JP5073121B2 - 光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール - Google Patents
光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP5073121B2 JP5073121B2 JP2012509276A JP2012509276A JP5073121B2 JP 5073121 B2 JP5073121 B2 JP 5073121B2 JP 2012509276 A JP2012509276 A JP 2012509276A JP 2012509276 A JP2012509276 A JP 2012509276A JP 5073121 B2 JP5073121 B2 JP 5073121B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- conductive film
- photoelectric conversion
- substrate
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 163
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 100
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 331
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 46
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 41
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 19
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 16
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1884—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO
- H01L31/1888—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO methods for etching transparent electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
- H01L31/022483—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers composed of zinc oxide [ZnO]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0236—Special surface textures
- H01L31/02366—Special surface textures of the substrate or of a layer on the substrate, e.g. textured ITO/glass substrate or superstrate, textured polymer layer on glass substrate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Description
図1は、この発明の実施の形態1にかかる薄膜光電変換装置の構成の一例を模式的に示す断面図である。薄膜光電変換装置は、基板1上に、第1の電極層2、光電変換層3、第2の電極層4が順に積層された構造を有する。なお、ここでは、基板1側から光電変換される光が入射されるものとする。
図6は、実施の形態2による薄膜光電変換装置の構造の一例を模式的に示す断面図である。実施の形態2による薄膜光電変換装置では、第1の電極層2Aが第1〜第3の透明導電膜21〜23によって構成される。すなわち、実施の形態1の基板1と第1の透明導電膜21との間に、第3の透明導電膜23が挿入される構造を有している。第3の透明導電膜23は、第2と第1の透明導電膜22,21をエッチングして形成される凹部52のストッパとしての機能を有し、第1の透明導電膜21に比してエッチングレートが低い材料によって構成される。これによって、凹部52は、第2と第1の透明導電膜22,21を貫通するように設けられ、その底部は第3の透明導電膜23内にある。このような第3の透明導電膜23としては、ZnOやAZO,GZOなどを用いることができ、さらに具体的には、第1の透明導電膜21に比して高いC軸配向度を有するZnOやAZO,GZOなどを用いることができる。
実施例1及び実施例2にかかる薄膜光電変換装置として、実施の形態2の図6に示される構造のものを用いる。基板1として無アルカリガラス基板を使用し、第1〜第3の透明導電膜21〜23としてAZOを用い、第1の電極層2Aの全体の膜厚を1μmとする。また、光電変換層3として、第1の電極層2A側から順にp型μc−Si:H、i型μc−Si:H、n型μc−Si:Hが積層されたpin接合を有する半導体層を用い、i型μc−Si:Hの膜厚を3μmとする。さらに、第2の電極層4を構成する透明導電膜41として厚さ90nmのAZOを用い、光反射性導電膜42として厚さ300nmのAgを用いる。
実施例1及び実施例2による薄膜光電変換装置は、実施の形態で説明したように製造されるが、第1の電極層2Aの形成方法と、凹部52の形成方法は、以下のようにして形成される。図8は、実施例による薄膜光電変換装置の第1の電極層の製膜条件を示す図である。この図に示されるように、基板1上に、基板温度460℃の下で第3の透明導電膜23として0.5wt%AZO膜を400nmの厚さで形成し、基板温度430℃の下で第1の透明導電膜21として0.2wt%AZO膜を400nmの厚さで形成し、そして基板温度460℃の下で第2の透明導電膜22として0.5wt%AZO膜を300nmの厚さで形成する。このように、製膜温度(基板温度)とドープ材料の組成を異ならせることで、後のウエットエッチング時の起点の密度を制御するとともに、エッチングレートを異ならせることができる。
作製された薄膜太陽電池について、基板1,201側から擬似太陽光をソーラシュミレータで照射し電流−電圧特性を測定し、短絡電流密度、開放電圧、曲線因子及び変換効率を求める。また、波長800nmにおけるヘイズ率も求める。
図9は、実施例1、実施例2、比較例1及び比較例2による薄膜光電変換装置の電流−電圧特性を示す図であり、図10は、実施例1、実施例2と比較例1、比較例2による薄膜光電変換装置の特性を示す図であり、図11は、第1の電極層における凹部の径/深さによる薄膜光電変換装置の曲線因子を比較した図である。図9において、横軸は電圧(V)を示しており、縦軸は薄膜光電変換装置の電流密度(mA/cm2)を示している。図9中の曲線301,302,303及び304は、それぞれ実施例1,実施例2,比較例1及び比較例2の薄膜光電変換装置の電圧−電流特性を示している。図10中の凹凸径/凹凸深さは基板1,201上に第1の電極層2A,202を形成して、ウエットエッチングを行った後の光電変換装置用基板における凹部52〜54の凹凸深さに対する凹凸径の比を示すものである。また、図10中の波長800nmにおけるヘイズ率は、上記光電変換装置用基板について、基板1,201側から波長800nmの光を当てたときの光の散乱度合いを示す指標である。
2,2A,202 第1の電極層
3,203 光電変換層
4,204 第2の電極層
21 第1の透明導電膜
22 第2の透明導電膜
23 第3の透明導電膜
41,211,221,2041 透明導電膜
42,2042 光反射性導電膜
51 凹凸部
52〜54 凹部
61,62 起点
Claims (15)
- 基板上に透明導電性材料からなる電極層を備える光電変換装置用基板の製造方法において、
前記基板上に第1の透明導電膜を形成する第1の透明導電膜形成工程と、
前記第1の透明導電膜上に、後のエッチング工程で前記第1の透明導電膜に比してエッチングレートが低くなる製膜条件で第2の透明導電膜を形成する第2の透明導電膜形成工程と、
前記第2及び第1の透明導電膜をウエットエッチングして、前記第2の透明導電膜を貫通し、底部が前記第1の透明導電膜内に存在する凹部を形成するエッチング工程と、
を含むことを特徴とする光電変換装置用基板の製造方法。 - 前記エッチング工程は、前記第2の透明導電膜に散在するように前記第1の透明導電膜に達する貫通穴の形成と、前記貫通穴を介した前記第1の透明導電膜をエッチングとが同じエッチング液で連続して行われることを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置用基板の製造方法。
- 前記第1及び第2の透明導電膜はZnO膜であり、
前記第1及び第2の透明導電膜形成工程では、前記ZnO膜の製膜温度及び前記ZnO膜にドープする不純物の量が異なる製膜条件で前記ZnO膜を形成し、
前記エッチング工程では、酸またはアルカリ溶液で前記ZnO膜をエッチングすることを特徴とする請求項1または2に記載の光電変換装置用基板の製造方法。 - 前記第2の透明導電膜形成工程では、前記第1の透明導電膜のエッチング速度に対する前記第2の透明導電膜のエッチング速度の比が0.9〜0.1倍となるような前記製膜条件で前記第2の透明導電膜を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の光電変換装置用基板の製造方法。
- 前記第2の透明導電膜形成工程では、前記エッチング工程で形成される前記凹部の起点が1mm2内に104〜106個の割合で形成される前記製膜条件で前記第2の透明導電膜を形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の光電変換装置用基板の製造方法。
- 前記第2の透明導電膜形成工程の後、前記第1及び第2の透明導電膜をアニール処理することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の光電変換装置用基板の製造方法。
- 前記エッチング工程の後、前記第1及び第2の透明導電膜をアニール処理することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の光電変換装置用基板の製造方法。
- 前記第1の透明導電膜形成工程で、後の前記エッチング工程で前記第1の透明導電膜に比してエッチングレートが低くなる製膜条件で前記基板上に第3の透明導電膜を形成した後に、前記第3の透明導電膜上に前記第1の透明導電膜を形成し、
前記エッチング工程では、前記第3の透明導電膜をストッパとして前記第2及び第1の透明導電膜を貫通する前記凹部を形成することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の光電変換装置用基板の製造方法。 - 前記第3の透明導電膜はZnO膜であり、
前記第1の透明導電膜形成工程では、前記第1の透明導電膜を構成する前記ZnO膜の製膜温度及び前記ZnO膜にドープする不純物の量とは異なる製膜条件で、前記第3の透明導電膜を構成する前記ZnO膜を形成することを特徴とする請求項8に記載の光電変換装置用基板の製造方法。 - 請求項1〜9のいずれか1つに記載の方法で製造される前記光電変換装置用基板上に、pin構造を有する半導体層を含む光電変換層を形成する光電変換層形成工程と、
前記光電変換層上に前記電極層と対を成す他の電極層を形成する電極層形成工程と、
を含むことを特徴とする薄膜光電変換装置の製造方法。 - 基板上に透明導電性材料からなる電極層が形成された光電変換装置用基板において、
前記電極層は、前記基板上に形成される第1の透明導電膜と、前記第1の透明導電膜上に形成される第2の透明導電膜と、を含み、
前記電極層は、前記第2の透明導電膜を貫通し、前記第1の透明導電膜に達するとともに、径が深さの2〜20倍となる凹部を複数備えることを特徴とする光電変換装置用基板。 - 前記電極層は、前記基板と前記第1の透明導電膜との間に第3の透明導電膜をさらに含み、
前記凹部の底部は、前記第3の導電膜の上部付近に存在することを特徴とする請求項11に記載の光電変換装置用基板。 - 基板上に透明導電性材料からなる第1の電極層、光電変換層及び第2の電極層が順に積層された薄膜光電変換装置において、
前記電極層は、前記基板上に形成される第1の透明導電膜と、前記第1の透明導電膜上に形成される第2の透明導電膜と、を含み、
前記電極層は、前記第2の透明導電膜を貫通し、前記第1の透明導電膜に達するとともに、径が深さの2〜20倍となる凹部を複数備えることを特徴とする薄膜光電変換装置。 - 前記電極層は、前記基板と前記第1の透明導電膜との間に第3の透明導電膜をさらに含み、
前記凹部の底部は、前記第3の導電膜の上部付近に存在することを特徴とする請求項13に記載の薄膜光電変換装置。 - 請求項13または14に記載の薄膜光電変換装置が、前記基板上で直列に接続された構造を有することを特徴とする太陽電池モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012509276A JP5073121B2 (ja) | 2010-04-05 | 2010-12-07 | 光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010087172 | 2010-04-05 | ||
JP2010087172 | 2010-04-05 | ||
JP2012509276A JP5073121B2 (ja) | 2010-04-05 | 2010-12-07 | 光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール |
PCT/JP2010/071915 WO2011125259A1 (ja) | 2010-04-05 | 2010-12-07 | 光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5073121B2 true JP5073121B2 (ja) | 2012-11-14 |
JPWO2011125259A1 JPWO2011125259A1 (ja) | 2013-07-08 |
Family
ID=44762233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012509276A Expired - Fee Related JP5073121B2 (ja) | 2010-04-05 | 2010-12-07 | 光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8828780B2 (ja) |
JP (1) | JP5073121B2 (ja) |
CN (1) | CN102822991A (ja) |
DE (1) | DE112010005449T5 (ja) |
WO (1) | WO2011125259A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5533448B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2014-06-25 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電膜積層体及びその製造方法、並びに薄膜太陽電池及びその製造方法 |
KR101921236B1 (ko) * | 2012-03-21 | 2019-02-13 | 엘지전자 주식회사 | 박막 태양 전지 및 그의 제조 방법 |
JP6362257B2 (ja) * | 2013-06-13 | 2018-07-25 | 日本放送協会 | 光電変換素子、光電変換素子の製造方法、積層型固体撮像素子および太陽電池 |
US9716207B2 (en) * | 2013-07-23 | 2017-07-25 | Globalfoundries Inc. | Low reflection electrode for photovoltaic devices |
JP6226858B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2017-11-08 | 三菱電機株式会社 | 薄膜太陽電池及びその製造方法 |
CN107564972A (zh) * | 2016-06-28 | 2018-01-09 | 湖南国盛石墨科技有限公司 | 一种石墨烯太阳能电池板 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002111025A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光電変換素子用基板、その製造方法およびそれを用いた光電変換素子 |
JP2003115599A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 太陽電池 |
JP2005002387A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | テクスチャー構造を有する導電性薄膜の形成方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61116886A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置の製造方法 |
JPS6269408A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-30 | 三洋電機株式会社 | 透明導電膜の粗面化方法 |
JPH0793447B2 (ja) * | 1986-03-11 | 1995-10-09 | 株式会社富士電機総合研究所 | 光電変換素子 |
JP2000077692A (ja) * | 1998-09-03 | 2000-03-14 | Canon Inc | 光起電力素子及びその製造方法 |
JP2000252500A (ja) | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | シリコン系薄膜光電変換装置 |
JP3819632B2 (ja) | 1999-04-07 | 2006-09-13 | 三洋電機株式会社 | 光電変換素子及びその製造方法 |
JP2002025350A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 透明導電膜付き基板及びその作製方法,それを用いたエッチング方法並びに光起電力装置 |
US7301215B2 (en) * | 2005-08-22 | 2007-11-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Photovoltaic device |
KR100656738B1 (ko) * | 2005-12-14 | 2006-12-14 | 한국과학기술원 | 집적형 박막 태양전지 및 그 제조 방법 |
JP2007201304A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Honda Motor Co Ltd | 太陽電池およびその製造方法 |
CN102047436B (zh) * | 2008-03-21 | 2014-07-30 | 欧瑞康光伏特鲁贝屈股份有限公司 | 光伏电池以及用以制造光伏电池的方法 |
KR20100004739A (ko) * | 2008-07-04 | 2010-01-13 | 삼성전자주식회사 | 투명 전도막 및 그 제조 방법 |
US20110108118A1 (en) * | 2008-07-07 | 2011-05-12 | Mitsubishi Electric Corporation | Thin-film solar cell and method of manufacturing the same |
EP2253988A1 (en) * | 2008-09-19 | 2010-11-24 | Christie Digital Systems USA, Inc. | A light integrator for more than one lamp |
KR20100090046A (ko) * | 2009-02-05 | 2010-08-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막 태양전지 및 그 제조방법 |
CN101997040B (zh) * | 2009-08-13 | 2012-12-12 | 杜邦太阳能有限公司 | 用于制造具有带有纹理表面的透明传导氧化物层的多层结构的工艺和借此制成的结构 |
KR101908492B1 (ko) * | 2011-04-12 | 2018-10-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 터치 패널 일체형 표시 장치 |
-
2010
- 2010-12-07 JP JP2012509276A patent/JP5073121B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-07 CN CN2010800658567A patent/CN102822991A/zh active Pending
- 2010-12-07 DE DE112010005449T patent/DE112010005449T5/de not_active Withdrawn
- 2010-12-07 WO PCT/JP2010/071915 patent/WO2011125259A1/ja active Application Filing
- 2010-12-07 US US13/639,312 patent/US8828780B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002111025A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光電変換素子用基板、その製造方法およびそれを用いた光電変換素子 |
JP2003115599A (ja) * | 2001-10-03 | 2003-04-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 太陽電池 |
JP2005002387A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | テクスチャー構造を有する導電性薄膜の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2011125259A1 (ja) | 2013-07-08 |
WO2011125259A1 (ja) | 2011-10-13 |
DE112010005449T5 (de) | 2013-04-18 |
CN102822991A (zh) | 2012-12-12 |
US20130025651A1 (en) | 2013-01-31 |
US8828780B2 (en) | 2014-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5868503B2 (ja) | 太陽電池およびその製造方法 | |
JP5174966B2 (ja) | 薄膜太陽電池およびその製造方法 | |
JP5514207B2 (ja) | 結晶シリコン系太陽電池およびその製造方法 | |
JP5073121B2 (ja) | 光電変換装置用基板とその製造方法、薄膜光電変換装置とその製造方法及び太陽電池モジュール | |
JP5093503B2 (ja) | 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池用表面電極 | |
JP5726377B2 (ja) | 太陽電池及びその製造方法 | |
JP3819632B2 (ja) | 光電変換素子及びその製造方法 | |
US20140083501A1 (en) | Transparent conducting film having double structure and method of manufacturing the same | |
JP5127925B2 (ja) | 薄膜太陽電池およびその製造方法 | |
WO2014098146A1 (ja) | 薄膜太陽電池用透光性絶縁基板、および薄膜太陽電池 | |
TW201205679A (en) | Improved method for manufacturing a photovoltaic cell comprising a TCO layer | |
EP2469603A1 (en) | Improved method for manufacturing a photovoltaic device comprising a TCO layer | |
JPWO2009150980A1 (ja) | 薄膜光電変換装置およびその製造方法 | |
WO2011136177A1 (ja) | 薄膜太陽電池およびその製造方法、透明導電膜付き基体およびその製造方法 | |
TWI548101B (zh) | 太陽電池及太陽電池之製造方法 | |
JP5056651B2 (ja) | 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池用表面電極 | |
JP2011077454A (ja) | 結晶シリコン系太陽電池とその製造方法 | |
JP5093502B2 (ja) | 薄膜太陽電池及び薄膜太陽電池用表面電極 | |
JP2012049190A (ja) | 光電変換装置用基板の製造方法および光電変換装置の製造方法 | |
JP2011003639A (ja) | 結晶シリコン系太陽電池とその製造方法 | |
TWI474495B (zh) | 製造太陽能電池之方法 | |
JP2010080672A (ja) | 光電変換装置及び光電変換装置の製造方法 | |
JP2012244029A (ja) | 薄膜太陽電池用基板、その製造方法及び薄膜太陽電池 | |
JP2003008036A (ja) | 太陽電池及びその製造方法 | |
JP2012033565A (ja) | シリコン系薄膜光電変換装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120724 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120821 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |