JP5071700B2 - インジウムの回収方法 - Google Patents
インジウムの回収方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5071700B2 JP5071700B2 JP2005022836A JP2005022836A JP5071700B2 JP 5071700 B2 JP5071700 B2 JP 5071700B2 JP 2005022836 A JP2005022836 A JP 2005022836A JP 2005022836 A JP2005022836 A JP 2005022836A JP 5071700 B2 JP5071700 B2 JP 5071700B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- indium
- solution
- acid
- metal
- hydrochloric acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/02—Hydrogen or oxygen
- C25B1/04—Hydrogen or oxygen by electrolysis of water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B58/00—Obtaining gallium or indium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/06—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic acid solutions, e.g. with acids generated in situ; in inorganic salt solutions other than ammonium salt solutions
- C22B3/10—Hydrochloric acid, other halogenated acids or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/44—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B7/00—Working up raw materials other than ores, e.g. scrap, to produce non-ferrous metals and compounds thereof; Methods of a general interest or applied to the winning of more than two metals
- C22B7/006—Wet processes
- C22B7/007—Wet processes by acid leaching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C28/00—Alloys based on a metal not provided for in groups C22C5/00 - C22C27/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B9/00—Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
- C25B9/17—Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/34—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of metals not provided for in groups C25C3/02 - C25C3/32
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/36—Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Geology (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
インジウム400g相当を含有するITOターゲット屑を解砕した後に、粉砕して150μmより大きい粒子が4%程度の粉体を得た。この粉体を塩酸5モルに溶解して2Lのインジウム溶解液を得た。この塩酸による溶解工程では、240分で浸出率が100%になった。このインジウム溶解液に苛性ソータを加えてpHが1.7になるように中和した後、析出した水酸化物をろ過して除去し、中和後液を得た。この中和後液を60℃で3時間熟成させた後、硫化水素ガスを50cc/分の割合で2分間吹き込み、析出した硫化物をろ過して除去し、硫化後液を得た。この清浄になった硫化後液を電解採取の元液として、液温30℃、電流密度150A/m2の電解条件でインジウムメタルを電解採取した。この電解採取メタルに含まれる錫の量は0.4ppmであった。得られた電解採取メタルを固形苛性ソーダと共に加熱して混合・溶解し、比重分離してメタル分を鋳型に流し込み、冷却し、鋳造インジウムを回収した。得られた鋳造インジウムの99.999%以上の品位であり、高純度のインジウムを得ることができた。
粉砕により150μmより大きい粒子を含まない粉体を得た以外は実施例1と同様の方法により鋳造インジウムを回収した。この実施例では、塩酸の溶解工程において120分で浸出率が100%になった。また、電解採取メタルに含まれる錫の量は0.1ppmであった。なお、この実施例で得られた溶解液、中和後液および硫化後液の組成と、電解採取メタルおよび鋳造インジウムの品位を表3に示し、この実施例の浸出率と時間の関係を表2および図2に示す。
粉砕と熟成を行わなかった以外は実施例1と同様の方法により鋳造インジウムを回収した。この実施例では、塩酸に溶解する前に150μmより大きい粒子が約86%含まれ、塩酸の溶解工程において720分を経過しても浸出率が81%にしかならなかった。また、電解採取メタルに含まれる錫の量は0.9ppmであり、実施例1および2と比べて多かった。なお、この比較例で得られた溶解液、中和後液および硫化後液の組成と、電解採取メタルおよび鋳造インジウムの品位を表4に示し、この比較例の浸出率と時間の関係を表2および図2に示す。
塩酸の代わりに硫酸を用いた以外は実施例1および比較例1と同様の方法で溶解工程を行った。その結果、150μmより大きい粒子が4%程度の粉体を使用した実施例3では、240分で浸出率が99%になったが、粉砕を行わなかった比較例2では、720分を経過しても浸出率が81%にしかならなかった。これらの結果を表5に示す。
塩酸の代わりに硝酸を用いた以外は実施例1および比較例1と同様の方法で溶解工程を行った。その結果、150μmより大きい粒子が4%程度の粉体を使用した実施例4では、360分で浸出率が97%になったが、粉砕を行わなかった比較例3では、720分を経過しても浸出率が79%にしかならなかった。これらの結果を表6に示す。
Claims (4)
- インジウム含有物を150μmより大きい粗粒が10%以下になるまで粉砕する粉砕工程と、得られた粉体を酸で溶解する溶解工程と、得られた溶解液にアルカリを加えてpHが0.5〜4になるように中和し、溶解液中の所定の金属イオンを水酸化物として析出させて除去する中和工程と、得られた中和後液を常温から80℃の温度で2時間以上熟成させる熟成工程と、得られた熟成後液に硫化水素ガスを吹き込み、金属イオンを硫化物として析出除去する硫化工程と、得られた硫化後液を電解元液としてインジウムメタルを電解採取する電解採取工程とを含むことを特徴とする、インジウムの回収方法。
- 前記粉砕工程後、前記溶解工程前に、前記150μmより大きい粗粒を分級により除去する分級工程を含むことを特徴とする、請求項1に記載のインジウムの回収方法。
- 前記酸が、塩酸、硫酸および硝酸からなる群から選ばれる酸であることを特徴とする、請求項1または2に記載のインジウムの回収方法。
- 前記インジウム含有物がITOターゲット屑であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載のインジウムの回収方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005022836A JP5071700B2 (ja) | 2005-01-31 | 2005-01-31 | インジウムの回収方法 |
EP20060712962 EP1845169B1 (en) | 2005-01-31 | 2006-01-27 | Method for recovering indium |
US11/883,138 US20080190779A1 (en) | 2005-01-31 | 2006-01-27 | Method for Recovering Indium |
KR20077019797A KR101199661B1 (ko) | 2005-01-31 | 2006-01-27 | 인듐의 회수 방법 |
CNB2006800035042A CN100507033C (zh) | 2005-01-31 | 2006-01-27 | 铟的回收方法 |
PCT/JP2006/301819 WO2006080565A1 (ja) | 2005-01-31 | 2006-01-27 | インジウムの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005022836A JP5071700B2 (ja) | 2005-01-31 | 2005-01-31 | インジウムの回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006206990A JP2006206990A (ja) | 2006-08-10 |
JP5071700B2 true JP5071700B2 (ja) | 2012-11-14 |
Family
ID=36740573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005022836A Expired - Fee Related JP5071700B2 (ja) | 2005-01-31 | 2005-01-31 | インジウムの回収方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080190779A1 (ja) |
EP (1) | EP1845169B1 (ja) |
JP (1) | JP5071700B2 (ja) |
KR (1) | KR101199661B1 (ja) |
CN (1) | CN100507033C (ja) |
WO (1) | WO2006080565A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5065732B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-11-07 | Jx日鉱日石金属株式会社 | ディスプレーパネルからのインジウムの回収方法 |
US20080299035A1 (en) * | 2007-05-30 | 2008-12-04 | Cheng Loong Corporation | Method for recycling used sputtering target |
JP5102317B2 (ja) * | 2008-02-12 | 2012-12-19 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Izoスクラップからの有価金属の回収方法 |
KR101232745B1 (ko) * | 2009-07-03 | 2013-02-13 | 주식회사 지엠에스 21 | 인듐 회수 방법 |
KR100932706B1 (ko) * | 2009-08-31 | 2009-12-21 | (주)티에스엠 | 인듐 폐액으로부터 고순도 인듐의 회수방법 |
AU2012250460B2 (en) * | 2011-05-04 | 2015-11-26 | Orbite Aluminae Inc. | Processes for recovering rare earth elements from various ores |
RU2463388C2 (ru) * | 2011-08-01 | 2012-10-10 | Виталий Евгеньевич Дьяков | Электролизер для извлечения индия из расплава индийсодержащих сплавов |
RU2471893C2 (ru) * | 2011-10-07 | 2013-01-10 | Виталий Евгеньевич Дьяков | Способ электролитического получения висмута из сплава, содержащего свинец, олово и висмут, и электролизер для его осуществления |
RU2490375C2 (ru) * | 2012-07-09 | 2013-08-20 | Борис Николаевич Дьяков | Электролизер для извлечения индия из индийсодержащего расплава в виде конденсата из вакуумной печи |
CN103103356B (zh) * | 2012-11-09 | 2014-12-10 | 柳州百韧特先进材料有限公司 | 从ito废靶材中回收粗铟、锡的工艺 |
RU2507283C1 (ru) * | 2012-12-25 | 2014-02-20 | Открытое акционерное общество "Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности ОАО "Гиредмет" | Способ получения индия высокой чистоты |
KR101495213B1 (ko) * | 2014-10-10 | 2015-03-23 | 비케이리메탈(주) | 인듐 정제방법 |
JP6373772B2 (ja) * | 2015-02-25 | 2018-08-15 | Jx金属株式会社 | インジウム及びガリウムの回収方法 |
KR101725919B1 (ko) * | 2016-04-18 | 2017-04-12 | (주)한청알에프 | 폐 ito로부터 고순도 인듐을 회수하는 방법 |
CN106676579B (zh) * | 2017-01-05 | 2018-10-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 处理氧化锡铟刻蚀废液的方法 |
TWI638896B (zh) | 2017-04-24 | 2018-10-21 | 國立中山大學 | 回收銦的處理方法 |
CN108642522A (zh) * | 2018-05-17 | 2018-10-12 | 汉能新材料科技有限公司 | 一种含铟废料的回收方法 |
CN108823405B (zh) * | 2018-07-09 | 2020-12-29 | 刘罗平 | 一种湿法炼铟的稀浸液方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2818997C2 (de) * | 1978-02-17 | 1980-02-07 | Schweizerische Aluminium Ag, Chippis (Schweiz) | Verfahren zur Rückgewinnung und Trennung von Gadolinium und Gallium aus Schrott |
JP2738192B2 (ja) * | 1991-12-02 | 1998-04-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 電解用粗インジウムの回収方法 |
JP3173404B2 (ja) | 1997-01-22 | 2001-06-04 | 三菱マテリアル株式会社 | インジウムの回収方法 |
JP3602329B2 (ja) * | 1998-03-20 | 2004-12-15 | 同和鉱業株式会社 | インジウム含有物からインジウムを回収する方法 |
JP4304254B2 (ja) * | 1998-12-04 | 2009-07-29 | Dowaメタルマイン株式会社 | 高純度インジウムの回収方法 |
JP2001040436A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | インジウムの回収及び精製方法 |
JP3822409B2 (ja) * | 2000-01-24 | 2006-09-20 | 同和鉱業株式会社 | Ga,Ge,Inの分離方法 |
JP4549501B2 (ja) * | 2000-08-28 | 2010-09-22 | 日鉱金属株式会社 | インジウムの回収方法 |
JP4519294B2 (ja) * | 2000-08-28 | 2010-08-04 | 日鉱金属株式会社 | インジウムの回収方法 |
RU2218244C1 (ru) * | 2002-04-05 | 2003-12-10 | Акционерное общество открытого типа "Челябинский электролитный цинковый завод" | Способ получения индиевого порошка высокой чистоты |
JP2006083457A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Dowa Mining Co Ltd | 亜鉛浸出残渣等の処理方法 |
JP2005146420A (ja) * | 2004-12-28 | 2005-06-09 | Dowa Mining Co Ltd | 高純度インジウム |
-
2005
- 2005-01-31 JP JP2005022836A patent/JP5071700B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-01-27 CN CNB2006800035042A patent/CN100507033C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-27 WO PCT/JP2006/301819 patent/WO2006080565A1/ja active Application Filing
- 2006-01-27 US US11/883,138 patent/US20080190779A1/en not_active Abandoned
- 2006-01-27 EP EP20060712962 patent/EP1845169B1/en not_active Not-in-force
- 2006-01-27 KR KR20077019797A patent/KR101199661B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1845169A4 (en) | 2009-09-02 |
KR20070101368A (ko) | 2007-10-16 |
US20080190779A1 (en) | 2008-08-14 |
CN101115854A (zh) | 2008-01-30 |
JP2006206990A (ja) | 2006-08-10 |
CN100507033C (zh) | 2009-07-01 |
KR101199661B1 (ko) | 2012-11-08 |
EP1845169B1 (en) | 2014-10-08 |
EP1845169A1 (en) | 2007-10-17 |
WO2006080565A1 (ja) | 2006-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5071700B2 (ja) | インジウムの回収方法 | |
JP4304254B2 (ja) | 高純度インジウムの回収方法 | |
KR20080086339A (ko) | 전지 잔사로부터 금속의 회수 방법 | |
JP2000015216A (ja) | リチウムイオン2次電池からの正極活物質の再生方法 | |
WO2014112198A1 (ja) | Itoターゲットスクラップからのインジウム-錫合金の回収方法、酸化インジウム-酸化錫粉末の製造、及びitoターゲットの製造方法 | |
JP2007009274A (ja) | インジウムの回収方法 | |
JP4310388B2 (ja) | インジウムの回収方法 | |
CN103194604B (zh) | 废旧钽电容器中回收钽、银、锰的方法 | |
JP5628610B2 (ja) | インジウムの回収方法 | |
KR101528598B1 (ko) | 인듐, 갈륨 및 아연 함유 혼합물로부터 인듐 및 갈륨의 선별 회수 방법 | |
US20050155870A1 (en) | Method for producing indium-containing aqueous solution | |
JP5283403B2 (ja) | インジウムの回収方法 | |
JPH10204673A (ja) | インジウムの回収方法 | |
KR101054840B1 (ko) | 인듐-주석 산화물 폐스크랩을 재활용한 주석산화물 분말의 제조방법 | |
JP5339762B2 (ja) | インジウムメタルの製造方法 | |
JP5791884B2 (ja) | インジウム及び錫の回収法 | |
JP5219968B2 (ja) | 導電性のある金属酸化物を含有するスクラップの電解方法 | |
JP2006022407A (ja) | インジウムの回収方法 | |
JP2005146420A (ja) | 高純度インジウム | |
JP6373772B2 (ja) | インジウム及びガリウムの回収方法 | |
JP6017876B2 (ja) | 銅ガリウム廃材からガリウムを回収する方法。 | |
KR20240066642A (ko) | 인듐 회수 방법 | |
JP2008208438A (ja) | インジウムとスズの分離方法 | |
KR20110003119A (ko) | 인듐 회수 방법 | |
JP5587728B2 (ja) | In及びSnの回収方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110105 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120523 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20120807 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120808 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5071700 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |