JP5005953B2 - 薄膜トランジスタ - Google Patents
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Description
11 チャネル領域
12 ソース領域
13 ドレイン領域
14 第1の絶縁層としてのゲート絶縁膜
15 第1の酸化シリコン層としてのゲート酸化シリコン膜
16 第1の窒化シリコン層としてのゲート窒化シリコン膜
19 ゲート電極
24 薄膜トランジスタ
25 第2の絶縁層としての層間絶縁膜
26 第2の窒化シリコン層としての層間窒化シリコン膜
27 第2の酸化シリコン層としての層間酸化シリコン膜
Claims (3)
- チャネル領域、このチャネル領域の両側に位置したソース領域およびドレイン領域を有する半導体層と、
この半導体層上に設けられた第1の絶縁層と、
前記半導体層の前記チャネル領域に対向した前記ゲート絶縁層上に設けられたゲート電極と、
このゲート電極を覆い前記第1の絶縁層上に設けられた第2の絶縁層と、を具備し、
前記第1の絶縁層は、前記半導体層上に設けられた第1の酸化シリコン層と、この第1の酸化シリコン層および前記ゲート電極の間に設けられた第1の窒化シリコン層とを備え、
前記第2の絶縁層は、前記第1の絶縁層上に設けられた第2の窒化シリコン層と、この第2の窒化シリコン層上に設けられた第2の酸化シリコン層とを備え、
前記第1の絶縁層の前記第1の窒化シリコン層は、この第1の窒化シリコン層中のシリコン(Si)の原子量と窒素(N)の原子量との比が、前記第2の絶縁層の前記第2の窒化シリコン層中のシリコン(Si)の原子量と窒素(N)の原子量との比より高い
ことを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 前記第1の絶縁層の前記第1の窒化シリコン層は、この第1の窒化シリコン層中の原子密度が、前記第2の絶縁層の前記第2の窒化シリコン層中の原子密度より高い
ことを特徴とする請求項1記載の薄膜トランジスタ。 - 前記半導体層は、多結晶シリコンにて構成され、
前記第1の絶縁層の第1の窒化シリコン層は、前記半導体層の前記ソース領域および前記ドレイン領域上に位置することなく、前記半導体層の前記チャネル領域上に設けられている
ことを特徴とする請求項1または2いずれか一項に記載の薄膜トランジスタ。
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