JP5014582B2 - 薄膜トランジスタ表示板 - Google Patents
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Description
補助検査線は、前記画素電極と同一層からなることが好ましく、検査線は、ゲート線と同一層からなるのが好ましい。
図1は、本発明の一実施例による表示装置のブロック図であり、図2は、本発明の一実施例による液晶表示装置の一つの画素に対する等価回路図である。
表示信号線(G1-Gn、D1-Dm)は、ゲート信号(“走査信号”ともいう)を伝達する複数のゲート線(G1-Gn)と、データ信号を伝達するデータ信号線またはデータ線(D1-Dm)とを含む。ゲート線(G1-Gn)は、大略行方向に延在して互いがほぼ平行し、データ線(D1-Dm)は、大略列方向に延在して互いがほぼ平行する。
スイッチング素子(Q)は、三端子素子であって、その制御端子及び入力端子は各々ゲート線(G1-Gn)及びデータ線(D1-Dm)に接続されていて、出力端子は画素回路に接続されている。また、スイッチング素子(Q)は、薄膜トランジスタであるのが好ましく、特に非晶質シリコンを含むのが良い。
再び図1を参照すると、階調電圧生成部800は、画素の輝度と関連した一組または二組の複数階調電圧を生成する。二組ある場合、二組のうち一組は、共通電圧(Vcom)に対して正(陽)の値を有し、他の一組は負(陰)の値を有する。
信号制御部600は、ゲート駆動部400及びデータ駆動部500などの動作を制御する。
信号制御部600は、外部のグラフィック制御機(図示せず)からRGB映像信号(R、G、B)及びその表示を制御する入力制御信号、例えば、垂直同期信号(Vsync)と水平同期信号(Hsync)、メインクロック(MCLK)、データイネーブル信号(DE)などを提供される。信号制御部600は、入力制御信号及び入力映像信号(R、G、B)に基づいてゲート制御信号(CONT1)及びデータ制御信号(CONT2)などを生成し、映像信号(R、G、B)を表示板部300の動作条件に合うように適切に処理した後、ゲート制御信号(CONT1)をゲート駆動部400に出力し、データ制御信号(CONT2)と処理した映像信号(DAT)をデータ駆動部500に排出する。
図3は、本発明の一実施例による液晶表示装置を概略的に示した配置図である。
これら信号線521-523は、PCB550の回路要素と接続され、ここから信号を受ける。
図3のように、液晶表示板組立体300に具備された横方向のゲート線121と縦方向のデータ線171の交差によって限定される複数の画素領域が集まり、画像を表示する表示領域(D)を構成する。表示領域(D)の外側(斜線部分)には、ブラックマトリックス220が具備されていて、表示領域(D)外部に漏洩される光を遮断している。ゲート線121とデータ線171は、表示領域(D)内で各々実質的に平行な状態を維持するが、表示領域(D)を超えると扇のようにグループ別に1ケ所に集まり、互いの間隔が狭くなり再び実質的に平行状態になるが、この領域をファンアウト領域という。
前述したように本発明の実施例による薄膜トランジスタ表示板100は、図3のように、表示領域(D)外にはゲート線121及びデータ線171がゲート駆動IC440及びデータ駆動IC540と電気的に各々接続するための端部129、179を有していて、このような端部129、179は束に分れて検査線125、126a、125bに接続されている。ゲート線121の端部129とゲートVI検査線126a、126bを接続する接続部の構造を、図面を参照して具体的に説明する。
第1及び第2ゲートVI検査線126a、126bの各々は、縦方向に延びていて、ゲート線121から分離されている。第1ゲートVI検査線126aは、奇数番目ゲート線121の端部129に向かって突出している突出部を有し、第2ゲートVI検査線126bは、偶数番目ゲート線121端部129に向かって突出している突出部を有する。第1及び第2ゲートVI検査線126a、126bの突出部は、ゲート線121に向かって全て同じ方向に突出しているが、互いに反対方向に突出することもできる。
複数の第1導電膜89aは、第1補助検査線89a´を通じて共通に接続されて一体をなし、接触孔189a、188aを通じて奇数番目ゲート線121端部129と第1ゲートVI検査線126aに接続され、これらを互いに電気的及び物理的に接続する。第1導電膜89aは、第1補助検査線89a´の突出部をなし、これらは接触孔189a、188aを完全に覆う。
図9のように、本実施例による薄膜トランジスタ表示板の構造は、ほぼ図7及び図8と同一である。つまり、接続部には、各々のゲート線121端部129が横方向に延びていて、第1及び第2ゲートVI検査線126a、126bが縦方向に延びている。これらを覆う第1及び第2層間絶縁膜180p、180qには、ゲート線121端部129の拡張部及び第1及び第2ゲートVI検査線126a、126bの突出部を各々露出する接触孔188a、188b、189a、189bが形成されている。第2層間絶縁膜180qの上部には、接触孔188a、188b、189a、189bを通じてゲート線121の端部129と第1及び第2ゲートVI検査線126a、126bを各々接続する複数の第1及び第2導電膜89a、89bを突出部に含む第1及び第2補助検査線89a´、89b´が形成されている。
図10のように、本実施例による薄膜トランジスタ表示板で接続部は、図7及び図8と同一である。
100 下部表示板
110 基板
111 遮断層
121 ゲート線
124 ゲート電極
125、126a、126b データVI検査線
129、179 端部
131、133 維持電極線
140 ゲート絶縁膜
143 第1接触孔
145 第2接触孔
150 多結晶シリコン層
152 低濃度ドーピング領域
153 ソース領域
154 チャンネル領域
155 ドレイン領域
157 維持電極領域
158 高濃度ドーピング領域
171 データ線
173 ソース電極
175 ドレイン電極
180p 第1層間絶縁膜
180q 第2層間絶縁膜
190 画素電極
200 上部表示板
230 カラーフィルター
270 共通電極
300 表示板部
321 リード線
400 ゲート駆動部
440 ゲート駆動IC
500 データ駆動部
511、512 可撓性回路基板
521 データ伝達線
523 駆動信号線
540 データ駆動IC
541 IC間接続線
550 印刷回路基板
600 信号制御部
800 階調電圧生成部
Claims (9)
- 複数のゲート線と、
前記ゲート線と交差する複数のデータ線と、
前記ゲート線のうちの一つと前記データ線のうちの一つに各々接続されている複数のスイッチング素子と、
前記スイッチング素子と各々接続されている複数の画素電極と、
複数の前記ゲート線または複数の前記データ線の端部に隣接するように配置されている少なくとも一つ以上の検査線と、
前記ゲート線、前記データ線及び前記スイッチング素子を覆って、前記ゲート線または前記データ線の端部を各々露出する複数の第1接触孔と各々の前記ゲート線または前記データ線に対応して前記検査線を露出する複数の第2接触孔を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の上部に形成され、複数の前記第1及び第2接触孔を通じて少なくとも一つの前記検査線と複数の前記ゲート線または複数の前記データ線とを接続する複数の導電膜が共通に接続されてなる補助検査線と、
を含む薄膜トランジスタ表示板。 - 前記ゲート線または前記データ線の端部各々は、拡張部を有し、各々の前記拡張部に対応して前記検査線は、突出部を有することを特徴とする、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第1及び第2接触孔は、前記拡張部と前記突出部の境界線を露出することを特徴とする、請求項2に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記導電膜は、前記第1及び第2接触孔を完全に覆うことを特徴とする、請求項3に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記検査線は、第1検査線と第2検査線とからなり、
前記第1検査線は、複数の前記ゲート線のうち奇数番目の前記ゲート線に対応する複数の前記導電膜を通じて奇数番目の前記ゲート線を共通に接続し、前記第2検査線は、複数の前記ゲート線のうち偶数番目の前記ゲート線に対応する前記導電膜を通じて偶数番目の前記ゲート線を共通に接続し、
前記補助検査線は、奇数番目の前記ゲート線に接続された複数の前記導電膜を共通に接続する第1補助検査線と偶数番目の前記ゲート線に接続された複数の前記導電膜を共通に接続する第2補助検査線とからなることを特徴とする、請求項4に記載の薄膜トランジスタ表示板。 - 前記第1検査線と前記第2検査線の突出部は、前記ゲート線の端部に向かって同一の方向に突出していることを特徴とする、請求項5に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記第1検査線と前記第2検査線の突出部は、前記ゲート線の端部に対して互いに異なる方向の辺から突出していることを特徴とする、請求項5に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記補助検査線は、前記画素電極と同一層からなることを特徴とする、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
- 前記検査線は、前記ゲート線と同一層からなることを特徴とする、請求項1に記載の薄膜トランジスタ表示板。
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