCH2N(Y1Rf 1)(Y2Rf 2))は無溶媒で自発的に分解して、式(VI)のイミド(Rf 1Y1−NH−Y2Rf 2)を与える場合もある。例えば、空気中の水及び/又は酸素と反応して式(VI)のイミドが生成しうる。
式(VI)のパーフルオロアルキルイミド(Rf 1Y1−NH−Y2Rf 2)は、M+とのカチオン交換により、式(VII)のパーフルオロアルキルイミド塩(M[Rf 1Y1−N−Y2Rf 2])とすることができる。M+源としてはMの水酸化物、酸化物、炭酸塩、ハロゲン化物、水素化物等を用いることができる。例えばMがLiである場合、水酸化リチウム、炭酸リチウム、塩化リチウム、水素化リチウム、又はそれらの組み合わせを使用することができ、特に水素化リチウムには、副生成物の生成が少ないという利点がある。上記のスキームでは工程(d)として炭酸リチウムの例を示した。
<実施例1> N−ベンジルトリフルオロメタンスルホンアミドの製造
100mLのガラス反応器にトリフルオロメタンスルホン酸無水物5.6 g (20 mmol, 1 eq)を仕込み、室温で撹拌しながら、ベンジルアミン2.1g (20mmol, 1 eq)とトリエチルアミン2.0 g (20mmol, 1 eq)とを塩化メチレン10gに溶解した溶液を徐々に滴下した。1時間撹拌した後、反応液を水100 mLで2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別した後、減圧下で濾液から溶媒を留去して、N−ベンジルトリフルオロメタンスルホンアミド:PhCH2NHSO2CF3 4.5 g (収率 95%: ベンジルアミン基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
1H NMR (CDCl3, δ) 4.38 (s, 2H), 3.88 (br., 1H), 7.29-7.38 (m, 5H)
13C NMR (CDCl3, δ) 48.5, 120.1 (q, J=320 Hz), 128.1, 128.8, 129.3, 135.9
19F NMR (CDCl3, δ) -77.6 (s)
MS(EI) m/e 69 (CF3+・), 77 (C6H5+・), 91 (C6H5CH2+・), 104 (C6H5CHN+・), 105 (C6H5CH2N+・), 106 (M+・- SO2CF3), 170 (M+・- CF3), 239 (M+・)
<実施例2> N−ベンジルビストリフルオロメタンスルホンイミドの製造
100mLのガラス反応器にトリフルオロメタンスルホン酸無水物6.4 g (23 mmol, 1.2 eq)を仕込み、氷水浴上で撹拌しながら、実施例1で得たN−ベンジルトリフルオロメタンスルホンアミド4.5 g (19 mmol)とトリエチルアミン1.9 g (19 mmol, 1 eq)とを塩化メチレン10gに溶解した溶液を徐々に滴下した。2時間撹拌した後、反応液を水100 mLで2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別した後、減圧下で濾液から溶媒を留去して、N−ベンジルトリフルオロメタンスルホンイミド:PhCH2N(SO2CF3)2 6.2 g (収率 88%:N−ベンジルトリフルオロメタンスルホンアミド基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
1H NMR (CDCl3, δ) 5.08 (s, 2H), 7.3-7.5 (m, 5H)
13C NMR (CDCl3, δ) 56.9, 119.1 (q, J=323 Hz), 129.2, 130.1, 130.1, 132.0
19F NMR (CDCl3, δ) -72.6
MS(EI) m/e 69 (CF3+・), 77 (C6H5+・), 91 (C6H5CH2+・), 104 (C6H5CHN+・), 238 (M+・ - SO2CF3), 302 (M+・- CF3), 371 (M+・)
<実施例3> ビストリフルオロメタンスルホンイミドの製造
実施例2で得たN−ベンジルビストリフルオロメタンスルホンイミド 6.6 g (18 mmol)を空気中で3日間静置し、分解させた。分解生成物を減圧蒸留し、ビストリフルオロメタンスルホンイミド:HN(SO2CF3) 2.8 g (収率59 %:N−ベンジルビストリフルオロメタンスルホンイミド基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
13C NMR (CDCl3, δ) 119.9 (q, J=319 Hz)
19F NMR (CDCl3, δ) -79.6 (s)
MS(EI) m/e 69 (CF3+・), 148 (M+・- SO2CF3), 212 (M+・- CF3)
<実施例4> リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミドの製造
実施例2で得たN−ベンジルビストリフルオロメタンスルホンイミド5.6 g (15 mmol)を空気中で3日間静置し、分解させた。分解生成物を混合物のままテトラヒドロフラン 10 mLに溶解し、100 mLガラス反応器中、室温で撹拌しながら炭酸リチウム 1.4 g (19 mmol 2.4 eq)を徐々に加えた。30分間撹拌した後に濾過して、未溶解の炭酸リチウムを除去した。濾液から減圧下で溶媒を留去した後、塩化メチレンを加えた。晶析した結晶を濾別した後、150℃で乾燥を行い、水分 100 ppm以下のリチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド:LiN(SO2CF3)2 3.6 g(収率 78%:N−ベンジルビストリフルオロメタンスルホンイミド基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
融点 236-239℃
13C NMR (DMSO-d6, δ) 120.2 (q, J=320 Hz)
19F NMR (DMSO-d6, δ) -79.2
<実施例5> N−ベンジルトリフルオロアセトアミドの製造
50 mLガラス反応器にトリフルオロ酢酸無水物 2.1 g (10 mmol, 2 eq)を仕込み、室温で撹拌しながら、ベンジルアミン 0.5 g (5 mmol)とトリエチルアミン 0.5 g (5 mmol, 1 eq)とを塩化メチレン 3 gに溶解した溶液を徐々に滴下した。2時間撹拌した後、反応液を水50 mlで2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過して硫酸マグネシウムを除去した後、濾液から減圧下で溶媒を留去して、N−ベンジルトリフルオロアセトアミド:PhCH2NH(COCF3)2 0.9 g (収率 89%:ベンジルアミン基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
1H NMR (CDCl3, δ) 4.4 (d, J=5.5 Hz, 2H), 7.3-7.5 (m, 5H), 7.5 (br., 1H)
13C NMR (CDCl3, δ) 44.0, 116.2 (q, J=286 Hz), 128.1, 128.4, 129.1 136.4, 157.8 (q, J=37 Hz)
19F NMR (CDCl3, δ) -76.2
MS(EI) m/e 69 (CF3+・), 77 (C6H5+・), 91 (C6H5CH2+・), 134 (M+・- CF3), 203 (M+・)
<実施例6> N−ベンジル(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミドの製造
50 mLガラス反応器にトリフルオロ酢酸無水物 1.3 g (6 mmol, 1.2 eq)を仕込み、水浴上で撹拌しながら、実施例1で得たN−ベンジルトリフルオロメタンスルホンアミド 1.2 g (5 mmol) とトリエチルアミン 0.5 g (5 mmol, 1 eq)とを塩化メチレン5 gに溶解した溶液を徐々に滴下した。0.5時間撹拌した後、減圧下で溶媒を留去して黄色オイルを得た。n−ヘキサンで抽出した後、減圧下でn−ヘキサンを留去して、N−ベンジル(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド:PhCH2N(SO2CF3)(COCF3)2 1.5 g (収率 87%:N−ベンジルトリフルオロメタンスルホンアミド基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
1H NMR (CDCl3, δ) 5.1 (s, 2H), 7.2-7.4 (m, 5H)
13C NMR (CDCl3, δ) 53.1, 115.0(q, J=286 Hz, -COCF3), 119.5 (q, J=323 Hz, -SO2 CF3), 128.0, 129.2, 129.3, 133.3, 157.6 (q, J=43 Hz, -CO-)
19F NMR (CDCl3, δ) -69.4 (3F), -72.5 (3F)
MS(EI) m/e 69 (CF3+・), 91 (C6H5CH2+・), 132 (C6H5CHNCO+・), 202 (M+・- SO2CF3)
<実施例7> (トリフルオロアセチル)(トリフロオロメタンスルホニル)イミドの製造
50 mLガラス反応器に、実施例6で得たN−ベンジル(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド 1.2 g (3.6 mmol)、テトラヒドロフラン 10 mL、及び5%パラジウム担持活性炭0.1 gを仕込んで、水素を充填した風船を取り付けた。内部を水素で置換した後、室温で2時間撹拌した。反応終了後、パラジウム担持活性炭を濾別し、濾液から溶媒を減圧下留去して、(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド:HN(SO2CF3)(COCF3)2 0.8 g (収率 90%:N−ベンジル(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
19F NMR (CDCl3, δ) -77.1 (3F), -79.0 (3F)
MS(EI) m/e 69 (CF3+・), 112 (CF3CONH+・), 176 (M+・- CF3)
<実施例8> パラジウム担持活性炭に代えてパラジウム担持アルミナを使用した点を除き、実施例7と同様にして(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド:HN(SO2CF3)(COCF3)2 0.8 gを得た。N−ベンジル(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを基準とした収率は90%であった。
<実施例9> リチウム(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミドの製造
実施例7で得た(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド 0.5 g (2mmol)をテトラヒドロフラン 5mLに溶解し、50mLガラス反応器中に加えた。該溶液を室温で撹拌しながら、炭酸リチウム 0.2 g (2.5 mmol, 2.4 eq)を徐々に加えた。30分間撹拌した後、反応液を濾過して、未溶解炭酸リチウムを除去した。濾液から減圧下溶媒を留去した後、塩化メチレンを加えた。晶析した結晶を濾別して、リチウム(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド:LiN(SO2CF3)(COCF3)2 0.4 g (収率 80%:(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド基準)を得た。得られた物質の物性値は以下の通りであった。
13C NMR (DMSO-d6, δ) 117.1 (q, J=289 Hz, -COCF3), 120.3 (q, J=321 Hz, -SO2 CF3), 160.8 (q, J=35 Hz, -CO-)
19F NMR (DMSO-d6, δ) -75.5 (3F), -79.1 (3F)
<実施例10> 炭酸リチウム 0.2 g (2.5 mmol, 2.4 eq)に代えて水素化リチウム 14 mg (1.8 mmol, 0.9 eq)を使用した点を除き、実施例9と同様にしてリチウム(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミド:LiN(SO2CF3)(COCF3)2 0.4gを得た。(トリフルオロアセチル)(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを基準とした収率80%であった。
[発明の効果]
Claims (10)
- 式(I):
ArCH2N(Y1Rf 1)(Y2Rf 2) (I)
(式中、Rf 1及びRf 2は炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよく;Arは置換又は無置換の芳香環を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミドの製造方法であって、
式(IIa):
(Rf 1Y1)2O (式中、Rf 1及びY1は式(I)と同じ基を表す)
で表される酸無水物と;
式(IIb)
(Rf 2Y2)2O (式中、Rf 2及びY2は式(I)と同じ基を表す)
で表される酸無水物と;
式(III):
ArCH2NH2 (式中、Arは式(I)と同じ基を表す)
で表される第1アミンと;
式(IV):
R1R2R3N (式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5のアルキル基を表し、同じであっても異なってもよい)
で表される第3アミン、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、式(I)のパーフルオロアルキルイミドの製造方法。 - Rf 1及びRf 2が同一であり、Y1及びY2が同一である請求項1記載の製造方法。
- 一般式(V):
ArCH2NH(Y1Rf 1) (V)
(式中、Rf 1は炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基であり;Y1はCO基又はSO2基であり;Arは置換又は無置換の芳香環を表す)
で表されるパーフルオロアルキルアミドの製造方法であって、
式(IIa):
(Rf 1Y1)2O (式中、Rf 1及びY1は式(V)と同じ基を表す)
で表される酸無水物と;
式(III):
ArCH2NH2 (式中、Arは式(V)と同じ基を表す)
で表される第1アミンと;
式(IV):
R1R2R3N (式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5のアルキル基を表し、同じであっても異なってもよい)
で表される第3アミン、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、式(V)のパーフルオロアルキルアミドの製造方法。 - 式(I):
ArCH2N(Y1Rf 1)(Y2Rf 2) (I)
(式中、Rf 1及びRf 2は、炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよく;Arは置換又は無置換の芳香環を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミドの製造方法であって、
一般式(V):
ArCH2NH(Y1Rf 1)
(式中、Rf 1、Y1、及びArは式(I)と同じ基を表す)
で表されるパーフルオロアルキルアミドと;
式(IIb):
(Rf 2Y2)2O (式中、Rf 2及びY2は式(I)と同じ基を表す)
で表される酸無水物と;
式(IV):
R1R2R3N (式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5のアルキル基を表し、同じであっても異なってもよい)
で表される第3アミン、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、式(I)のパーフルオロアルキルイミドの製造方法。 - 式(I):
ArCH2N(Y1Rf 1)(Y2Rf 2) (I)
(式中、Rf 1及びRf 2は、炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよく;Arは置換又は無置換の芳香環を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミドの製造方法であって、
請求項3に記載の方法によって得た式(V)のパーフルオロアルキルアミドと;
式(IIb):
(Rf 2Y2)2O (式中、Rf 2及びY2は式(I)と同じ基を表す)
で表される酸無水物と;
式(IV):
R1R2R3N (式中、R1、R2、及びR3は炭素数1から5のアルキル基を表し、同じであっても異なってもよい)
で表される第3アミン、複素環式アミン、又は芳香族アミンと;
を溶媒中又は無溶媒で反応させる工程を含む、式(I)のパーフルオロアルキルイミドの製造方法。 - 式(I):
ArCH2N(Y1Rf 1)(Y2Rf 2) (I)
(式中、Rf 1及びRf 2は、炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよく;Arは置換又は無置換の芳香環を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミドを溶媒中又は無溶媒で酸化、還元、又は加水分解する工程を含む、式(VI):
Rf 1Y1−NH−Y2Rf 2 (VI)
(式中、Rf 1、Rf 2、Y1、Y2、及びArは式(I)中と同一の基を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミド(VI)の製造方法。 - 請求項1、2、4、又は5記載の方法によって得た式(I)のパーフルオロアルキルイミドを溶媒中又は無溶媒で酸化、還元、又は加水分解する工程を含む、式(VI):
Rf 1Y1−NH−Y2Rf 2 (VI)
(式中、Rf 1、Rf 2、Y1、Y2、及びArは式(I)中と同一の基を表す)
で表されるパーフルオロアルキルイミド(VI)の製造方法。 - 式(I)のパーフルオロアルキルイミドを溶媒中又は無溶媒で還元する工程においてパラジウム担持活性炭又はパラジウム担持アルミナを使用する、請求項6又は7に記載の式(VI)のパーフルオロアルキルイミドの製造方法。
- 請求項6〜8の何れかに記載の方法で得られた式(VI):
Rf 1Y1−NH−Y2Rf 2 (VI)
(式中、Rf 1及びRf 2は、炭素数1から6の直鎖又は分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、同じであっても異なってもよく;Y1及びY2はCO基又はSO2基を表し、同じであっても異なってもよい)
で表されるパーフルオロアルキルイミドをカチオン交換する工程を含む、式(VII):
M[Rf 1Y1−N−Y2Rf 2] (VII)
(式中、Mは一価の陽イオンであり;Rf 1、Rf 2、Y1、及びY2は式(VI)中と同一である)
で表されるパーフルオロアルキルイミド塩の製造方法。 - 式(VI)のパーフルオロアルキルイミドをカチオン交換する工程において水酸化リチウム、酸化リチウム、炭酸リチウム、塩化リチウム、水素化リチウム、又はそれらの組み合わせを使用する、請求項9に記載の式(VII)パーフルオロアルキルイミド塩の製造方法。
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