JP5005681B2 - ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法 - Google Patents
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Description
CH2=CH・CH=CH2+Cl2 → CH2=CH・CHCl・CH2Cl(1)
CH2=CH・CH=CH2+2Cl2
→ CH2Cl・CHCl・CHCl・CH2Cl(2)
したがって、経済的観点から、この副生成物である1,2,3,4−テトラクロロブタンが原料として好適に用いられる。すなわち、本発明の製造方法では、1,3−ブタジエンをハロゲン化(臭素化、ヨウ素化または塩素化)して前記炭素原子数4個の化合物を得る工程(3)をさらに含み、工程(1)が、工程(3)で得られた炭素原子数4個の化合物と、フッ素ガスとを反応させて、生成物(A)を含む混合物を得る工程であることが好ましい。
CH2Cl・CHCl・CHCl・CH2Cl+6F2
→ CF2Cl・CFCl・CFCl・CF2Cl+6HF(3)
この工程では、極めて反応性に富むフッ素ガスを用いるため、基質である有機化合物とフッ素ガスとの反応によって爆発や腐食する場合がある。さらに、発熱による炭素結合の切断や重合、また、炭素の生成、堆積等による急激な反応や爆発等の副反応が起こる場合もある。また、C−H結合1個をC−F結合に置換すると、約−110kcal/molの反応熱が発生する。例えば、1,2,3,4−テトラクロロブタンとフッ素ガスとを反応させる直接フッ素化工程では約−660kcal/molの反応熱が発生する。このように、反応熱は使用するフッ素ガスのモル数に比例し、フッ素ガス量が多いほど反応熱が大きくなるため、上述のように炭素結合の切断や爆発が起こりやすく、さらに収率の低下等をもたらし、工業的製造、操業上の問題となる場合がある。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、この実施例により何ら限定されるものではない。
工業的に製造されている1,3−ブタジエンを塩素化し、ジクロロブテンを生成した。この際、3,4−ジクロロブテン−1および1,4−ジクロロブテン−2の混合物が生成された。1,4−ジクロロブテン−2は3,4−ジクロロブテン−1に異性化した。3,4−ジクロロブテン−1から脱塩酸によりクロロプレンを製造する工程で、他の塩素化合物は副生成物として蒸留分離され、燃焼処理等により、無害化、廃棄されていた。
<工程(1)>
2つのガス供給口を有する内径20.6mmФ、長さ600mmのインコネル600製反応器(電気ヒーター加熱方式:この反応器には、予め、フッ素ガスにより温度550℃で不動態化処理を実施した。)に、2つのガス供給口から窒素ガスを25NL/h(合計50NL/h)流し、反応器を250℃に昇温した。さらに、それぞれのガス供給口からフッ化水素を15NL/h(合計30NL/h)流した。このように、窒素ガスおよびフッ化水素の混合ガスを希釈ガスとした。
その他 7.8%
(単位:vol%)
また、反応を開始してから約5時間後、反応器出口ガス(工程(1)で得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物)を冷却しながら捕集し、冷却して、主としてフッ化水素に富む相と主として1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンに富む相とに分離した。ここで、窒素ガスも除去された。主として1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンに富む相を抜き出し、アルカリ洗滌後、モレキュラーシーブスにより脱水処理を行って、粗1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを得た。次いで、蒸留精製を行い、1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタン精製品を得た。これをガスクロマトグラフィーにて分析したところ、純分は99.0モル%であった。
内容積500mLのSUS316製オートクレーブ(ジャケット加熱方式;このオートクレーブには、上部に冷却構造を有するジャケットおよび攪拌機が付いていた。)に溶媒としてイソプロピルアルコールを119g、工程(1)で得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを149g、顆粒状の金属亜鉛20gを仕込んだ。
その他 5.5%
(単位:vol%)
前記生成物をモレキュラーシーブスで脱水処理後、蒸留塔2本を用いて高沸カットおよび低沸カットを行い、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエン(精製品1)を得た。ガスクロマトグラフィーで分析を行ったところ、精製品1では、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの純度は99.995vol%以上であった。さらに、もう1本の蒸留塔を用いて、低沸カットを行ってヘキサフルオロ−1,3−ブタジエン(精製品2)を得た。精製品2では、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの純度は99.999%以上であった。
Claims (19)
- (1)希釈ガスの存在下、気相中で、臭素原子、ヨウ素原子および塩素原子からなる群より選ばれる原子を各炭素原子に一つ含む炭素原子数4個の化合物と、フッ素ガスとを反応させて、臭素原子、ヨウ素原子および塩素原子からなる群より選ばれる原子を各炭素原子に一つ含み、かつ前記化合物が有していたすべての水素原子がフッ素原子で置換された炭素原子数4個の生成化合物(A)を含む混合物を得る工程と、
(2)溶媒の存在下で、工程(1)で得られた生成化合物(A)を金属によりフッ素原子を除くハロゲンを脱離させて、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを含む混合物を得る工程と、
を含むことを特徴とするヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 工程(1)が、触媒を存在させずに、前記炭素原子数4個の化合物と、フッ素ガスとを反応させて、生成化合物(A)を含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項1に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 1,3−ブタジエンをハロゲン化して前記炭素原子数4個の化合物を得る工程(3)をさらに含み、
工程(1)が、工程(3)で得られた炭素原子数4個の化合物と、フッ素ガスとを反応させて、生成化合物(A)を含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項1に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 前記希釈ガスが、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオンおよびフッ化水素からなる群より選ばれる少なくとも一種のガスであることを特徴とする請求項1に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 工程(1)が、希釈ガスの存在下、気相中で、1,2,3,4−テトラクロロブタンとフッ素ガスとを反応させて、1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物を得る工程であり、
工程(2)が、溶媒の存在下で、工程(1)で得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを金属により脱塩素化させて、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項1に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 工程(1)が、少なくとも二つの供給口を有する反応器(A)に、1,2,3,4−テトラクロロブタンおよび前記希釈ガスからなる混合ガス(A)を少なくとも一つの供給口から供給し、かつ、フッ素ガスおよび前記希釈ガスからなる混合ガス(B)を他の少なくとも一つの供給口から供給し、該反応器(A)内で、1,2,3,4−テトラクロロブタンとフッ素ガスとを反応させて、1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物を得る工程であって、
混合ガス(A)および(B)全量に対して、1,2,3,4−テトラクロロブタンの濃度が0.5〜4モル%であることを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 工程(1)が、少なくとも二つの供給口を有する反応器(A)に、1,2,3,4−テトラクロロブタンおよび前記希釈ガスからなる混合ガス(A)を少なくとも一つの供給口から供給し、かつ、フッ素ガスおよび前記希釈ガスからなる混合ガス(B)を他の少なくとも一つの供給口から供給し、該反応器(A)内で、1,2,3,4−テトラクロロブタンとフッ素ガスとを反応させて、1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物を得る工程であって、
混合ガス(A)および(B)全量に対して、フッ素ガスの濃度が0.5〜10モル%であることを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 工程(1)が、0.05〜1MPaの圧力下で、1,2,3,4−テトラクロロブタンとフッ素ガスとを反応させて、1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 工程(1)が、50〜500℃で、1,2,3,4−テトラクロロブタンとフッ素ガスとを反応させて、1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 前記溶媒が、有機溶媒および/または水であることを特徴とする請求項1または5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 前記有機溶媒が、アルコール類であることを特徴とする請求項10に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 前記アルコール類が、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールおよびオクタノールからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項11に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 前記金属が、Mg、Zn、Al、Cu、NaおよびLiからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 工程(2)が、20〜150℃で、工程(1)で得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを金属により脱塩素化させて、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 工程(1)で得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを含む混合物を液液分離して、得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンに富む相とアルカリとを接触させて、粗1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを得る工程(4)と、
工程(4)で得られた粗1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを脱水させて、粗1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを得る工程(5)をさらに含み、
工程(2)が、工程(5)で得られた粗1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを金属により脱塩素化させて、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを含む混合物を得る工程であることを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 工程(5)で得られた粗1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを少なくとも一つの蒸留塔に供給し、工程(1)の中間体を分離して、該中間体の少なくとも一部を前記反応器(A)に供給する工程(6)をさらに含むことを特徴とする請求項15に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 工程(2)で得られたヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを含む混合物とアルカリとを接触させて、粗ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを得る工程(7)と、
工程(7)で得られた粗ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを脱水させて、粗ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを得る工程(8)をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。 - 工程(8)で得られた粗ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを、少なくとも2つの蒸留塔を用い、精製する工程(9)をさらに含む請求項17に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
- 工程(2)が、反応器(B)内で、工程(1)で得られた1,2,3,4−テトラクロロヘキサフルオロブタンを金属により脱塩素化させて、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンを含む混合物を得る工程であって、
前記蒸留塔の塔底部より抜き出された高沸成分の少なくとも一部を前記反応器(B)に供給することを特徴とする請求項18に記載のヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法。
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
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WO2019244612A1 (ja) * | 2018-06-22 | 2019-12-26 | 昭和電工株式会社 | ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101127322B1 (ko) * | 2007-03-30 | 2012-03-29 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 1,2,3,4-테트라클로로헥사플루오로부탄의 제조 방법 및 정제 방법 |
CN103922890A (zh) * | 2014-04-17 | 2014-07-16 | 中蓝晨光化工研究设计院有限公司 | 一种制备含氟烯烃的方法 |
CN105693463A (zh) * | 2014-11-28 | 2016-06-22 | 浙江省化工研究院有限公司 | 一种制备c2~c6全氟烷烃的方法 |
CN104529696A (zh) * | 2014-12-08 | 2015-04-22 | 中昊晨光化工研究院有限公司 | 一种全氟1,3-丁二烯的合成及纯化方法 |
EP3303272B1 (en) | 2015-06-04 | 2020-07-08 | Solvay Specialty Polymers Italy S.p.A. | Processes for the synthesis of 1,2,3,4-tetrachloro-hexafluoro-butane |
FR3049599B1 (fr) * | 2016-04-04 | 2018-03-16 | Arkema France | Procede de preparation de l'hexafluorobutadiene. |
CN106336342A (zh) * | 2016-07-19 | 2017-01-18 | 浙江博瑞电子科技有限公司 | 一种碘和氯气为原料制备六氟丁二烯的方法 |
US20200095132A1 (en) * | 2017-05-22 | 2020-03-26 | Showa Denko K.K. | Production method for aqueous solution of zinc halide |
JP6798468B2 (ja) * | 2017-10-23 | 2020-12-09 | ダイキン工業株式会社 | ヘキサフルオロブタジエンの製造方法 |
JP6835061B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2021-02-24 | ダイキン工業株式会社 | ヘキサフルオロブタジエンの精製方法 |
JP7341953B2 (ja) * | 2019-07-01 | 2023-09-11 | ダイキン工業株式会社 | アルカンの製造方法 |
JP7011197B2 (ja) * | 2020-05-12 | 2022-01-26 | ダイキン工業株式会社 | ヘキサフルオロブタジエンの製造方法 |
KR20230043278A (ko) * | 2021-09-23 | 2023-03-31 | 주식회사 진성이엔지 | 1,4-디브로모-2,3-디클로로헥사플루오로부탄 제조 방법 및 이를 이용한 헥사플루오로-1,3-부타디엔 제조 방법 |
WO2023058331A1 (ja) * | 2021-10-04 | 2023-04-13 | 株式会社レゾナック | ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005023734A1 (ja) * | 2003-09-02 | 2005-03-17 | Asahi Glass Company, Limited | 含塩素含フッ素化合物の製造方法 |
WO2006077727A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-27 | Zeon Corporation | オクタフルオロ-1,4-ペンタジエンの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2668182A (en) * | 1950-07-13 | 1954-02-02 | William T Miller | Polyunsaturated fluoroolefins |
US2777004A (en) * | 1953-06-24 | 1957-01-08 | Dow Chemical Co | Preparation of hexafluorobutadiene from symmetrical dichlorodifluoroethylene |
RU2247104C2 (ru) * | 2002-10-17 | 2005-02-27 | Общество с ограниченной ответственностью "НИЦ Экологическая и медицинская химия" (НИЦ Медхим) | Способ получения гексафторбутадиена |
ITMI20050817A1 (it) * | 2005-05-05 | 2006-11-06 | Solvay Solexis Spa | Processo di dealogenazione |
-
2007
- 2007-04-25 JP JP2008513245A patent/JP5005681B2/ja active Active
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005023734A1 (ja) * | 2003-09-02 | 2005-03-17 | Asahi Glass Company, Limited | 含塩素含フッ素化合物の製造方法 |
WO2006077727A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-27 | Zeon Corporation | オクタフルオロ-1,4-ペンタジエンの製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI679186B (zh) * | 2017-05-22 | 2019-12-11 | 日商昭和電工股份有限公司 | 六氟-1,3-丁二烯之製造方法 |
US11192838B2 (en) | 2017-05-22 | 2021-12-07 | Showa Denko K.K. | Production method for hexafluoro-1,3-butadiene |
WO2019244612A1 (ja) * | 2018-06-22 | 2019-12-26 | 昭和電工株式会社 | ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法 |
JPWO2019244612A1 (ja) * | 2018-06-22 | 2021-07-15 | 昭和電工株式会社 | ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエンの製造方法 |
US11117850B2 (en) | 2018-06-22 | 2021-09-14 | Showa Denko K.K. | Method for producing hexafluoro-1,3-butadiene |
JP7359141B2 (ja) | 2018-06-22 | 2023-10-12 | 株式会社レゾナック | ヘキサフルオロ-1,3-ブタジエンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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