JP4316816B2 - フレキシブル回路基板の露光方法 - Google Patents
フレキシブル回路基板の露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4316816B2 JP4316816B2 JP2001020159A JP2001020159A JP4316816B2 JP 4316816 B2 JP4316816 B2 JP 4316816B2 JP 2001020159 A JP2001020159 A JP 2001020159A JP 2001020159 A JP2001020159 A JP 2001020159A JP 4316816 B2 JP4316816 B2 JP 4316816B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chuck
- circuit board
- photomask
- photosensitive material
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フレキシブル回路基板を製作する場合の露光処理を確実に行えるように案出したフレキシブル回路基板の露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】
フレキシブル回路基板等の回路基板を製作するには、銅張積層板等のフレキシブル基板に感光性材料を設け、この感光性材料に所要の露光・現像処理を施した後、エッチング処理を加えて所要の回路配線パタ−ンを形成する手法が一般的である。
【0003】
その為の露光手段としては、通常の密着式露光機も使用されるが、フォトマスクと感光性材料の密着性を高める為に露光機のチャックからエア−を均一に噴射してフレキシブル基板を押し上げるバックブロ−が可能な密着式露光機も使用される。
【0004】
しかし、このような密着式露光機を使用する場合、フレキシブル基板を露光する際にフレキシブル基板の周囲が中央部よりも先にフォトマスクに密着してしまうと、フォトマスクと感光性材料の間に気泡が溜まって充分な密着が得られず、解像度にバラツキが生じてしまうという問題があった。
【0005】
そこで、本発明は、密着式露光機を用いた場合でも露光処理を確実に行えるように案出した回路基板の露光方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
その為に本発明による回路基板の露光方法では、フォトマスクと感光性材料の密着性を高める為に露光機のチャックからエア−を噴射してフレキシブル基板を押し上げて露光処理する回路基板の露光方法に於いて、露光時に中央部のエア−圧又は流速が高い露光機のチャックを用いてフォトマスクと感光性材料の間に発生する気泡を追い出してフォトマスクと感光性材料を密着させながら露光処理する手法を採用したものである。
【0007】
ここで、チャックに於ける中央部のエア−圧又は流速を高くする為の手段としては、その領域のエア−噴出の穴径を小さく形成するか、又は中央部のエア−圧又は流速を高くするポンプとそれ以外を低くするポンプとの2系統を用いる手法を採用できる。ポンプを2系統用いる場合には、エア−圧の制御に加えて、エア−を噴射するタイミングも制御できるので、フォトマスクと感光性材料の間に発生する気泡を更に効果的に追い出せる。
【0008】
また、チャックの中央部のエア−噴出の穴径を小さく形成し、それ以外を大きく形成する場合には、その穴径の小大の分布をチャックの中央部に対して線対称又は点対称に配置することができ、このような穴径の配置と上記2系統のポンプの使用により、ワ−クに対して適切なエア−圧の分布を持たせてフォトマスクと感光性材料の間に発生する気泡を更に効果的に追い出しながら確実な露光処理を行うことが可能となる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図示の実施例を参照しながら本発明を更に詳述する。図1は本発明による回路基板の露光方法を説明する為の図である。図に於いて、所要のフォトマスク1の下面には適当な感光性材料2を設けた銅張積層板等のフレキシブル基板3を配置し、このフレキシブル基板3を露光機のチャック4によりフォトマスク1に押し付けて露光処理するものであるが、本発明では、チャック4に於ける中央部のエア−圧又は流速が矢印の如く高い露光機のチャック4を用いてフォトマスク1と感光性材料2の間に発生する気泡5を追い出してフォトマスク1と感光性材料2を密着させながら露光処理するものである。
【0010】
このような露光方法によれば、露光時に中央部から外方に向かってフレキシブル基板3がフォトマスク1の方向に密着して行くので、フォトマスク1と感光性材料2の間に発生する気泡5を追い出して図2のようにフォトマスク1と感光性材料2を密着させながら確実に露光処理できる。
【0011】
チャック4に於ける中央部のエア−圧又は流速を高くする為の手段としては、その領域のエア−噴出の穴径を小さく形成するか、又は中央部のエア−圧又は流速を高くするポンプとそれ以外を低くするポンプとの2系統を用いる手法を採用することもできる。ポンプを2系統用いる場合には、エア−圧の制御に加えて、エア−を噴射するタイミングも制御できるので、フォトマスク1と感光性材料2の間に発生する気泡5を更に効果的に追い出せる。
【0012】
また、チャック4の中央部のエア−噴出の穴径を小さく形成し、それ以外の領域の穴径を大きく形成する場合には、その穴径の小大の分布をチャック4の中央部に対して線対称又は点対称に配置することができ、このような穴径の配置と記述した2系統のポンプの使用により、ワ−クに対して適切なエア−圧の分布を持たせてフォトマスク1と感光性材料2の間に発生する気泡5を更に効果的に追い出しながら確実な露光処理を行うことが可能である。
【0013】
【発明の効果】
本発明による回路基板の露光方法によれば、露光時に中央部のエア−圧又は流速が高い露光機のチャックを用いてフォトマスクと感光性材料の間に発生する気泡を確実に追い出してフォトマスクと感光性材料を密着させながら露光処理するので、解像度の高い露光処理を行える。
【0014】
また、各種のフレキシブル基板等の品目毎に気泡が溜まりやすい箇所が異なるような場合にも好適に対応できる。
【0015】
従って、高解像度を要求される微細品目のフレキシブル基板等に対する露光手段として極めて有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による回路基板の露光方法を説明する為の図。
【図2】本発明により適正な露光処理を行った場合の説明図。
【符号の説明】
1 フォトマスク
2 感光性材料
3 フレキシブル基板
4 露光機のチャック
5 気泡
Claims (2)
- フォトマスクと感光性材料の密着性を高める為に露光機のチャックからエア−を噴射してフレキシブル基板を押し上げて露光処理する際に、フォトマスクと感光性材料の間に発生する気泡を追い出してフォトマスクと感光性材料とを密着させながら露光処理するフレキシブル回路基板の露光方法に於いて、前記チャックに於ける中央部のエア−圧又は流速を高くする為にその領域のエア−噴出の穴径を小さく形成したチャックを用い、前記チャックの中央部以外のエア−噴出の穴径を大きく形成するとともに、その穴径の小大の分布をチャックの中央部に対して線対称又は点対称に配置することを特徴とするフレキシブル回路基板の露光方法。
- 前記チャックに於ける中央部のエア−圧又は流速を高くする為にその中央部のエア−圧又は流速を高くするポンプとそれ以外を低くするポンプとの2系統を用いる請求項1に記載のフレキシブル回路基板の露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001020159A JP4316816B2 (ja) | 2001-01-29 | 2001-01-29 | フレキシブル回路基板の露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001020159A JP4316816B2 (ja) | 2001-01-29 | 2001-01-29 | フレキシブル回路基板の露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002221802A JP2002221802A (ja) | 2002-08-09 |
JP4316816B2 true JP4316816B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=18885915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001020159A Expired - Fee Related JP4316816B2 (ja) | 2001-01-29 | 2001-01-29 | フレキシブル回路基板の露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4316816B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5041214B2 (ja) | 2007-06-15 | 2012-10-03 | ソニー株式会社 | 金属薄膜の形成方法および電子デバイスの製造方法 |
JP5177260B2 (ja) * | 2011-08-01 | 2013-04-03 | ソニー株式会社 | パターン転写方法および金属薄膜パターン転写方法、ならびに電子デバイスの製造方法 |
-
2001
- 2001-01-29 JP JP2001020159A patent/JP4316816B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002221802A (ja) | 2002-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3518676B2 (ja) | プリント配線基板材の表面処理装置 | |
EP1111662A3 (en) | Apparatus and method for aligning semiconductor die to interconnect metal on flex substrate and product therefrom | |
US7758716B2 (en) | Apparatus for spraying etchant solution onto preformed printed circuit board | |
US6757973B2 (en) | Method for forming throughhole in ink-jet print head | |
JP4316816B2 (ja) | フレキシブル回路基板の露光方法 | |
CN214458338U (zh) | 具有预蚀刻制程的蚀刻装置 | |
US20020077042A1 (en) | High accuracy blast processing method and high accuracy blast processing apparatus | |
JP2573396B2 (ja) | エッチング並びに現像方法 | |
WO2004073025A3 (en) | Methods of reducing photoresist distortion while etching in a plasma processing system | |
TW556459B (en) | Substrate processing equipment | |
JP2670835B2 (ja) | 微細パターン形成用エッチング方法とエッチング装置 | |
KR101150022B1 (ko) | 에칭장치 | |
JP2008028153A (ja) | パタン作製装置及びパタン作製方法 | |
JP2003200090A (ja) | 印刷回路基板用の噴射ノズルおよびこれを用いたウェットライン設備 | |
KR20230113669A (ko) | 노즐, 현상 장치 및 피처리체의 가공 방법 | |
KR102300018B1 (ko) | 볼 마운터 헤드 | |
JPH0677624A (ja) | プリント配線板のエッチング方法とエッチング装置 | |
KR200427370Y1 (ko) | 에칭 장치 | |
JP2009206392A (ja) | 表面処理装置、表面処理方法 | |
JP2000104182A (ja) | ウェットエッチング方法および装置、インクジェットヘッドの振動板の製造方法、インクジェットヘッド、並びにインクジェット記録装置 | |
JP2005220370A (ja) | 両面エッチング方法及び両面エッチングシステム | |
JPH05226809A (ja) | プリント配線板のエッチング方法 | |
JP2000203759A (ja) | フィルム剥離装置 | |
JP2006245446A (ja) | レジスト剥離除去装置 | |
JP2000109986A (ja) | 液体吹き付け方法及び液体吹き付け装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060510 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090303 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090422 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090519 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090521 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4316816 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130529 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140529 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |