JP5041214B2 - 金属薄膜の形成方法および電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
(A)平板ブランケット上にインクを塗布する塗布工程
(B)平板ブランケットと、所定のパターンからなる凸部を有する凸版とを互いに向かい合わせると共にこれらを加圧圧縮によって接触させることにより、平板ブランケット上のインクのうちの凸部に対応する部分を選択的に凸版上に転写させる第1転写工程
(C)第1転写工程後の平板ブランケットと基板とを互いに向かい合わせると共にこれらを加圧圧縮によって接触させることにより、平板ブランケット上に残留するインクを基板上に転写させる第2転写工程
(D)第2転写工程後の基板に対して無電解めっき処理を施すことにより、基板上に金属薄膜を析出させるめっき工程
(E)上記インクとして、無電解めっき処理の触媒材料を含むものを用いる
(F)基板上に第1のアライメントマークを設けておくと共に、平板ブランケット上に、第1転写工程において形成されたインクパターンの一部からなる第2のアライメントマークを設けておく
(G)第2転写工程において、第1および第2のアライメントマークを利用して、基板と平板ブランケットとの間の位置合わせを行う
図3に示した構造の金属薄膜を、以下のようにして作製した。概要としては、無電解めっき処理の触媒材料となる金属化合物であるパラジウム(Pd)微粒子コロイドをインク2に含むようにすると共に、このインク2を反転オフセット印刷法により基板40上に印刷した後、無電解Cuめっき処理によってインク上にCu薄膜を選択的に析出させ、Cu配線を形成した。
以下に示した事項を除き、実施例1と同様にして金属薄膜を作製した。概要としては、無電解めっき処理の触媒材料となる金属ナノ粒子であるPdナノ粒子(保護剤:C16H33SH)をインク2に含むようにすると共に、このインク2を反転オフセット印刷法により基板40上に印刷した後、無電解Niめっき処理によってインク上にNi薄膜を選択的に析出させ、Ni配線を形成した。
Claims (15)
- 平板ブランケット上にインクを塗布する塗布工程と、
前記平板ブランケットと、所定のパターンからなる凸部を有する凸版とを互いに向かい合わせると共にこれらを加圧圧縮によって接触させることにより、前記平板ブランケット上のインクのうちの前記凸部に対応する部分を選択的に前記凸版上に転写させる第1転写工程と、
前記第1転写工程後の平板ブランケットと基板とを互いに向かい合わせると共にこれらを加圧圧縮によって接触させることにより、前記平板ブランケット上に残留するインクを前記基板上に転写させる第2転写工程と、
前記第2転写工程後の基板に対して無電解めっき処理を施すことにより、基板上に金属薄膜を析出させるめっき工程と
を含み、
前記インクとして、前記無電解めっき処理の触媒材料を含むものを用い、
前記基板上に第1のアライメントマークを設けておくと共に、前記平板ブランケット上に、前記第1転写工程において形成されたインクパターンの一部からなる第2のアライメントマークを設けておき、
前記第2転写工程において、前記第1および第2のアライメントマークを利用して、前記基板と前記平板ブランケットとの間の位置合わせを行う
金属薄膜の形成方法。 - 前記第1転写工程では、
前記平板ブランケットまたは前記凸版の背面側から圧縮空気を噴射することにより、前記平板ブランケットと前記凸版とを接触させる
請求項1に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記第2転写工程では、
前記平板ブランケットまたは前記基板の背面側から圧縮空気を噴射することにより、前記平板ブランケットと前記基板とを接触させる
請求項1または請求項2に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記第1転写工程の後に、
前記第1転写工程において圧縮空気を噴射した空間を真空排気することにより、前記平板ブランケットと前記凸版とを分離させる分離工程を含む
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記第1転写工程または前記第2転写工程において、
前記平板ブランケットの背面側に伸縮性フィルムを設けると共に、この伸縮性フィルムを介して圧縮空気を噴射することにより、前記平板ブランケットと前記凸版または前記基板とを接触させる
請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記インクの溶質として、前記触媒材料である金属化合物または金属微粒子を含むものを用いる
請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記金属微粒子として、その表面が有機化合物の保護剤により覆われたものを用いる
請求項6に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記インクの溶媒として、その沸点が100℃以下のものを用いる
請求項6または請求項7に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記めっき工程において前記無電解めっき処理を複数回行うことにより、前記金属薄膜を多層膜とする
請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記めっき工程の後に、前記基板上に析出された金属薄膜に対し、脱酸素雰囲気中でアニール処理を行う
請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記第2転写工程と前記めっき工程との間に、前記触媒材料を活性化させる工程を含む
請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記触媒材料の活性化を、UV(紫外線)オゾン処理またはオゾン水洗浄処理により行う
請求項11に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記基板上に密着層を設けておき、
前記第2転写工程において、前記密着層上に前記インクを転写させる
請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 前記平板ブランケットを、硬質基材と、この硬質基材上のPDMS(ポリジメチルシロキサン)層とにより構成し、
前記塗布工程において、前記PDMS層上に前記インクを塗布する
請求項1ないし請求項13のいずれか1項に記載の金属薄膜の形成方法。 - 金属薄膜を形成する工程を含み、
前記金属薄膜を形成する工程は、
平板ブランケット上にインクを塗布する塗布工程と、
前記平板ブランケットと、所定のパターンからなる凸部を有する凸版とを互いに向かい合わせると共にこれらを加圧圧縮によって接触させることにより、前記平板ブランケット上のインクのうちの前記凸部に対応する部分を選択的に前記凸版上に転写させる第1転写工程と、
前記第1転写工程後の平板ブランケットと基板とを互いに向かい合わせると共にこれらを加圧圧縮によって接触させることにより、前記平板ブランケット上に残留するインクを前記基板上に転写させる第2転写工程と、
前記第2転写工程後の基板に対して無電解めっき処理を施すことにより、基板上に金属薄膜を析出させるめっき工程と
を含み、
前記インクとして、前記無電解めっき処理の触媒材料を含むものを用い、
前記基板上に第1のアライメントマークを設けておくと共に、前記平板ブランケット上に、前記第1転写工程において形成されたインクパターンの一部からなる第2のアライメントマークを設けておき、
前記第2転写工程において、前記第1および第2のアライメントマークを利用して、前記基板と前記平板ブランケットとの間の位置合わせを行う
電子デバイスの製造方法。
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