JP5075283B1 - 有機薄膜太陽電池 - Google Patents
有機薄膜太陽電池 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5075283B1 JP5075283B1 JP2012063910A JP2012063910A JP5075283B1 JP 5075283 B1 JP5075283 B1 JP 5075283B1 JP 2012063910 A JP2012063910 A JP 2012063910A JP 2012063910 A JP2012063910 A JP 2012063910A JP 5075283 B1 JP5075283 B1 JP 5075283B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- type semiconductor
- solar cell
- photoelectric conversion
- layer
- organic thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 203
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 73
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 41
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 21
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 19
- YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneantimony Chemical group [Sb]=S YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 7
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- MHIITNFQDPFSES-UHFFFAOYSA-N 25,26,27,28-tetrazahexacyclo[16.6.1.13,6.18,11.113,16.019,24]octacosa-1(25),2,4,6,8(27),9,11,13,15,17,19,21,23-tridecaene Chemical class N1C(C=C2C3=CC=CC=C3C(C=C3NC(=C4)C=C3)=N2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 MHIITNFQDPFSES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 12
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 9
- -1 polyparaphenylene vinylene Polymers 0.000 description 9
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 9
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 5
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 5
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N tin(ii) sulfide Chemical compound [Sn]=S AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLOHLDVJGPUFR-UHFFFAOYSA-L calcium;3,4,5,6-tetrahydroxy-2-oxohexanoate Chemical compound [Ca+2].OCC(O)C(O)C(O)C(=O)C([O-])=O.OCC(O)C(O)C(O)C(=O)C([O-])=O NNLOHLDVJGPUFR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N [Mg].[In] Chemical compound [Mg].[In] JHYLKGDXMUDNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001989 lithium alloy Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002964 pentacenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- NBFBORAIBRIYGM-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione;thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1.C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 NBFBORAIBRIYGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- GKCNVZWZCYIBPR-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneindium Chemical compound [In]=S GKCNVZWZCYIBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSANLGASBHUYGD-UHFFFAOYSA-N sulfidophosphanium Chemical class S=[PH3] WSANLGASBHUYGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/20—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising organic-organic junctions, e.g. donor-acceptor junctions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/10—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising heterojunctions between organic semiconductors and inorganic semiconductors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/30—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains
- H10K30/35—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising bulk heterojunctions, e.g. interpenetrating networks of donor and acceptor material domains comprising inorganic nanostructures, e.g. CdSe nanoparticles
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/381—Metal complexes comprising a group IIB metal element, e.g. comprising cadmium, mercury or zinc
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/649—Aromatic compounds comprising a hetero atom
- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6572—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only nitrogen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. phenanthroline or carbazole
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02568—Chalcogenide semiconducting materials not being oxides, e.g. ternary compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/10—Transparent electrodes, e.g. using graphene
- H10K2102/101—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
- H10K2102/103—Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO] comprising indium oxides, e.g. ITO
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
- H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/371—Metal complexes comprising a group IB metal element, e.g. comprising copper, gold or silver
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Abstract
【課題】光電変換効率が高く、耐久性に優れた有機薄膜太陽電池を提供する。
【解決手段】光電変換層を有する有機薄膜太陽電池であって、前記光電変換層においては、N型半導体とP型半導体とが互いに接しており、前記N型半導体は、周期表15族元素の硫化物を含有し、前記P型半導体は、有機半導体である有機薄膜太陽電池。
【選択図】なし
【解決手段】光電変換層を有する有機薄膜太陽電池であって、前記光電変換層においては、N型半導体とP型半導体とが互いに接しており、前記N型半導体は、周期表15族元素の硫化物を含有し、前記P型半導体は、有機半導体である有機薄膜太陽電池。
【選択図】なし
Description
本発明は、光電変換効率が高く、耐久性に優れた有機薄膜太陽電池に関する。
従来から、N型半導体層とP型半導体層とを積層し、この積層体の両側に電極を設けた光電変換素子が開発されている。また、このような積層体の代わりに、N型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜を用いることも検討されている。このような光電変換素子では、光励起によりP型半導体又はN型半導体で光キャリア(電子−ホール対)が生成し、電子がN型半導体を、ホールがP型半導体を移動することで、電界が生じる。
現在、実用化されている光電変換素子の多くは、N型半導体及びP型半導体としてシリコン等の無機半導体を用いて製造される無機太陽電池である。しかしながら、無機太陽電池は製造にコストがかかるうえ大型化が困難であり、利用範囲が限られてしまうことから、無機半導体の代わりに有機半導体を用いて製造される有機太陽電池が注目されている。
有機半導体のうち、P型半導体は多くの種類が知られている。一方、一般的に有機半導体には優秀なN型半導体が少なく、ほとんどの場合フラーレンが用いられている。例えば、特許文献1には、P型半導体となる有機化合物とフラーレン類とを用いて形成された半導体ヘテロ接合膜が記載されている。しかしながら、フラーレンを用いて製造される有機太陽電池において、その劣化の原因はフラーレンであることが知られており(例えば、非特許文献1参照)、N型半導体としてフラーレンよりも耐久性の高い材料を選択することが求められている。
また、P型半導体として有機半導体を用いつつ、N型半導体のみを無機半導体とする有機太陽電池も検討されており、無機半導体として、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン等が用いられている。このような有機太陽電池として、例えば、特許文献2には、有機電子供与体と化合物半導体結晶とを含有する活性層を二つの電極の間に設けた有機太陽電池が記載されている。しかしながら、N型半導体として酸化亜鉛、酸化チタン等を用いても、充分な耐久性は得られず、また、フラーレンを用いた場合と比べて光電変換効率が低下するという問題もある。
Reese et al.,Adv.Funct.Mater.,20,3476−3483(2010)
本発明は、光電変換効率が高く、耐久性に優れた有機薄膜太陽電池を提供することを目的とする。
本発明は、光電変換層を有する有機薄膜太陽電池であって、前記光電変換層においては、N型半導体とP型半導体とが互いに接しており、前記N型半導体は、周期表15族元素の硫化物を含有し、前記P型半導体は、有機半導体であり、前記P型半導体を構成する有機半導体は、ポリチオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体又はベンゾポルフィリン誘導体である有機薄膜太陽電池である。
以下、本発明を詳述する。
以下、本発明を詳述する。
本発明者は、光電変換層を有する有機薄膜太陽電池において、光電変換層のN型半導体として周期表15族元素の硫化物を用い、かつ、P型半導体として有機半導体を用いることにより、高い光電変換効率を維持しつつ耐久性を向上させることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明の有機薄膜太陽電池は、光電変換層を有するものであり、該光電変換層においては、N型半導体とP型半導体とが互いに接している。
このような光電変換層においては、光励起によりP型半導体又はN型半導体で光キャリア(電子−ホール対)が生成し、電子がN型半導体を、ホールがP型半導体を移動することで、電界が生じる。
このような光電変換層においては、光励起によりP型半導体又はN型半導体で光キャリア(電子−ホール対)が生成し、電子がN型半導体を、ホールがP型半導体を移動することで、電界が生じる。
上記N型半導体は、周期表15族元素の硫化物を含有する。また、上記P型半導体は、有機半導体である。
周期表15族元素の硫化物は耐久性が高いことから、N型半導体として周期表15族元素の硫化物を用いることにより、本発明の有機薄膜太陽電池は、耐久性に優れたものとなる。また、P型半導体として有機半導体を用いることにより、本発明の有機薄膜太陽電池は、耐衝撃性、フレキシビリティ等にも優れたものとなる。
また、N型半導体とP型半導体とがこのような組み合わせであることにより、本発明の有機薄膜太陽電池は電荷分離効率が極めて高くなり、光電変換効率が高くなる。また、N型半導体とP型半導体とがいずれも無機半導体である場合はこれらの固溶体が界面で析出する可能性があるのに対し、本発明の有機薄膜太陽電池においては固溶体の析出がなく、高温時においても高い安定性を得ることができる。
周期表15族元素の硫化物は耐久性が高いことから、N型半導体として周期表15族元素の硫化物を用いることにより、本発明の有機薄膜太陽電池は、耐久性に優れたものとなる。また、P型半導体として有機半導体を用いることにより、本発明の有機薄膜太陽電池は、耐衝撃性、フレキシビリティ等にも優れたものとなる。
また、N型半導体とP型半導体とがこのような組み合わせであることにより、本発明の有機薄膜太陽電池は電荷分離効率が極めて高くなり、光電変換効率が高くなる。また、N型半導体とP型半導体とがいずれも無機半導体である場合はこれらの固溶体が界面で析出する可能性があるのに対し、本発明の有機薄膜太陽電池においては固溶体の析出がなく、高温時においても高い安定性を得ることができる。
なお、光電変換層は、N型半導体とP型半導体とが互いに接していればよく、N型半導体層とP型半導体層とを含む積層体であってもよいし、N型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜であってもよいが、有機半導体の電荷分離効率を向上させることができるため、複合膜であることがより好ましい。
上記周期表15族元素の硫化物は、硫化アンチモン、硫化ビスマスであることが好ましく、硫化アンチモンであることがより好ましい。硫化アンチモンは、P型半導体である有機半導体とのエネルギー準位の相性がよく、かつ、従来の酸化亜鉛、酸化チタン等より可視光に対する吸収が大きい。このため、上記周期表15族元素の硫化物が硫化アンチモンであることにより、有機薄膜太陽電池は、光電変換効率が高くなる。これらの周期表15族元素の硫化物は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記周期表15族元素の硫化物は、周期表15族元素の2種以上の元素を同一の分子に含有する複合硫化物であってもよい。
上記周期表15族元素の硫化物は、周期表15族元素の2種以上の元素を同一の分子に含有する複合硫化物であってもよい。
上記N型半導体は、本発明の効果を阻害しない範囲内であれば、上記周期表15族元素の硫化物に加えて他の元素を含有していてもよい。上記他の元素は特に限定されないが、周期表の第4周期、第5周期及び第6周期に属する元素が好ましく、具体的には例えば、インジウム、ガリウム、スズ、カドミウム、銅、亜鉛、アルミニウム、ニッケル、銀、チタン、バナジウム、ニオブ、モリブデン、タンタル、鉄、コバルト等が挙げられる。これらの他の元素は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。なかでも、電子の移動度が高くなることから、インジウム、ガリウム、スズ、カドミウム、亜鉛、銅が好ましい。
上記他の元素の含有量は、上記N型半導体中の好ましい上限が50重量%である。上記含有量が50重量%を超えると、N型半導体と、P型半導体である有機半導体との相性が悪くなり、光電変換効率が低下することがある。
上記N型半導体は、結晶性半導体であることが好ましい。N型半導体が結晶性半導体であることにより、電子の移動度が高くなり、光電変換効率が高くなる。
なお、結晶性半導体とは、X線回折測定等で測定し、散乱ピークが検出できる半導体を意味する。
なお、結晶性半導体とは、X線回折測定等で測定し、散乱ピークが検出できる半導体を意味する。
また、上記N型半導体の結晶性の指標として、結晶化度を用いることもできる。上記N型半導体の結晶化度は、好ましい下限が30%である。上記結晶化度が30%未満であると、電子の移動度が低くなり、光電変換が低下することがある。上記結晶化度のより好ましい下限は50%、更に好ましい下限は70%である。
なお、結晶化度は、X線回折測定等により検出された結晶質由来の散乱ピークと、非晶質部由来のハローとをフィッティングにより分離し、それぞれの強度積分を求めて、全体のうちの結晶質部分の比を算出することにより求めることができる。
なお、結晶化度は、X線回折測定等により検出された結晶質由来の散乱ピークと、非晶質部由来のハローとをフィッティングにより分離し、それぞれの強度積分を求めて、全体のうちの結晶質部分の比を算出することにより求めることができる。
上記N型半導体の結晶化度を高める方法として、例えば、N型半導体に対して、熱アニール、レーザー又はフラッシュランプ等の強度の強い光の照射、エキシマ光照射、プラズマ照射等を行う方法が挙げられる。なかでも、上記周期表15族元素の硫化物の酸化を低減できることから、強度の強い光の照射、プラズマ照射等を行う方法が好ましい。
上記有機半導体は特に限定されず、例えば、ポリ(3−アルキルチオフェン)等のポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリアセチレン誘導体等の導電性高分子等が挙げられる。また、上記有機半導体として、例えば、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、ペンタセン誘導体、ベンゾポルフィリン誘導体等のポルフィリン誘導体等も挙げられる。なかでも、比較的耐久性が高いことから、ポリチオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、ベンゾポルフィリン誘導体が好ましい。
上記有機半導体は、長波長領域の光を吸収できることから、ドナー−アクセプター型であることがより好ましい。なかでも、ドナー−アクセプター型のポリチオフェン誘導体、ナフタロシアニン誘導体がより好ましく、ドナー−アクセプター型のポリチオフェン誘導体のなかでも、光吸収波長の観点から、チオフェン−ジケトピロロピロール重合体が特に好ましい。
本発明の有機薄膜太陽電池は、上述したような光電変換層を、一組の電極間に有することが好ましい。上記電極の材料は特に限定されず、従来公知の材料を用いることができるが、陽極材料として、例えば、金等の金属、CuI、ITO(インジウムスズ酸化物)、SnO2、AZO、IZO、GZO等の導電性透明材料、導電性透明ポリマー等が挙げられる。また、陰極材料として、例えば、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム、マグネシウム、アルミニウム、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金、Al/Al2O3混合物、Al/LiF混合物等が挙げられる。これらの材料は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本発明の有機薄膜太陽電池は、更に、基板、ホール輸送層、電子輸送層等を有していてもよい。上記基板は特に限定されず、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス等の透明ガラス基板、セラミック基板、透明プラスチック基板等が挙げられる。
上記ホール輸送層の材料は特に限定されず、例えば、P型導電性高分子、P型低分子有機半導体、P型金属酸化物、P型金属硫化物、界面活性剤等が挙げられ、具体的には例えば、ポリエチレンジオキシチオフェンのポリスチレンスルホン酸付加物、カルボキシル基含有ポリチオフェン、フタロシアニン、ポルフィリン、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化ニッケル、酸化銅、酸化スズ、硫化モリブデン、硫化タングステン、硫化銅、硫化スズ等、フルオロ基含有ホスホン酸、カルボニル基含有ホスホン酸等が挙げられる。
上記電子輸送層の材料は特に限定されず、例えば、N型導電性高分子、N型低分子有機半導体、N型金属酸化物、N型金属硫化物、ハロゲン化アルカリ金属、アルカリ金属、界面活性剤等が挙げられ、具体的には例えば、シアノ基含有ポリフェニレンビニレン、ホウ素含有ポリマー、バソキュプロイン、バソフェナントレン、ヒドロキシキノリナトアルミニウム、オキサジアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ナフタレンテトラカルボン酸化合物、ペリレン誘導体、ホスフィンオキサイド化合物、ホスフィンスルフィド化合物、フルオロ基含有フタロシアニン、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ガリウム、硫化スズ、硫化インジウム、硫化亜鉛等が挙げられる。
特に、本発明の有機薄膜太陽電池は、一組の電極間に、N型半導体層とP型半導体層とを含む光電変換層を有し、一方の電極とN型半導体層との間に更に電子輸送層を有することが好ましい。更に、一方の電極とN型半導体層との間に更に電子輸送層を、他方の電極とP型半導体層との間に更にホール輸送層を有することがより好ましい。
光電変換層がN型半導体層とP型半導体層とを含む積層体である場合の本発明の有機薄膜太陽電池の一例を図1に模式的に示す。図1に示す有機薄膜太陽電池1においては、基板2、透明電極(陽極)3、P型半導体層4、N型半導体層5、電子輸送層6、電極(陰極)7がこの順で積層されている。
光電変換層がN型半導体層とP型半導体層とを含む積層体である場合の本発明の有機薄膜太陽電池の一例を図1に模式的に示す。図1に示す有機薄膜太陽電池1においては、基板2、透明電極(陽極)3、P型半導体層4、N型半導体層5、電子輸送層6、電極(陰極)7がこの順で積層されている。
また、本発明の有機薄膜太陽電池は、一組の電極間に、N型半導体とP型半導体とを混合した複合化した複合膜である光電変換層を有し、一方の電極と光電変換層との間に更に電子輸送層を有することが好ましい。更に、一方の電極と光電変換層との間に更に電子輸送層を、他方の電極と光電変換層との間に更にホール輸送層を有することが好ましい。
光電変換層がN型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜である場合の本発明の有機薄膜太陽電池の一例を図2に模式的に示す。図2に示す有機薄膜太陽電池8においては、基板9、透明電極(陽極)10、ホール輸送層11、P型半導体部分12とN型半導体部分13との複合膜14、電子輸送層15、電極(陰極)16がこの順で積層されている。
光電変換層がN型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜である場合の本発明の有機薄膜太陽電池の一例を図2に模式的に示す。図2に示す有機薄膜太陽電池8においては、基板9、透明電極(陽極)10、ホール輸送層11、P型半導体部分12とN型半導体部分13との複合膜14、電子輸送層15、電極(陰極)16がこの順で積層されている。
上記N型半導体層の厚みは、好ましい下限が5nm、好ましい上限が5000nmである。上記厚みが5nm未満であると、充分に光を吸収することができず、光電変換効率が低下することがある。上記厚みが5000nmを超えると、電荷分離できない領域が発生してしまい、光電変換効率の低下につながることがある。上記N型半導体層の厚みのより好ましい下限は10nm、より好ましい上限は1000nmであり、更に好ましい下限は20nm、更に好ましい上限は500nmである。
上記P型半導体層の厚みは、好ましい下限が5nm、好ましい上限が1000nmである。上記厚みが5nm未満であると、充分に光を吸収することができず、光電変換効率が低下することがある。上記厚みが1000nmを超えると、電荷分離できない領域が発生してしまい、光電変換効率の低下につながることがある。上記P型半導体層の厚みのより好ましい下限は10nm、より好ましい上限は500nmであり、更に好ましい下限は20nm、更に好ましい上限は200nmである。
上記ホール輸送層の厚みは、好ましい下限は1nm、好ましい上限は200nmである。上記厚みが1nm未満であると、充分に電子をブロックできないことがある。上記厚みが200nmを超えると、ホール輸送の際の抵抗になり、光電変換効率が低下することがある。上記ホール輸送層の厚みのより好ましい下限は3nm、より好ましい上限は150nmであり、更に好ましい下限は5nm、更に好ましい上限は100nmである。
上記電子輸送層の厚みは、好ましい下限が1nm、好ましい上限が200nmである。上記厚みが1nm未満であると、充分にホールをブロックできないことがある。上記厚みが200nmを超えると、電子輸送の際の抵抗になり、光電変換効率が低下することがある。上記電子輸送層の厚みのより好ましい下限は3nm、より好ましい上限は150nmであり、更に好ましい下限は5nm、更に好ましい上限は100nmである。
また、上述したように光電変換層がN型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜である場合、上記光電変換層の厚みの好ましい下限は30nm、好ましい上限は3000nmである。上記厚みが30nm未満であると、充分に光を吸収することができず、光電変換効率が低下することがある。上記厚みが3000nmを超えると、電荷が電極に到達できなくなるため、光電変換効率の低下につながることがある。上記光電変換層の厚みのより好ましい下限は40nm、より好ましい上限は1000nmであり、更に好ましい下限は50nm、更に好ましい上限は500nmである。
上記光電変換層がN型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜である場合には、N型半導体とP型半導体との比率が非常に重要である。N型半導体とP型半導体との比率は、1:9〜9:1(体積比)であることが好ましい。上記比率が上記範囲から外れると、ホール又は電子が電極まで到達することができないことがあり、そのため光電変換効率の低下につながることがある。上記比率は、2:8〜8:2(体積比)であることがより好ましい。
本発明の有機薄膜太陽電池を製造する方法は特に限定されず、例えば、光電変換層がN型半導体層とP型半導体層とを含む積層体である場合、基板上に電極(陽極)を形成した後、この電極(陽極)の表面上にP型半導体層をスピンコート法等の印刷法により成膜し、次いで、このP型半導体層の表面上に真空蒸着法等によりN型半導体層を成膜し、更に、このN型半導体層の表面上に電極(陰極)を形成する方法等が挙げられる。また、基板上に電極(陰極)を形成した後、N型半導体層、P型半導体層、電極(陽極)をこの順で形成してもよい。
本発明の有機薄膜太陽電池を製造する際には、スピンコート法等の印刷法により安定的かつ簡便にP型半導体層を形成することができるため、P型半導体層の形成コストを削減することができる。上記N型半導体層を形成する際にも、真空蒸着法の代わりに、周期表15族元素の硫化物の前躯体溶液、又は、周期表15族元素の硫化物のナノ粒子分散液をスピンコート法等の印刷法により成膜することもできる。
本発明の有機薄膜太陽電池を製造する際には、スピンコート法等の印刷法により安定的かつ簡便にP型半導体層を形成することができるため、P型半導体層の形成コストを削減することができる。上記N型半導体層を形成する際にも、真空蒸着法の代わりに、周期表15族元素の硫化物の前躯体溶液、又は、周期表15族元素の硫化物のナノ粒子分散液をスピンコート法等の印刷法により成膜することもできる。
また、例えば、光電変換層がN型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜である場合には、P型半導体である有機半導体と、周期表15族元素の硫化物の前躯体溶液、又は、周期表15族元素の硫化物のナノ粒子分散液とを混合した混合液を用いて複合膜とすることができる。また、N型半導体とP型半導体とを共蒸着することにより複合膜を作製することもできる。
本発明によれば、光電変換効率が高く、耐久性に優れた有機薄膜太陽電池を提供することができる。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
以下の実施例1〜8及び比較例1〜7には、光電変換層がN型半導体層とP型半導体層とを含む積層体である場合の有機薄膜太陽電池の製造を示す。
以下の実施例1〜8及び比較例1〜7には、光電変換層がN型半導体層とP型半導体層とを含む積層体である場合の有機薄膜太陽電池の製造を示す。
(実施例1)
<陽極>
ガラス基板上に、陽極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<光電変換層(積層体)>
ITO膜の表面上に、P型半導体層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。次いで、このP型半導体層の表面上に、N型半導体層として硫化アンチモンを真空蒸着法により40nmの厚みに成膜した。
<電子輸送層>
N型半導体層の表面上に、電子輸送層として酸化亜鉛ナノ粒子の分散液をスピンコート法により50nmの厚みに成膜して、260℃で2分アニーリングを行った。
<陰極>
電子輸送層の表面上に、陰極として真空蒸着により厚み100nmのアルミニウム膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
<陽極>
ガラス基板上に、陽極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<光電変換層(積層体)>
ITO膜の表面上に、P型半導体層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。次いで、このP型半導体層の表面上に、N型半導体層として硫化アンチモンを真空蒸着法により40nmの厚みに成膜した。
<電子輸送層>
N型半導体層の表面上に、電子輸送層として酸化亜鉛ナノ粒子の分散液をスピンコート法により50nmの厚みに成膜して、260℃で2分アニーリングを行った。
<陰極>
電子輸送層の表面上に、陰極として真空蒸着により厚み100nmのアルミニウム膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例2)
<陰極>
ガラス基板上に、陰極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<電子輸送層>
ITO膜の表面上に、電子輸送層として酸化亜鉛ナノ粒子の分散液をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<光電変換層(積層体)>
電子輸送層の表面上に、N型半導体層として硫化アンチモンを真空蒸着法により40nmの厚みに成膜して、260℃で2分アニーリングを行った。更に、このN型半導体層の表面上に、P型半導体層としてポリ−3−ヘキシルチオフェンをスピンコート法により40nmの厚みに成膜した。
<ホール輸送層>
P型半導体層の表面上に、ホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<陽極>
ホール輸送層の表面上に、陽極として真空蒸着により厚み100nmの金膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
<陰極>
ガラス基板上に、陰極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<電子輸送層>
ITO膜の表面上に、電子輸送層として酸化亜鉛ナノ粒子の分散液をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<光電変換層(積層体)>
電子輸送層の表面上に、N型半導体層として硫化アンチモンを真空蒸着法により40nmの厚みに成膜して、260℃で2分アニーリングを行った。更に、このN型半導体層の表面上に、P型半導体層としてポリ−3−ヘキシルチオフェンをスピンコート法により40nmの厚みに成膜した。
<ホール輸送層>
P型半導体層の表面上に、ホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<陽極>
ホール輸送層の表面上に、陽極として真空蒸着により厚み100nmの金膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例3)
<陰極>
ガラス基板上に、陰極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<光電変換層(積層体)>
ITO膜の表面上に、N型半導体層として硫化アンチモンを真空蒸着法により40nmの厚みに成膜して、260℃で2分アニーリングを行った。更に、このN型半導体層の表面上に、P型半導体層としてポリ−3−ヘキシルチオフェンをスピンコート法により40nmの厚みに成膜した。
<ホール輸送層>
P型半導体層の表面上に、ホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<陽極>
ホール輸送層の表面上に、陽極として真空蒸着により厚み100nmの金膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
<陰極>
ガラス基板上に、陰極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<光電変換層(積層体)>
ITO膜の表面上に、N型半導体層として硫化アンチモンを真空蒸着法により40nmの厚みに成膜して、260℃で2分アニーリングを行った。更に、このN型半導体層の表面上に、P型半導体層としてポリ−3−ヘキシルチオフェンをスピンコート法により40nmの厚みに成膜した。
<ホール輸送層>
P型半導体層の表面上に、ホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<陽極>
ホール輸送層の表面上に、陽極として真空蒸着により厚み100nmの金膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例4)
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに硫化ビスマスを用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに硫化ビスマスを用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例5)
N型半導体層形成時のアニール温度を240℃に変更したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体層形成時のアニール温度を240℃に変更したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例6)
N型半導体層形成時のアニール温度を200℃に変更したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体層形成時のアニール温度を200℃に変更したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例7)
P型半導体としてポリ−3−ヘキシルチオフェンの代わりにドナー−アクセプター型導電性高分子(PBDTTT−CF、1−Material社製)を用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
P型半導体としてポリ−3−ヘキシルチオフェンの代わりにドナー−アクセプター型導電性高分子(PBDTTT−CF、1−Material社製)を用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(実施例8)
P型半導体としてポリ−3−ヘキシルチオフェンの代わりに銅フタロシアニンを用い、蒸着法により厚み30nmに成膜したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
P型半導体としてポリ−3−ヘキシルチオフェンの代わりに銅フタロシアニンを用い、蒸着法により厚み30nmに成膜したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例1)
N型半導体として硫化アンチモンの代わりにフラーレンを用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体として硫化アンチモンの代わりにフラーレンを用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例2)
N型半導体層形成時のアニール温度を180℃に変更したこと以外は比較例1と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体層形成時のアニール温度を180℃に変更したこと以外は比較例1と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例3)
N型半導体層形成時のアニーリングを行わなかったこと以外は比較例1と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体層形成時のアニーリングを行わなかったこと以外は比較例1と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例4)
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに酸化亜鉛ナノ粒子を用い、スピンコート法により成膜したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに酸化亜鉛ナノ粒子を用い、スピンコート法により成膜したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例5)
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに硫化スズを用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに硫化スズを用いたこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例6)
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに硫化亜鉛ナノ粒子を用い、スピンコート法により成膜したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体として硫化アンチモンの代わりに硫化亜鉛ナノ粒子を用い、スピンコート法により成膜したこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例7)
P型半導体としてPEDOT:PSSの代わりに硫化銅を用い、真空蒸着法により成膜したこと以外は実施例1と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
P型半導体としてPEDOT:PSSの代わりに硫化銅を用い、真空蒸着法により成膜したこと以外は実施例1と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
以下の実施例9〜10及び比較例8〜10には、光電変換層がN型半導体とP型半導体とを含む複合膜である場合の有機薄膜太陽電池の製造を示す。
(実施例9)
N型半導体として硫化アンチモンを、P型半導体として銅フタロシアニンを用い、共蒸着法によりN型半導体とP型半導体との複合膜を厚み100nmに成膜し、その後、260℃で2分アニーリングを行ったこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。N型半導体とP型半導体との体積比は8:2であった。
N型半導体として硫化アンチモンを、P型半導体として銅フタロシアニンを用い、共蒸着法によりN型半導体とP型半導体との複合膜を厚み100nmに成膜し、その後、260℃で2分アニーリングを行ったこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。N型半導体とP型半導体との体積比は8:2であった。
(実施例10)
N型半導体として硫化アンチモンを、P型半導体として銅フタロシアニンを用い、共蒸着法によりN型半導体とP型半導体との複合膜を厚み160nmに成膜し、その後、260℃で2分アニーリングを行ったこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。N型半導体とP型半導体との体積比は6:4であった。
N型半導体として硫化アンチモンを、P型半導体として銅フタロシアニンを用い、共蒸着法によりN型半導体とP型半導体との複合膜を厚み160nmに成膜し、その後、260℃で2分アニーリングを行ったこと以外は実施例2と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。N型半導体とP型半導体との体積比は6:4であった。
(比較例8)
<陽極>
ガラス基板上に、陽極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<ホール輸送層>
ITO膜の表面上に、ホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<光電変換層(複合膜)>
N型半導体として8重量部のフラーレン誘導体(PCBM、アメリカンダイソース社製)と、P型半導体として10重量部のポリ−3−ヘキシルチオフェンとを、600重量部のクロロベンゼンに分散及び溶解させて、混合溶液を調製した。この混合溶液を、ホール輸送層の表面上に塗布して150nmの厚みに成膜し、複合膜とした。
<電子輸送層>
光電変換層の表面上に、電子輸送層として酸化亜鉛ナノ粒子の分散液をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<陰極>
電子輸送層の表面上に、陰極として真空蒸着により厚み100nmのアルミニウム膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
<陽極>
ガラス基板上に、陽極として厚み240nmのITO膜を形成し、アセトン、メタノール及びイソプロピルアルコールをこの順に用いて各10分間超音波洗浄した後、乾燥させた。
<ホール輸送層>
ITO膜の表面上に、ホール輸送層としてポリエチレンジオキサイドチオフェン:ポリスチレンスルフォネート(PEDOT:PSS)をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<光電変換層(複合膜)>
N型半導体として8重量部のフラーレン誘導体(PCBM、アメリカンダイソース社製)と、P型半導体として10重量部のポリ−3−ヘキシルチオフェンとを、600重量部のクロロベンゼンに分散及び溶解させて、混合溶液を調製した。この混合溶液を、ホール輸送層の表面上に塗布して150nmの厚みに成膜し、複合膜とした。
<電子輸送層>
光電変換層の表面上に、電子輸送層として酸化亜鉛ナノ粒子の分散液をスピンコート法により50nmの厚みに成膜した。
<陰極>
電子輸送層の表面上に、陰極として真空蒸着により厚み100nmのアルミニウム膜を形成し、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例9)
N型半導体としてフラーレン誘導体の代わりに酸化亜鉛ナノ粒子を用いたこと以外は比較例8と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体としてフラーレン誘導体の代わりに酸化亜鉛ナノ粒子を用いたこと以外は比較例8と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(比較例10)
N型半導体としてフラーレン誘導体の代わりに硫化亜鉛ナノ粒子を用いたこと以外は比較例8と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
N型半導体としてフラーレン誘導体の代わりに硫化亜鉛ナノ粒子を用いたこと以外は比較例8と同様にして、有機薄膜太陽電池を得た。
(評価)
<光電変換効率の測定>
有機薄膜太陽電池の電極間に、電源(KEYTHLEY社製、236モデル)を接続し、100mW/cm2の強度のソーラーシミュレータ(山下電装社製)を用いて有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。比較例3の光電変換効率を1.00として規格化した(相対光電変換効率(比較例3との対比))。
<耐候試験後の光電変換効率の測定>
有機薄膜太陽電池をガラス封止し、温度60℃、湿度35%の状態で60mW/cm2の光を24時間照射して耐候試験を行った。耐候試験前後の光電変換効率を上記と同様にして測定し、初期の光電変換効率(初期値)を1.00としたときの耐候試験後の相対変換効率を求めた。
<総合評価>
下記の基準で評価した。
× 相対光電変換効率(比較例3との対比)が1以下、又は、耐候試験後の相対変換効率(初期値との対比)が0.8以下であった
○ 相対光電変換効率(比較例3との対比)が1を超えて5以下、かつ、耐候試験後の相対変換効率(初期値との対比)が0.8を超えていた
◎ 相対光電変換効率(比較例3との対比)が5を超えており、かつ、耐候試験後の相対変換効率(初期値との対比)が0.8を超えていた
<光電変換効率の測定>
有機薄膜太陽電池の電極間に、電源(KEYTHLEY社製、236モデル)を接続し、100mW/cm2の強度のソーラーシミュレータ(山下電装社製)を用いて有機薄膜太陽電池の光電変換効率を測定した。比較例3の光電変換効率を1.00として規格化した(相対光電変換効率(比較例3との対比))。
<耐候試験後の光電変換効率の測定>
有機薄膜太陽電池をガラス封止し、温度60℃、湿度35%の状態で60mW/cm2の光を24時間照射して耐候試験を行った。耐候試験前後の光電変換効率を上記と同様にして測定し、初期の光電変換効率(初期値)を1.00としたときの耐候試験後の相対変換効率を求めた。
<総合評価>
下記の基準で評価した。
× 相対光電変換効率(比較例3との対比)が1以下、又は、耐候試験後の相対変換効率(初期値との対比)が0.8以下であった
○ 相対光電変換効率(比較例3との対比)が1を超えて5以下、かつ、耐候試験後の相対変換効率(初期値との対比)が0.8を超えていた
◎ 相対光電変換効率(比較例3との対比)が5を超えており、かつ、耐候試験後の相対変換効率(初期値との対比)が0.8を超えていた
本発明によれば、光電変換効率が高く、耐久性に優れた有機薄膜太陽電池を提供することができる。
1 有機薄膜太陽電池
2 基板
3 透明電極(陽極)
4 P型半導体層
5 N型半導体層
6 電子輸送層
7 電極(陰極)
8 有機薄膜太陽電池
9 基板
10 透明電極(陽極)
11 ホール輸送層
12 P型半導体部分
13 N型半導体部分
14 複合膜
15 電子輸送層
16 電極(陰極)
2 基板
3 透明電極(陽極)
4 P型半導体層
5 N型半導体層
6 電子輸送層
7 電極(陰極)
8 有機薄膜太陽電池
9 基板
10 透明電極(陽極)
11 ホール輸送層
12 P型半導体部分
13 N型半導体部分
14 複合膜
15 電子輸送層
16 電極(陰極)
Claims (6)
- 光電変換層を有する有機薄膜太陽電池であって、
前記光電変換層においては、N型半導体とP型半導体とが互いに接しており、
前記N型半導体は、周期表15族元素の硫化物を含有し、
前記P型半導体は、有機半導体であり、
前記P型半導体を構成する有機半導体は、ポリチオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体又はベンゾポルフィリン誘導体である
ことを特徴とする有機薄膜太陽電池。 - 周期表15族元素の硫化物は、硫化アンチモンであることを特徴とする請求項1記載の有機薄膜太陽電池。
- 光電変換層が、N型半導体層とP型半導体層とを含む積層体であることを特徴とする請求項1又は2記載の有機薄膜太陽電池。
- 一組の電極間に、N型半導体層とP型半導体層とを含む光電変換層を有し、
一方の電極と前記N型半導体層との間に更に電子輸送層を、他方の電極と前記P型半導体層との間に更にホール輸送層を有することを特徴とする請求項3記載の有機薄膜太陽電池。 - 光電変換層が、N型半導体とP型半導体とを混合して複合化した複合膜であることを特徴とする請求項1又は2記載の有機薄膜太陽電池。
- 一組の電極間に、N型半導体とP型半導体とを混合した複合化した複合膜である光電変換層を有し、
一方の電極と前記光電変換層との間に更に電子輸送層を、他方の電極と前記光電変換層との間に更にホール輸送層を有することを特徴とする請求項5記載の有機薄膜太陽電池。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012063910A JP5075283B1 (ja) | 2012-02-07 | 2012-03-21 | 有機薄膜太陽電池 |
PCT/JP2013/052793 WO2013118793A1 (ja) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | 有機薄膜太陽電池 |
CN201380008248.6A CN104094432A (zh) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | 有机薄膜太阳能电池 |
US14/374,025 US20140366948A1 (en) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | Organic thin film solar cell |
TW102104775A TWI581475B (zh) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | Organic thin film solar cells |
EP13746641.3A EP2814077A4 (en) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | SOLAR CELL IN ORGANIC THIN LAYERS |
AU2013218710A AU2013218710A1 (en) | 2012-02-07 | 2013-02-07 | Organic thin film solar cell |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012024451 | 2012-02-07 | ||
JP2012024451 | 2012-02-07 | ||
JP2012063910A JP5075283B1 (ja) | 2012-02-07 | 2012-03-21 | 有機薄膜太陽電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5075283B1 true JP5075283B1 (ja) | 2012-11-21 |
JP2014112575A JP2014112575A (ja) | 2014-06-19 |
Family
ID=47435453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012063910A Active JP5075283B1 (ja) | 2012-02-07 | 2012-03-21 | 有機薄膜太陽電池 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140366948A1 (ja) |
EP (1) | EP2814077A4 (ja) |
JP (1) | JP5075283B1 (ja) |
CN (1) | CN104094432A (ja) |
AU (1) | AU2013218710A1 (ja) |
TW (1) | TWI581475B (ja) |
WO (1) | WO2013118793A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014112610A (ja) * | 2012-12-05 | 2014-06-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 有機薄膜太陽電池 |
JP5873577B2 (ja) * | 2013-09-25 | 2016-03-01 | 積水化学工業株式会社 | 薄膜太陽電池、半導体薄膜、及び、半導体形成用塗布液 |
CN109504939A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-03-22 | 中南大学 | 一种硫化锑薄膜的制备方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015133466A (ja) * | 2013-12-11 | 2015-07-23 | 積水化学工業株式会社 | 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池の製造方法 |
JP6415078B2 (ja) * | 2014-04-03 | 2018-10-31 | 積水化学工業株式会社 | 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池の製造方法 |
JP2016092278A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 住友化学株式会社 | 有機光電変換素子 |
JP6572039B2 (ja) * | 2015-07-22 | 2019-09-04 | 積水化学工業株式会社 | 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池の製造方法 |
PL3133674T3 (pl) | 2015-08-20 | 2018-05-30 | Wegmann Automotive Gmbh & Co. Kg | Zacisk akumulatora z wewnętrznym zabezpieczeniem przed skręcaniem |
CN106179513A (zh) * | 2016-08-22 | 2016-12-07 | 燕山大学 | 复合光催化剂及其制备方法 |
GB2557635A (en) * | 2016-12-14 | 2018-06-27 | Protean Electric Ltd | A stator for an electric motor or generator |
CN109244248A (zh) * | 2018-10-15 | 2019-01-18 | 湖南师范大学 | 一种以CuI/PbPc薄膜作为空穴传输层的硫化锑太阳能电池及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080092946A1 (en) * | 2006-10-24 | 2008-04-24 | Applied Quantum Technology Llc | Semiconductor Grain Microstructures for Photovoltaic Cells |
WO2009139487A1 (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-19 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5783054A (en) * | 1980-11-12 | 1982-05-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of conductive organic coloring thin film |
JP4120362B2 (ja) | 2002-11-14 | 2008-07-16 | 松下電工株式会社 | 有機太陽電池 |
JP2006344794A (ja) | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | フラーレン類含有半導体ヘテロ接合膜 |
US20100294368A1 (en) * | 2009-05-22 | 2010-11-25 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Photoelectric conversion element and solar cell |
US20120312375A1 (en) * | 2010-02-18 | 2012-12-13 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | All-Solid-State Heterojunction Solar Cell |
JP5692228B2 (ja) * | 2010-07-02 | 2015-04-01 | コニカミノルタ株式会社 | 有機光電変換素子およびそれを用いた太陽電池 |
CN102088060A (zh) * | 2010-12-06 | 2011-06-08 | 电子科技大学 | 一种叠层有机薄膜太阳能电池及其制备方法 |
-
2012
- 2012-03-21 JP JP2012063910A patent/JP5075283B1/ja active Active
-
2013
- 2013-02-07 WO PCT/JP2013/052793 patent/WO2013118793A1/ja active Application Filing
- 2013-02-07 EP EP13746641.3A patent/EP2814077A4/en not_active Withdrawn
- 2013-02-07 TW TW102104775A patent/TWI581475B/zh not_active IP Right Cessation
- 2013-02-07 US US14/374,025 patent/US20140366948A1/en not_active Abandoned
- 2013-02-07 AU AU2013218710A patent/AU2013218710A1/en not_active Abandoned
- 2013-02-07 CN CN201380008248.6A patent/CN104094432A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080092946A1 (en) * | 2006-10-24 | 2008-04-24 | Applied Quantum Technology Llc | Semiconductor Grain Microstructures for Photovoltaic Cells |
WO2009139487A1 (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-19 | 住友化学株式会社 | 光電変換素子 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012020544; Z.Wang: '"Influence of interface modification on the performance of polymer/Bi2S3 nanorods bulk heterojunctio' Applied Surface Science Vol.257, No.2, 1 November 2010, p.423-428 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014112610A (ja) * | 2012-12-05 | 2014-06-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 有機薄膜太陽電池 |
JP5873577B2 (ja) * | 2013-09-25 | 2016-03-01 | 積水化学工業株式会社 | 薄膜太陽電池、半導体薄膜、及び、半導体形成用塗布液 |
CN109504939A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-03-22 | 中南大学 | 一种硫化锑薄膜的制备方法 |
CN109504939B (zh) * | 2018-12-19 | 2021-11-30 | 中南大学 | 一种硫化锑薄膜的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2814077A1 (en) | 2014-12-17 |
EP2814077A4 (en) | 2015-11-04 |
CN104094432A (zh) | 2014-10-08 |
US20140366948A1 (en) | 2014-12-18 |
TW201345010A (zh) | 2013-11-01 |
JP2014112575A (ja) | 2014-06-19 |
TWI581475B (zh) | 2017-05-01 |
WO2013118793A1 (ja) | 2013-08-15 |
AU2013218710A1 (en) | 2014-08-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5075283B1 (ja) | 有機薄膜太陽電池 | |
Li et al. | Graphene oxide modified hole transport layer for CH3NH3PbI3 planar heterojunction solar cells | |
US20150179965A1 (en) | Inverted organic electronic device and method for manufacturing the same | |
KR101087911B1 (ko) | 유기-무기 하이브리드 태양전지 및 그 제조방법 | |
JP5358751B1 (ja) | 有機薄膜太陽電池 | |
JP2012519965A (ja) | 空気安定性有機−無機ナノ粒子ハイブリッド太陽電池 | |
WO2013118795A1 (ja) | 有機薄膜太陽電池及び有機薄膜太陽電池の製造方法 | |
KR101704109B1 (ko) | 유기 태양 전지 및 이의 제조방법 | |
JP5688442B2 (ja) | 太陽電池 | |
WO2012160911A1 (ja) | 有機発電素子 | |
JP5238898B1 (ja) | 有機薄膜太陽電池 | |
JP2014078692A (ja) | 太陽電池及び太陽電池の製造方法 | |
JP2013191630A (ja) | 太陽電池 | |
JP2018046056A (ja) | 太陽電池、及び、太陽電池の製造方法 | |
JP2018046055A (ja) | 太陽電池 | |
JP2016115880A (ja) | 有機無機ハイブリッド太陽電池 | |
JP2014112610A (ja) | 有機薄膜太陽電池 | |
JP2014103275A (ja) | 光電変換素子材料、光電変換素子材料の製造方法、太陽電池、及び、太陽電池の製造方法 | |
JP2016015408A (ja) | 薄膜太陽電池 | |
JP2014192373A (ja) | 有機薄膜太陽電池の製造方法 | |
JP2014241370A (ja) | 光電変換素子及びその製造方法 | |
KR20150063657A (ko) | 유기 태양 전지 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120824 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5075283 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |