JP5013326B2 - 植物環境ストレス耐性用組成物 - Google Patents
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Description
カラム温度:24℃
溶離液: A液(水/燐酸/30% NaOH=991/2/7)
B液(水/MeOH/燐酸/30% NaOH=363/635/2/7)
A液からB液へのグラジエント
流速: 1.5 ml/分
検出: UV (259 nm)
MS培地(Gibco BRL Co.)、1%アガロース及び1.5%スクロースを含有する培地、或いは土壌に、アブラナ科シロイヌナズナ及びクレス、マメ科ミヤコグサ、並びにイネ科イネの種子を蒔き、発芽後、所定日数にわたり、DMSO中のPQQを10nM〜10μMの範囲の任意の濃度で植物に散布し、環境ストレス耐性を調べた。
1.塩ストレス耐性
培地: MS培地、1%アガロース、1.5%スクロース
温度: 室温(光照射)
条件: NaCl 100mM、PQQ1nM、10nM、100nM、1μM、10nM
発芽後10日間
結果: PQQ無処理区(コントロール)に比べて、PQQ区は本葉面積が350〜220%展開した(図1)。
培地: MS培地、1%アガロース、1.5%スクロース
温度: 室温
条件: 強光(800μE)、PQQ100nM、1μM、10μM
発芽後20日間
結果: PQQ無処理区(コントロール)に比べて、新鮮重量が125〜150%増加した(図2)。
培地: MS培地、1%アガロース、1.5%スクロース
温度: 室温(光照射)
条件: アセトニトリル1%、PQQ100nM、1μM、10μM,100μM
発芽後14日間
結果: PQQ無処理区(コントロール)は白化し枯死したが、PQQ区は100nM〜10μMで鮮度を保ちつつ生存した(図3)。
土壌: 培養土
温度: 室温(光照射)
条件: 潅水制限した土壌で生育(発芽後35日間)、PQQ1μgを2日間隔で1個体あたり3回散布した。
結果: PQQ無処理区(コントロール)は乾燥枯死するが、PQQ区は鮮度を保ちつつ生存した(図4)。
塩ストレス耐性
培地: MS培地、1%アガロース、1.5%スクロース
温度: 室温(光照射)
条件: NaCl 100mM、PQQ10nM、1μM
発芽後30日間
結果: PQQ無処理区(コントロール)に比べて、茎長が150〜250%伸長し、また根長が230〜280%伸長した(図5)。
塩ストレス耐性
培地: MS培地、1%アガロース、1.5%スクロース
温度: 室温(光照射)
条件: NaCl 100mM、PQQ10nM、1μM
発芽後30日間
結果: PQQ無処理区(コントロール)に比べて、茎長が250〜300%伸長し、また根長が250〜320%伸長した(図6)。
塩ストレス耐性
培地: MS培地、1%アガロース、1.5%スクロース
温度: 室温(光照射)
条件: NaCl 200mM、PQQ100nM、1μM
発芽後30日間
結果: PQQ無処理区(コントロール)に比べて、葉長が180〜250%伸長した(図7)。
Claims (20)
- 前記有効成分が、前記PQQ又はその塩の少なくとも一種を産生する微生物、或いはその破壊産物又はそのPQQ含有抽出物である、請求項1記載の組成物。
- 化学物質が有機溶剤である、請求項1記載の組成物。
- 植物が双子葉又は単子葉植物である、請求項1〜3のいずれか1項記載の組成物。
- PQQの塩が、有機又は無機の酸又は塩基との塩である、請求項1〜4のいずれか1項記載の組成物。
- 組成物が液剤、粉剤、粒剤又はマイクロカプセル剤の形態である、請求項1〜5のいずれか1項記載の組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物を環境ストレス下にある植物に施用して該植物に環境ストレス耐性を付与し、それによって、該植物の生長を調節することを含む、植物成長の調節方法であって、環境ストレス耐性が、塩ストレス、光ストレス、化学物質ストレス、及び乾燥ストレスからなる群から選択される少なくとも1つのストレスに対する耐性である方法。
- 植物が双子葉又は単子葉植物である、請求項7記載の方法。
- 施用濃度が、PQQ又はその塩の濃度として10nM〜10μMである、請求項7又は8記載の方法。
- 前記組成物を従来の植物生長調節剤と組み合わせて施用する、請求項7〜9のいずれか1項記載の方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物を、環境ストレス下にある植物に施用し、それによって該植物の該環境ストレス耐性を増強することを含む、植物の環境ストレス耐性の増強方法であって、環境ストレス耐性が、塩ストレス、光ストレス、化学物質ストレス、及び乾燥ストレスからなる群から選択される少なくとも1つのストレスに対する耐性である方法。
- 化学物質が有機溶剤である、請求項11記載の方法。
- 植物が双子葉又は単子葉植物である、請求項11又は12記載の方法。
- 施用濃度が、PQQ又はその塩の濃度として10nM〜10μMである、請求項11〜13のいずれか1項記載の方法。
- 施用が、土壌、培地又は植物本体への施用である、請求項11〜14のいずれか1項記載の方法。
- 施用が、土壌又は葉面散布である、請求項15記載の方法。
- 前記組成物を従来の植物環境ストレス耐性剤と組み合わせて施用する、請求項11〜16のいずれか1項記載の方法。
- 施用が、植物の種子、発芽又は生長段階で行われる、請求項11〜17のいずれか1項記載の方法。
- 前記式(1)のPQQ又はその塩の少なくとも一種を有効成分として含む環境ストレス下にある植物の生長調節剤であって、環境ストレス耐性が、塩ストレス、光ストレス、化学物質ストレス、及び乾燥ストレスからなる群から選択される少なくとも1つのストレスに対する耐性である生長調節剤。
- 前記有効成分が、前記PQQ又はその塩の少なくとも一種を産生する微生物、或いはその破壊産物又はそのPQQ含有抽出物である、請求項19記載の植物生長調節剤。
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