JP4980978B2 - 基板処理装置 - Google Patents

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本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、FED(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などの基板に対して処理を施す基板処理装置である。
半導体装置の製造工程において用いられる枚葉型の基板処理装置は、下記特許文献1に示されているように、インデクサ部と処理部とを備えている。特許文献1の装置では、処理部は、基板に対して処理を施すための複数(たとえば4つ)の処理チャンバと、これら複数の処理チャンバに取り囲まれるように配置されて、これらの処理チャンバに対して基板の搬入/搬出を行う主搬送ロボットとを備えている。インデクサ部は、基板を複数枚積層状態で収容可能なキャリヤを保持するキャリヤ保持部と、このキャリヤ保持部に保持されたキャリヤと主搬送ロボットとの間で基板を搬送するインデクサロボットとを備えている。
主搬送ロボットおよびインデクサロボットは、それぞれ、進退可能な上ハンドおよび下ハンドを備えたダブルアーム型のものであり、下ハンドによって処理済の基板を保持するとともに、上ハンドによって未処理の基板を保持するように動作する。
また、処理部は、インデクサロボットと主搬送ロボットとの間の基板の受け渡しを仲介するシャトル搬送機構を備えている。シャトル搬送機構は、上ハンドおよび下ハンドを備えている。
主搬送ロボットは、処理チャンバに上ハンドをアクセスさせて、この処理チャンバから処理済の基板を搬出するとともに、処理チャンバに下ハンドをアクセスさせて、未処理の基板を当該処理チャンバに搬入する。さらに、主搬送ロボットは、上ハンドに保持した処理済の基板をシャトル搬送機構の上ハンドに受け渡すとともに、下ハンドによってシャトル搬送機構の下ハンドから未処理の基板を受け取る。
また、インデクサロボットは、処理済の基板を上ハンドに保持してキャリヤまで搬送して収容するとともに、下ハンドによって未処理の基板をキャリヤから搬出する。さらに、インデクサロボットは、上ハンドによってシャトル搬送機構の上ハンドから処理済の基板を受け取るとともに、下ハンドに保持した未処理の基板を、シャトル搬送機構の下ハンドに受け渡す。
特開2006−278508号公報
このような基板処理装置では、その生産能力を高めるために、処理チャンバを多数個備えることが望ましい。
しかし、前述の構成では、インデクサロボットは、キャリヤからシャトル搬送機構へと未処理の基板を1枚ずつ搬送し、シャトル搬送機構からキャリヤへと処理済みの基板を一枚ずつ搬送するように動作する。その間に、キャリヤとシャトル搬送機構との間で水平方向に走行する必要がある。このような動作のために、インデクサロボットでの基板搬送速度は必ずしも充分ではなく、基板処理装置のスループットを律速するボトルネックとなっている。したがって、処理チャンバを増設しても、スループットを向上することができない。
一方、主搬送ロボットは、固定配置されていて、その周囲に配置された処理チャンバにアクセスする構成であるため、処理チャンバの個数を増やすとすれば、処理チャンバを鉛直方向に多段配置することになる。しかし、主搬送ロボットは、未処理の基板および処理済みの基板をそれぞれ1枚ずつ保持することができず、しかも、処理チャンバを多段配置すれば、大きなストローク範囲でハンドを上下動させる必要が生じる。したがって、インデクサロボットの搬送速度を改善できたとしても、主搬送ロボットの基板搬送速度がボトルネックとなるおそれがある。
しかも、処理チャンバの多段配置は、せいぜい2段程度が限界であり、3段以上の多段配置とするための構造設計が困難であるうえ、クリーンルーム内の高さ制限をクリアしなければならないという問題がある。たとえ、構造設計が可能であったとしても、組み立て性およびメンテナンス性が悪くなるという別の問題が生じる。さらに、段数を増やせば、主搬送ロボットのハンド上下動の高速化が必要となるが、主としてロボット性能限界から、その実現は必ずしも容易ではない。
そこで、この発明の目的は、装置全体のスループットを向上でき、生産効率を向上させることができる基板処理装置を提供することである。
請求項1記載の発明は、基板(W)を収容する基板収容器(C)を保持するインデクサ部(2)と、このインデクサ部に配置されて、基板を保持して搬送するための少なくとも4つのインデクサハンド(18A,18B,18C,18Dを備え、これら少なくとも4つのインデクサハンドで基板収容器に対する基板の搬出入を行うインデクサ基板搬送機構(6)と、基板を処理するための複数の第1処理チャンバ(10)を水平方向に沿う所定の配列方向に沿って一列に配列した第1処理部(7A)と、基板を保持して搬送するための一対の第1ハンド(19A,19B)を備え、前記配列方向に沿って走行可能に設けられて、前記第1処理部の各第1処理チャンバに前記第1ハンドをアクセスさせて基板の搬出入を行う第1主搬送ロボット(12)と、複数の第2処理チャンバ(11)を前記配列方向に沿って一列に配列した第2処理部(7B)と、基板を保持して搬送するための一対の第2ハンド(20A,20B)を備え、前記配列方向に沿って走行可能に設けられて、前記第2処理部の各第2処理チャンバに前記第2ハンドをアクセスさせて基板の搬出入を行う第2主搬送ロボット(13)と、前記インデクサハンドおよび前記第1ハンドによるアクセスを受けて、前記インデクサ基板搬送機構と前記第1主搬送ロボットとの間での基板の受け渡しを仲介する第1基板受け渡しユニット(14,15)と、前記インデクサハンドおよび前記第2ハンドによるアクセスを受けて、前記インデクサ基板搬送機構と前記第2主搬送ロボットとの間での基板の受け渡しを仲介する第2基板受け渡しユニット(16,17)とを含み、前記第1基板受け渡しユニットと前記第2基板受け渡しユニットとが、上下方向に積層配置されており、前記少なくとも4つのインデクサハンドのうち少なくとも2つのインデクサハンドは、前記基板収容器から1枚ずつ基板を取り出すために用いられる搬出用インデクサハンド(18B,18D)であり、前記インデクサ基板搬送機構は、前記少なくとも2つの搬出用インデクサハンドを用いて1回の基板取り出し動作で複数枚の基板を前記基板収容器から取り出し、前記少なくとも2つの搬出用インデクサハンドのうちの第1搬出用インデクサハンド(18B)により取り出された基板を、当該第1搬出用インデクサハンドを用いて前記第1基板受け渡しユニットに引き渡すとともに、前記少なくとも2つの搬出用インデクサハンドの残りのハンドである第2搬出用インデクサハンド(18D)により取り出された基板を、当該第2搬出用インデクサハンドを用いて前記第2基板受け渡しユニットに引き渡す、基板処理装置(1)である。
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
請求項1記載の構成によれば、第1処理部では、複数の第1処理チャンバが所定の配列方向(水平方向)に沿って一列に配列されている。したがって、処理チャンバ数を多くしても、構造設計が困難になることがない。各第1処理チャンバに対する基板の搬出入は、前記配列方向に沿って走行可能に設けられた第1主搬送ロボットによって行われる。第1主搬送ロボットが一対の第1ハンドを備えているので、第1主搬送ロボットは、第1処理チャンバから処理済の基板を受け取るとともに、第1処理チャンバに対して未処理の基板を受け渡すことができる。また、第1主搬送ロボットは、第1基板受け渡しユニットにアクセスして、第1基板受け渡しユニットから未処理の基板を受け取るとともに、この第1基板受け渡しユニットに対して処理済の基板を受け渡すことができる。第1主搬送ロボットは、水平方向に走行することによって各第1処理チャンバにアクセスすることができ、それらの処理チャンバにアクセスするために上下方向の大きなストローク範囲でハンドを移動させる必要がない。そのため、各第1処理チャンバと第1基板受け渡しユニットとの間でのハンド移動を容易に高速化できる。また、第1処理チャンバの数を多くする場合でも、第1主搬送ロボットの走行距離が長くなるだけであり、上下方向ストロークを大きくする場合とは異なり、ロボットの性能限界による制限が少ない。
第2処理部では、複数の第2処理チャンバが前記配列方向(水平方向)に沿って一列に配列されている。したがって、やはり、処理チャンバ数を多くしても、構造設計が困難になることがない。各第2処理チャンバに対する基板の搬出入は、前記配列方向に沿って走行可能に設けられた第2主搬送ロボットによって行われる。第2主搬送ロボットが一対の第2ハンドを備えているので、第2主搬送ロボットは、第2処理チャンバから処理済の基板を受け取るとともに、第2処理チャンバに対して未処理の基板を受け渡すことができる。また、第2主搬送ロボットは、第2基板受け渡しユニットにアクセスして、第2基板受け渡しユニットから未処理の基板を受け取るとともに、この第2基板受け渡しユニットに対して処理済の基板を受け渡すことができる。第2主搬送ロボットは、水平方向に走行することによって各第2処理チャンバにアクセスすることができ、それらの処理チャンバにアクセスするために上下方向の大きなストローク範囲でハンドを移動させる必要がない。そのため、各第2処理チャンバと第2基板受け渡しユニットとの間でのハンド移動を容易に高速化できる。また、第2処理チャンバの数を多くする場合でも、第2主搬送ロボットの走行距離が長くなるだけであり、上下方向ストロークを大きくする場合とは異なり、ロボットの性能限界による制限が少ない。
インデクサ基板搬送機構は、たとえば、4本のインデクサハンドのうち2本の搬出用インデクサハンドを用いて、基板収容器から2枚の未処理の基板を取り出すことができる。そして、インデクサ基板搬送機構は、第1および第2基板受け渡しユニットにアクセスして、基板収容器から取り出した2枚の未処理の基板をそれぞれ第1および第2基板受け渡しユニットに対して受け渡すことができる。
この場合、インデクサ基板搬送機構から第1および第2基板受け渡しユニットに受け渡された2枚の基板は、第1主搬送ロボットおよび第2主搬送ロボットに受け渡されて、これら第1主搬送ロボットおよび第2主搬送ロボットによって、第1処理チャンバおよび第2処理チャンバにそれぞれ搬入される
したがって、第1処理部と基板収容器との間の基板搬送と、第2処理部と基板収容器との間の基板搬送とを、互いに並行して実行させることができ、単位時間当たりの基板搬送枚数を多くすることができる。このため、処理チャンバを比較的多く(たとえば12個程度)配置した場合であっても、基板の搬送停滞を生じさせずに、個々の処理チャンバと基板収容器との間で、基板をスムーズに搬送させることができる。これにより、装置全体のスループットを向上でき、生産効率を向上させることができる。
第1および第2基板受け渡しユニットの水平位置が異なる場合に、インデクサ搬送機構が所定の基板受け渡し位置で基板受け渡し動作を行うとすれば、インデクサ搬送機構は、各受け渡しユニットに対向するようにインデクサハンドを回動させる必要がある。これに対して、第1および第2基板受け渡しユニットを上下方向に積層配置した構成とすれば、インデクサハンドの回動動作を省くことができるので、基板搬送速度を一層向上することができる。
請求項2記載の発明は、前記少なくとも4つのインデクサハンドのうち、前記搬出用インデクサハンドとは異なる少なくとも2つのインデクサハンドは、前記基板収容器に1枚ずつ基板を収納するために用いられる搬入用インデクサハンド(18A,18C)であり、前記インデクサ基板搬送機構は、前記少なくとも2つの搬入用インデクサハンドのうちの第1搬入用インデクサハンド(18A)を用いて前記第1基板受け渡しユニットから基板を受け取り、前記少なくとも2つの搬入用インデクサハンドの残りのハンドである第2搬入用インデクサハンド(18C)を用いて前記第2基板受け渡しユニットから基板を受け取るとともに、前記少なくとも2つの搬入用インデクサハンドを用いて、受け取った複数枚の基板を1回の基板収納動作で前記基板収容器に収納する、請求項1記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第1処理チャンバで処理された処理済の基板および第2処理チャンバで処理された処理済の基板は、それぞれ、第1主搬送ロボットおよび第2主搬送ロボットにより搬出されて、第1および第2基板受け渡しユニットに受け渡される。インデクサ基板搬送機構は、たとえば、4本のインデクサハンドのうちの2本の搬入用インデクサハンドを用いて、第1および第2基板受け渡しユニットから2枚の処理後の基板を受け取るとともに、この2枚の処理後の基板を基板収容器に収納する。
したがって、処理チャンバを比較的多く(たとえば12個程度)配置した場合であっても、基板の搬送停滞を生じさせずに、個々の処理チャンバと基板収容器との間で、基板をより一層スムーズに搬送させることができる。これにより、装置全体のスループットを向上でき、生産効率をより一層向上させることができる。
請求項記載の発明は、前記第1処理部の前記第1処理チャンバと前記第2処理部の前記第2処理チャンバとが、上下方向にずれて配置されており、前記第1基板搬送ロボットおよび前記第2基板搬送ロボットは、上下方向に積層配置された第1走行領域(8)および第2走行領域(9)をそれぞれ走行する、請求項1または2記載の基板処理装置である。
この構成によれば、上下方向に積層配置された第1走行領域および第2走行領域を、第1主搬送ロボットおよび第2主搬送ロボットがそれぞれ走行する。そのため、第1走行領域および第2走行領域を水平方向に並べて配置した場合と比較して、水平方向の装置サイズを小さくすることが可能となる。そして、これら第1主搬送ロボットおよび第2主搬送ロボットが、上下方向にずれて配置された第1処理チャンバおよび第2処理チャンバに対してそれぞれ基板の搬出入を行う。これにより、基板の搬送効率を高く維持しつつ、装置のフットプリントを縮小することができる。
請求項記載の発明は、前記第1処理部と、第2処理部との間に、前記第1基板搬送ロボットおよび前記第2基板搬送ロボットが配置されている、請求項1〜のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第1処理部の第1処理チャンバおよび第2処理部の第2処理チャンバとの間に、第1基板搬送ロボットおよび第2基板搬送ロボットが配置される。したがって、第1処理チャンバと第2処理チャンバとを積層させることなく、装置内に多数個の処理チャンバを配置することができる。第1処理チャンバと第2処理チャンバとを積層させない場合、基板を上下方向に搬送させる必要がないので、基板の搬送停滞の発生が少ない。これにより、基板搬送効率をより一層向上させることができる。
さらに、第1処理チャンバと第2処理チャンバとの上下方向のずれ量を調節すれば、複数個の処理チャンバを上下方向に積層する場合と比較して、装置を上下方向に関して小型化することも可能である。
請求項記載の構成は、前記第1処理部と前記第2処理部とが、基板に対して互いに異なる処理を施すものである、請求項1〜のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、第1処理部と、第2処理部とで、基板に対して互いに異なる処理を施すことができる
たとえば、第1処理部と第2処理部とが、基板に対して互いに異なる処理を施すものである場合、第1処理部に搬入される未処理の基板と、第2処理部に搬入される未処理の基板とが接近すると、一方の基板(第1処理部に搬入される基板)が他方の基板(第2処理部に搬入される基板)に対して悪影響を与えるおそれがある。
この場合に、基板収容器と第1処理チャンバとの間の基板搬送経路と、基板収容器と第2処理チャンバとの間の基板搬送経路とを、互いの経路が重複することがない別経路とすれば、基板搬送の途中で、一方の基板が他方の基板に悪影響を与えることを防止することができる。
より具体的には、たとえば、第1処理部で、その表面に銅配線が形成された基板に対する洗浄処理を施すとともに、第2処理部で、その表面に銅配線が形成されていない基板に対する洗浄処理を施すことができる。
以下では、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、この発明の一実施形態(第1実施形態)に係る基板処理装置1のレイアウトを説明するための図解的な平面図である。図2は、図1の切断面線II−IIから見た断面図である。図3は、図1の切断面線III−IIIから見た断面図である。
この基板処理装置1は、インデクサ部2と、このインデクサ部2に結合された処理部3とを備えている。インデクサ部2は、複数枚の基板W(たとえば半導体ウエハ)を積層状態で保持することができる基板収容器としてのキャリヤCを、所定の方向に沿って整列状態で保持することができるキャリヤ保持部4と、このキャリヤ保持部4に沿う方向(Y方向)に長手を有するインデクサ搬送路5内を、走行することができるインデクサロボット(インデクサ基板搬送機構)6とを備えている。
キャリヤ保持部4には、複数(この実施形態では4個)のキャリヤCを保持することができるようになっている。キャリヤCは、その内部にそれぞれ複数枚の基板Wを、所定間隔をあけて上下方向に配列した積層状態で収容することができるものであり、未処理の基板Wまたは処理済の基板Wが収容されることになる。
図1および図2では、キャリヤCとして、基板Wを密閉した状態で収容するFOUP(Front Opening Unified Pod)を図示しているが、これ以外にも、SMIF(Standard Mechanical Interface)ポッド、OC(Open Cassette)等の他の形態のキャリヤを用いることもできる。
一方、処理部3は、インデクサ搬送路5に直交する水平方向(X方向)に沿って、上下方向(Z方向)に積層配置された第1搬送室(第1走行領域)8および第2搬送室(第2走行領域)9と、第1搬送室8および第2搬送室9の一方側に、第1および第2搬送室8,9に沿って一列に配列された6個の第1処理チャンバ10と、第1および第2搬送室8,9に対して第1処理チャンバ10と反対側に、第1および第2搬送室8,9に沿って一列に配列された6個の第2処理チャンバ11と、第1処理チャンバ10に対する基板Wの搬出入を行う第1主搬送ロボット12と、第2処理チャンバ11に対する基板Wの搬出入を行う第2主搬送ロボット13と、インデクサ部2と第1主搬送ロボット12との間、およびインデクサ部2と第2主搬送ロボット13との間での基板Wの受け渡しを仲介する基板受け渡し機構としての4つの第1〜第4基板受け渡し台14,15,16,17とを備えている。第1および第2基板受け渡し台14,15が第1基板受け渡しユニットとして機能し、第3および第4基板受け渡し台16,17が第2基板受け渡しユニットとして機能している。
6個の第1処理チャンバ10によって第1処理部7Aが形成されている。6個の第1処理チャンバ10は、インデクサ搬送路5に直交する水平方向(X方向)に沿って一列に配列されている。各第1処理チャンバ10では、基板Wに対して所定の処理が施される。
6個の第2処理チャンバ11によって第2処理部7Bが形成されている。6個の第2処理チャンバ11は、インデクサ搬送路5に直交する水平方向に沿って(X方向)一列に配列されている。各第2処理チャンバ11では、基板Wに対して所定の処理が施される。
第1処理チャンバ10および第2処理チャンバ11は、形状およびサイズが同一である。第1処理チャンバ10と第2処理チャンバ11とは上下方向にずれて配置されている。具体的には、第1処理チャンバ10が第2処理チャンバ11よりも第2処理チャンバ11半個分程度上方位置に配置されている。この実施形態では、第1処理チャンバ10の処理内容と、第2処理チャンバ11の処理内容とは、互いに共通するものであってもよいし、異なるものであってもよい。
第1主搬送ロボット12は、一対の搬送室8,9のうち上方の第1搬送室8上に配置されて、インデクサ搬送路5に直交する水平方向に沿って、第1搬送室8上を往復走行する。第1主搬送ロボット12は、一列に配列された第1処理チャンバ10のそれぞれに対して第1上ハンド19A(後述する)および第1下ハンド19B(後述する)をアクセスさせて、基板Wの搬出入を行う。第1主搬送ロボット12は、第1処理チャンバ10にアクセスするために上下方向の大きなストローク範囲でハンドを移動させる必要がないので、第1処理チャンバ10と後述する第1および第2基板受け渡し台14,15との間でのハンド移動を比較的高速に行うことができる。
第2主搬送ロボット13は、一対の搬送室8,9のうち下方の第2搬送室9上に配置されて、インデクサ搬送路5に直交する水平方向に沿って、第2搬送室9上を往復走行する。第2主搬送ロボット13は、一列に配列された第2処理チャンバ11のそれぞれに対して第2上ハンド20A(後述する)および第2下ハンド20B(後述する)をアクセスさせて、基板Wの搬出入を行う。第2主搬送ロボット13は、第2処理チャンバ11にアクセスするために上下方向の大きなストローク範囲でハンドを移動させる必要がないので、第2処理チャンバ11と後述する第3および第4基板受け渡し台16,17との間でのハンド移動を比較的高速に行うことができる。
第1〜第4基板受け渡し台14,15,16,17は、上下方向に積層されて形成されており、それらの上面に基板Wを載置することができるようになっている。最上位の第1基板受け渡し台14および上から2番目の第2基板受け渡し台15は、第1搬送室8の高さに、しかも第1搬送室8に対向して配置されている。上から3番目の第3基板受け渡し台16および最下位の第4基板受け渡し台17は、第2搬送室9の高さに、しかも第2搬送室9に対向して配置されている。このため、第1および第2主搬送ロボット12,13と、第1〜第4基板受け渡し台14〜17との間で基板Wの受け渡しを行うときに、第1および第2主搬送ロボット12,13のハンド19A,19B,20A,20B(後述する)を対応する基板受け渡し台14〜17に対向するように回動させる動作が不要である。
第1処理チャンバ10の上方には、第1処理チャンバ10に対して処理流体(処理液および処理ガス)を供給するための第1上流体ボックス47が配置されている。第1上流体ボックス47は、インデクサ搬送路5に直交する水平方向(X方向)に沿う長手を有しており、6個の第1処理チャンバ10全てに対して処理流体を供給する。
さらにまた、第1〜第4基板受け渡し台14〜17を挟んで第1搬送室8に対向するアクセス位置、および第1〜第4基板受け渡し台14〜17を挟んで第2搬送室9に対向するアクセス位置で、インデクサロボット6と第1〜第4基板受け渡し台14〜17との間での基板受け渡しが行われる。これにより、第1〜第4基板受け渡し台14〜17において、第1および第2主搬送ロボット12,13からのアクセス方向とインデクサロボット6からのアクセス方向とが平面視において一直線上にのる。そのため、第1〜第4基板受け渡し台14〜17は、基板Wの回転操作を行う必要がなく、そのような回転手段も結合されていない。
第2処理チャンバ11の上方には、第2処理チャンバ11に対して処理流体(処理液および処理ガス)を供給するための第2上流体ボックス48が配置されている。第2上流体ボックス48は、インデクサ搬送路5に直交する水平方向(X方向)に沿う長手を有しており、6個の第2処理チャンバ11全てに対して処理流体を供給する。
第2上流体ボックス48の上方には、処理チャンバ10,11の電装品や搬送ロボット6,12,13の電装品を収容する電装ボックス46が配置されている。
また、第1処理チャンバ10および第2搬送室9の下方には、廃液処理機構や処理液回収処理機構などの下部流体ボックス49が配置されている。
図4Aは、インデクサロボット6の構成を示す斜視図である。図4Bは、図4Aの矢印D方向から見た背面図である。
インデクサロボット6は、上下に位置をずらせて配置された4本のアーム21A,21B,21C,21Dを、互いに独立して水平方向に進退させることが可能な4本アーム型のロボットである。最上位のアーム21Aの先端部には、第1ハンド18A(第1搬入用インデクサハンド)が結合されている。上から2つ目のアーム21Bの先端部には、第2ハンド18B(第1搬出用インデクサハンド)が結合されている。上から3つ目のアーム21Cの先端部には、第3ハンド18C(第2搬入用インデクサハンド)が結合されている。最下位のアーム21Dの先端部には、第4ハンド18D(第2搬出用インデクサハンド)が結合されている。
アーム21A,21Cは、その進退方向の上流側から見た形状(背面形状)が「コ」字状に形成されており、アーム21B,21Dは、その進退方向の下流側から見た形状(正面形状)が「コ」字状に形成されている。アーム21Aはアーム21Cの外側にあり、アーム21Bはアーム21Dの外側にある。
インデクサロボット6は、4本のアーム21A,21B,21C,21Dを保持する直方体状のアーム保持部22と、アーム保持部22を下方から支持する基台部23とを備えている。アーム保持部22の進退方向に沿う一側面(図4Aで示す左奥側の側面)には、水平方向に沿う方向に延びる上下2本のレール28が形成されている。この一側面側のレール28に、アーム21A,21Cの下板内端部が嵌められている。また、アーム保持部22の進退方向に沿う他側面(図4Aで示す右手前側の側面)には、水平方向に延びる上下2本のレール28が形成されている。この他側面側のレール28に、アーム21B,21Dの下板内端部が嵌められている。
アーム保持部22は、アーム21A,21B,21C,21Dを進退させて、第1〜第4ハンド18A〜18Dを進退させるためのアーム進退駆動機構24を備えている。
基台部23は、アーム21A,21B,21C,21Dを、アーム保持部22ごと鉛直軸線回りに回転させる回転駆動機構25と、アーム21A,21B,21C,21Dを、アーム保持部22ごと昇降させる昇降駆動機構26とを備えている。基台部23には、インデクサロボット6をインデクサ搬送路5に沿って直線的に往復走行させるための走行駆動機構27が結合されている。
図5は、第1主搬送ロボット12の構成を示す側面図である。
第1主搬送ロボット12は、上下に重なり合って配置された第1上アーム30Aおよび第1下アーム30Bと、第1上アーム30Aおよび第1下アーム30Bの先端にそれぞれ取り付けられた第1上ハンド19Aおよび第1下ハンド19Bと、第1上アーム30Aおよび第1下アーム30Bを支持するためのアーム支持部37と、このアーム支持部37を保持するための基台部31と、基台部31の下方に設けられた走行脚32とを備えている。第1上ハンド19Aおよび第1下ハンド19Bには、第1上ハンド19Aおよび第1下ハンド19Bをそれぞれ独立して水平方向に直線的に進退させるためのアーム進退駆動機構33が結合されている。
基台部31は、第1上ハンド19Aおよび第1下ハンド19Bを、アーム支持部37ごと鉛直軸線回りに回転させる回転駆動機構34と、第1上ハンド19Aおよび第1下ハンド19Bを、アーム支持部37ごと昇降させるための昇降駆動機構35とを備えている。走行脚32の内部には、推進コイル36が埋設されている。
第1搬送室8の底面には、第1搬送室8に沿う走行レール39が配置されている。走行レール39は、基部40と、基部40上に配置された一対のレール41とを備えている。
基部40には、第1搬送室8の推進方向に対して、N極およびS極が交互に配置されたマグネット38が埋設されている。このマグネット38と推進コイル36とによってリニアモータ42が形成されている。このリニアモータ42が駆動されることにより、第1主搬送ロボット12が、第1搬送室8の走行レール39上を、第2搬送室9に沿って移動する。
図6は、第2主搬送ロボット13の構成を示す側面図である。
第2主搬送ロボット13は、上下に重なり合って配置された第2上アーム50Aおよび第2下アーム50Bと、第2上アーム50Aおよび第2下アーム50Bの先端にそれぞれ取り付けられた第2上ハンド20Aおよび第2下ハンド20Bと、第2上アーム50Aおよび第2下アーム50Bを支持するためのアーム支持部57と、このアーム支持部57を保持するための基台部51と、基台部51の下方に設けられた走行脚52とを備えている。第2上ハンド20Aおよび第2下ハンド20Bには、第2上ハンド20Aおよび第2下ハンド20Bを独立して水平方向に直線的に進退させるためのアーム進退駆動機構53が結合されている。
基台部51は、第2上ハンド20Aおよび第2下ハンド20Bを鉛直軸線回りに回転させる回転駆動機構54と、第2上ハンド20Aおよび第2下ハンド20Bを昇降させるための昇降駆動機構55とを備えている。走行脚52の内部には、推進コイル56が埋設されている。
第2搬送室9の底面には、第2搬送室9に沿う走行レール59が配置されている。走行レール59は、基部60と、基部60上に配置された一対のレール61とを備えている。
基部60には、N極およびS極が交互に配置されたマグネット58が埋設されている。マグネット58と推進コイル56とによってリニアモータ62が形成されている。このリニアモータ62が駆動されることにより、第2主搬送ロボット13が走行レール59上を、第2搬送室9に沿って移動する。
図7は、基板処理装置1の電気的構成を示すブロック図である。
基板処理装置1は、マイクロコンピュータを含む構成の制御装置70を備えている。この制御装置70には、アーム進退駆動機構24、回転駆動機構25、昇降駆動機構26、走行駆動機構27、アーム進退駆動機構33、回転駆動機構34、昇降駆動機構35、リニアモータ42、アーム進退駆動機構53、回転駆動機構54、昇降駆動機構55およびリニアモータ62が、制御対象として接続されている。
この基板処理装置1では、キャリヤCに収容されている未処理の基板Wがインデクサロボット6により搬出される。
図8は、インデクサロボット6のキャリヤCからの基板取り出し動作を説明するための図解図である。
たとえば、キャリヤCから未処理の基板Wを取り出す場合には、制御装置70は、インデクサロボット6のアーム進退駆動機構24を制御して、第1〜第4ハンド18A〜18Dを退避させる。そして、制御装置70は、走行駆動機構27を制御して、インデクサロボット6を、キャリヤCに対向するアクセス位置までインデクサ搬送路5を移動させる。さらに、制御装置70は、回転駆動機構25を制御して、アーム保持部22を鉛直軸線まわりに回転させて、第1〜第4ハンド18A〜18DをキャリヤCに対向させる(図8(a)参照)。このとき、第1〜第4ハンド18A〜18Dは、基板Wを保持していない。キャリヤC内では、複数の未処理の基板Wがそれぞれ支持棚44に支持されている。なお、図8では、図面表現の簡略化のため、支持棚44のうちのウエハWが支持される部分(の断面)のみを描いている。
制御装置70は、昇降駆動機構26を制御して、支持棚44に支持された未処理の基板W(図8(a)で示す上方の基板W)に第2ハンド18Bを対向させる。そして、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、支持棚44に支持された未処理の基板Wの下方に第2ハンド18Bを進出させるとともに(図8(b)参照)、昇降駆動機構26を制御して、第2ハンド18Bを上昇させることにより、キャリヤCの支持棚44から未処理の基板Wをすくい取る(図8(c)参照)。
また、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して第2ハンド18Bを退避させるとともに、昇降駆動機構26を制御して支持棚44に支持された未処理の基板W(図8(a)で示す下方の基板W)に第4ハンド18Dを対向させる。そして、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、第4ハンド18Dを進出させるとともに(図8(d)参照)、昇降駆動機構26を制御して、第4ハンド18Dを上昇させることにより、キャリヤCの支持棚44から未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構24を制御して、第4ハンド18Dを退避させる(図8(e)参照)。こうして、未処理の基板WのキャリヤCから取り出しが達成される。この場合、インデクサロボット6の1回の基板取り出し動作で、キャリヤCから2枚の基板Wを取り出すことができる。
なお、第2ハンド18Bによる基板Wの取り出しと、第4ハンド18Dによる基板Wの取り出しとは、同時に行われていてもよい。すなわち、アーム進退駆動機構24が制御されて、第2ハンド18Bおよび第4ハンド18Dが同時に進出させられた後に、昇降駆動機構26が制御されて、第2ハンド18Bおよび第4ハンド18Dが上昇されることにより、第2ハンド18Bおよび第4ハンド18Dが、キャリヤCの支持棚44から2枚の未処理の基板Wを同時にすくい取るものであってもよい。
制御装置70は、回転駆動機構25を制御して、第1〜第4ハンド18A〜18Dが処理部3側を向くようにインデクサロボット6を鉛直軸線まわりに回転させた後、走行駆動機構27を駆動して、インデクサロボット6を、第1〜第4基板受け渡し台14〜17に対向するアクセス位置までインデクサ搬送路5上を走行させるとともに、昇降駆動機構26を制御して、インデクサロボット6を、第1基板受け渡し台14に対向するアクセス位置(第1主搬送ロボット12とほぼ同じ高さ)まで上昇させる。
図9は、インデクサロボット6と第1〜第4基板受け渡し台14〜17との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。なお、図9では、インデクサロボット6と第1および第2基板受け渡し台14,15との間の基板Wの受け渡しを図示しており、インデクサロボット6と第3および第4基板受け渡し台16,17との間の基板Wの受け渡しの図示は省略している。
インデクサロボット6と基板受け渡し動作を行う前の第1および第3基板受け渡し台14,16に処理済の基板Wが載置されているが、第2および第4基板受け渡し台15,17に基板Wは載置されていない。
第1ハンド18Aが第1基板受け渡し台14に対向すると(図9(a)参照)、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、第1基板受け渡し台14の下方に基板Wを保持していない第1ハンド18Aを進出させるとともに(図9(b)参照)、昇降駆動機構26を制御して、第1ハンド18Aを上昇させることにより、第1基板受け渡し台14から処理済の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構24を制御して第1ハンド18Aを退避させる(図9(c)参照)。これにより、処理済の基板Wが、第1基板受け渡し台14から第1ハンド18Aに受け渡される。
第1ハンド18Aの退避後、制御装置70は、昇降駆動機構26を制御して、第2ハンド18Bを、第2基板受け渡し台15に対向させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、第2基板受け渡し台15の上方に未処理の基板Wを保持した第2ハンド18Bを進出させるとともに(図9(d)参照)、昇降駆動機構26を制御して、第2ハンド18Bを下降させることにより、第2基板受け渡し台15に未処理の基板Wが載置される(図9(e)参照)。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構24を制御して第2ハンド18Bを退避させる。これにより、未処理の基板Wが、第2ハンド18Bから第2基板受け渡し台15に受け渡される。
第2ハンド18Bの退避後、制御装置70は、昇降駆動機構26を制御して、インデクサロボット6を、第3基板受け渡し台16に対向するアクセス位置(第2主搬送ロボット13とほぼ同じ高さ)まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、第3基板受け渡し台16の下方に基板Wを保持していない第3ハンド18Cを進出させるとともに、昇降駆動機構26を制御して、第3ハンド18Cを上昇させることにより、第3基板受け渡し台16から処理済の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構24を制御して第3ハンド18Cを退避させる。これにより、処理済の基板Wが、第3基板受け渡し台16から第3ハンド18Cに受け渡される。
第3ハンド18Cの退避後、制御装置70は、昇降駆動機構26を制御して、第4ハンド18Dを、第4基板受け渡し台17に対向させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、第4基板受け渡し台17の上方に、未処理の基板Wを保持した第4ハンド18Dを進出させるとともに、昇降駆動機構26を制御して、第2ハンド18Bを下降させることにより、第4基板受け渡し台17に処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構24を制御して第4ハンド18Dを退避させる。これにより、未処理の基板Wが、第4ハンド18Dから第4基板受け渡し台17に受け渡される。その後、制御装置70は、走行駆動機構27を駆動して、インデクサロボット6を、キャリヤCに対向するアクセス位置まで走行させる。
なお、前述の説明では、第1ハンド18A、第2ハンド18B、第3ハンド18Cおよび第4ハンド18Dの順に、ハンド18A〜18Dと基板受け渡し台14〜17との間で基板Wを受け渡す構成を例に挙げたが、この順は一例であり、各ハンド18A〜18Dと基板受け渡し台14〜17との基板受け渡し動作がその他の順序で行われるものであってもよい。
また、第1ハンド18Aおよび第3ハンド18Cの基板Wの受け取り動作が同時に行われてもよい。また、第2ハンド18Bおよび第4ハンド18Dの基板Wの受け渡し動作が、同時に行われてもよい。
なお、インデクサロボット6と基板受け渡し台14〜17との間の基板受け渡し動作後には、第2および第4基板受け渡し台15,17に未処理の基板Wが載置されており、第1および第3基板受け渡し台14,16には基板Wは載置されていない。一方、インデクサロボット6の第1ハンド18Aおよび第3ハンド18Cには処理済の基板Wが保持されており、第2ハンド18Bおよび第4ハンド18Dには基板Wが保持されていない(図9(f)参照)。
図10は、インデクサロボット6のキャリヤCへの基板収納動作を説明するための図解図である。
インデクサロボット6がキャリヤCに対向するアクセス位置まで到達した後、制御装置70は、回転駆動機構25を制御して、アーム保持部22を鉛直軸線まわりに回転させて、第1〜第4ハンド18A〜18DをキャリヤCに対向させる(図10(a)参照)。
制御装置70は、昇降駆動機構26を制御して、支持棚44(図10(a)で示す上方)に第1ハンド18Aを対向させる。そして、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、処理済の基板Wを保持した第1ハンド18Aを、当該支持棚44の上方に進出させるとともに(図10(b)参照)、昇降駆動機構26を制御して、第2ハンド18Bを下降させることにより、キャリヤCの支持棚44に処理済の基板Wが載置される(図10(c)参照)。
また、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して第1ハンド18Aを退避させるとともに、昇降駆動機構26を制御して支持棚44(図10(a)で示す下方)に第3ハンド18Cを対向させる。そして、制御装置70は、アーム進退駆動機構24を制御して、第3ハンド18Cを進出させるとともに(図10(d)参照)、昇降駆動機構26を制御して、第3ハンド18Cを下降させることにより、当該支持棚44に処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構24を制御して、第3ハンド18Cを退避させる(図10(e)参照)。こうして、処理済の基板WのキャリヤCへの収納が達成される。
なお、第1ハンド18Aによる基板Wの収納と、第3ハンド18Cによる基板Wの収納とは、同時に行われていてもよい。すなわち、アーム進退駆動機構24が制御されて、第1ハンド18Aおよび第3ハンド18Cが同時に進出させられた後に、昇降駆動機構26が制御されて、第1ハンド18Aおよび第3ハンド18Cが下降されることにより、キャリヤCの支持棚44に、2枚の処理済の基板Wが第1ハンド18Aおよび第3ハンド18Cから同時に載置されてもよい。この場合、インデクサロボット6の1回の基板受渡し動作で、キャリアCに2枚の基板Wを同時に収納することができる。
図11は、第1および第2主搬送ロボット12,13と第1〜第4基板受け渡し台14〜17との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。
前述のように、インデクサロボット6から第1〜第4基板受け渡し台14〜17への基板受け渡し動作後には、第2および第4基板受け渡し台15,17に、未処理の基板Wが載置されており、第1および第3基板受け渡し台14,16には基板Wは載置されていない。
第1処理チャンバ10で処理が施された処理済の基板Wは、第1主搬送ロボット12の第1上ハンド19Aによって搬出されて、当該第1上ハンド19Aに保持される。制御装置70は、リニアモータ42を制御して、第1主搬送ロボット12を、第1および第2基板受け渡し台14,15に対向するアクセス位置まで第1搬送室8内を走行させる。
第1主搬送ロボット12が第1および第2基板受け渡し台14,15に対向するアクセス位置に到達すると(図11(a)参照)、制御装置70は、第1主搬送ロボット12のアーム進退駆動機構33を制御して、処理済の基板Wを保持した第1上ハンド19Aを、第1基板受け渡し台14の上方に進出させるとともに(図11(b)参照)、昇降駆動機構35を制御して、第1上ハンド19Aを下降させることにより、第1基板受け渡し台14に処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構33を制御して第1上ハンド19Aを退避させるとともに、昇降駆動機構35を制御して、第1下ハンド19Bを、第2基板受け渡し台15に対向する位置まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構33を制御して、第2基板受け渡し台15の下方に基板Wを保持していない第1下ハンド19Bを進出させるとともに(図11(c)参照)、昇降駆動機構35を制御して、第1下ハンド19Bを上昇させることにより、第2基板受け渡し台15から未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構33を制御して第1下ハンド19Bを退避させる(図11(d)参照)。これにより、第1上ハンド19Aに保持されていた処理済の基板Wが、第1基板受け渡し台14に受け渡されるとともに、第2基板受け渡し台15から第1下ハンド19Bに対して未処理の基板Wが受け渡される。基板受け渡し動作後の第1主搬送ロボット12には、第1下ハンド19Bに未処理の基板Wが保持されており、第1上ハンド19Aは基板Wを保持していない。
その後、制御装置70は、リニアモータ42を制御して、第1主搬送ロボット12を、所期の第1処理チャンバ10に対向する位置まで第1搬送室8内を走行させる。そして、第1主搬送ロボット12は、第2基板受け渡し台15から受け取った未処理の基板Wを当該第1処理チャンバ10内に搬入する。
第1主搬送ロボット12の基板受け渡し動作後には、第1基板受け渡し台14に処理済の基板Wが載置されており、第2基板受け渡し台15には基板Wは載置されていない。
一方、第2処理チャンバ11で処理が施された処理済の基板Wは、第2主搬送ロボット13の第2上ハンド20Aによって搬出されて、当該第2上ハンド20Aに保持される。制御装置70は、リニアモータ62を制御して、第2主搬送ロボット13を、第3および第4基板受け渡し台16,17に対向するアクセス位置まで第2搬送室9内を走行させる。
第2主搬送ロボット13が第3および第4基板受け渡し台16,17に対向するアクセス位置に到達すると(図11(e)参照)、制御装置70は、第2主搬送ロボット13のアーム進退駆動機構53を制御して、処理済の基板Wを保持した第2上ハンド20Aを、第3基板受け渡し台16の上方に進出させるとともに(図11(f)参照)、昇降駆動機構55を制御して、第2上ハンド20Aを下降させることにより、第3基板受け渡し台16に処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構53を制御して第2上ハンド20Aを退避させるとともに、昇降駆動機構55を制御して、第2下ハンド20Bを、第4基板受け渡し台17に対向する位置まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構53を制御して、第4基板受け渡し台17の下方に基板Wを保持していない第2下ハンド20Bを進出させるとともに(図11(g)参照)、昇降駆動機構55を制御して、第2下ハンド20Bを上昇させることにより、第4基板受け渡し台17から未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構53を制御して第2下ハンド20Bを退避させる(図11(h)参照)。これにより、第2上ハンド20Aに保持されていた処理済の基板Wが、第3基板受け渡し台16に受け渡されるとともに、第4基板受け渡し台17から第2下ハンド20Bに対して未処理の基板Wが受け渡される。基板受け渡し動作後の第2主搬送ロボット13には、第2下ハンド20Bに未処理の基板Wが保持されており、第2上ハンド20Aは基板Wを保持していない。
また、第2主搬送ロボット13の基板受け渡し動作後には、第3基板受け渡し台16に処理済の基板Wが載置されており、第4基板受け渡し台17には基板Wは載置されていない。
その後、制御装置70は、リニアモータ62を制御して、第2主搬送ロボット13を、所期の第2処理チャンバ11に対向する位置まで第2搬送室9内を走行させる。そして、第2主搬送ロボット13は、第4基板受け渡し台17から受け取った未処理の基板Wを当該第2処理チャンバ11内に搬入する。
この実施形態によれば、インデクサロボット6から第2基板受け渡し台15に受け渡された基板Wは、第1主搬送ロボット12に受け渡されて、第1処理チャンバ10に搬入される。また、インデクサロボット6から第4基板受け渡し台17に受け渡された基板Wは、第2主搬送ロボット13に受け渡されて、第2処理チャンバ11に搬入される。
さらに、第1処理チャンバ10で処理された処理済の基板Wは、第1主搬送ロボット12により搬出されて、第1基板受け渡し台14に受け渡される。また、第2処理チャンバ11で処理された処理済の基板Wは、第2主搬送ロボット13により搬出されて、第2基板受け渡し台15に受け渡される。そして、インデクサロボット6は、第1および第3ハンド18A,18Cを用いて第1および第3基板受け渡し台14,16から2枚の処理後の基板Wを受け取るとともに、この2枚の処理後の基板Wを、第1および第3ハンド18A,18Cを用いてキャリヤCに収納するようになる。
したがって、第1処理チャンバ10とキャリヤCとの間の基板搬送と、第2処理チャンバ11とキャリヤCとの間の基板搬送とを、互いに並行して実行させることができる。このため、処理チャンバ10,11の個数が比較的多数の12個であっても、基板Wの搬送停滞を生じさせずに、個々の処理チャンバ10,11とキャリヤCとの間で、基板Wをスムーズに搬送させることができる。これにより、基板処理装置1全体のスループットを向上でき、生産効率を向上させることができる。
また、上下方向に積層配置された第1搬送室8および第2搬送室9上を、第1主搬送ロボット12および第2主搬送ロボット13がそれぞれ走行する。そのため、第1搬送室8および第2搬送室9を水平方向に並べて配置した場合と比較して、基板処理装置1の水平方向サイズを小さくすることができる。そして、これら第1主搬送ロボット12および第2主搬送ロボット13が、上下方向にずれて配置された第1処理チャンバ10および第2処理チャンバ11に対してそれぞれ基板Wの搬出入を行う。これにより、基板Wの搬送効率を高く維持しつつ、基板処理装置1のフットプリントを縮小することができる。
さらに、第1〜第4基板受け渡し台14〜17が、インデクサ搬送路5の長手方向(Y方向)の水平位置が異なる場合には、インデクサロボット6は、アクセス位置で各基板受け渡し台14〜17との基板受け渡し動作を行う場合には各基板受け渡し台14〜17に対向するように第1〜第4ハンド18A〜18Dを回動させる必要がある。これに対して、第1〜第4基板受け渡し台14〜17を上下方向に積層配置した構成とすれば、第1〜第4ハンド18A〜18Dの回動動作を省くことができる。これにより、基板搬送速度を一層向上することができる。
図12は、本発明の第2実施形態に係る基板処理装置71のレイアウトを説明するための図解的な平面図である。図13は、図12の切断面線XIII−XIIIから見た断面図である。
この第2実施形態において、前述の第1実施形態に示された各部に対応する部分には、第1実施形態と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
この第2実施形態に係る基板処理装置71が、前述の実施形態の基板処理装置1と相違する点は、4本アーム型のインデクサロボット6に代えて、2台のダブルアーム式のインデクサロボット72,73(第1インデクサロボット72および第2インデクサロボット73)が設けられたことにある。
また、基板処理装置71と基板処理装置1との間の他の相違点は、第1〜第4基板受け渡し台14〜17に代えて、基板受け渡し機構としての一対の基板受け渡しユニット74,75(第1基板受け渡しユニット74、第2基板受け渡しユニット75)が水平方向(Y方向)に位置をずらして配置されたことにある。
この実施形態にかかる基板処理装置71では、第1処理部7Aにおいて、その表面に銅配線が形成された基板Wに対する洗浄処理が施され、また、第2処理部7Bにおいて、その表面に銅配線が形成されていない基板Wに対する洗浄処理が施される。第1処理部7Aの第1処理チャンバ10に搬入される基板Wは、たとえばダマシンプロセスで層間絶縁膜上が銅膜で被覆された後に、たとえばCMP(Chemical Mechanical Polishing)処理による平坦化処理が施された後のものである。そのため、基板Wの表面には、研磨に伴って除去された銅が残留しており、この場合に、第2処理部7Bで処理される基板Wが悪影響を受けることが考えられる。
第1および第2インデクサロボット72,73は、インデクサ搬送路5の長手方向(Y方向)に沿って並べて配置されている。
第1インデクサロボット72は、一対のアーム81,82を独立して駆動することができる多関節アーム型のロボットであって、アーム81,82の先端部には、上下に位置をずらせて第1上インデクサハンド72Aおよび第1下インデクサハンド72B(図15参照)がそれぞれ結合されている。第1インデクサロボット72は、アーム81,82を駆動することによって、第1上インデクサハンド72Aおよび第1下インデクサハンド72Bを独立して進退させるアーム進退駆動機構85を備えている。さらに、第1インデクサロボット72は、アーム81,82を鉛直軸線回りに回転させるアーム回転駆動機構(図示しない)と、アーム81,82を昇降させる昇降駆動機構87(図14参照)とを備えている。また、第1インデクサロボット72には、この第1インデクサロボット72をインデクサ搬送路5に沿って直線的に往復走行させるための第1走行駆動機構78が結合されている。
第2インデクサロボット73は、一対のアーム83,84を独立して駆動することができる多関節アーム型のロボットであって、アーム83,84の先端部には、上下に位置をずらせて第2上インデクサハンド73Aおよび第2下インデクサハンド73B(図17参照)がそれぞれ結合されている。第2インデクサロボット73は、アーム83,84を駆動することによって、第2上インデクサハンド73Aおよび第2下インデクサハンド73Bを独立して進退させるアーム進退駆動機構86を備えている。さらに、第2インデクサロボット73は、アーム83,84を鉛直軸線回りに回転させるアーム回転駆動機構(図示しない)と、アーム83,84を昇降させる昇降駆動機構88(図14参照)とを備えている。また、第2インデクサロボット73には、この第2インデクサロボット73をインデクサ搬送路5に沿って直線的に往復走行させるための第2走行駆動機構79が結合されている。
第1基板受け渡しユニット74は、第1インデクサロボット72と第1主搬送ロボット12との間での基板Wの受け渡しを仲介するためのものであり、第1搬送室8とほぼ同じ高さに配置された上載置台74Aおよび下載置台74Bを備えている。上載置台74Aおよび下載置台74Bは、その上面に基板Wを載置することができ、上下方向にずれて、かつ水平方向にずれて配置されている。第1基板受け渡しユニット74には、上載置台74Aおよび下載置台74Bを、これら上載置台74Aおよび下載置台74Bの姿勢を変更するために鉛直軸線回りに回転させる第1ユニット回転駆動機構76が結合されている。
第2基板受け渡しユニット75は、第2インデクサロボット73と第2主搬送ロボット13との間での基板Wの受け渡しを仲介するためのものであり、第2搬送室9とほぼ同じ高さに配置された上載置台75Aおよび下載置台75Bを備えている。上載置台75Aおよび下載置台75Bは、その上面に基板Wを載置することができ、上下方向にずれて、かつ、水平方向にずれて配置されている。第2基板受け渡しユニット75には、上載置台75Aおよび下載置台75Bを、これら上載置台75Aおよび下載置台75Bの姿勢を変更するために鉛直軸線回りに回転させる第2ユニット回転駆動機構77が結合されている。
この基板処理装置71では、キャリヤCと第1処理チャンバ10との間の基板搬送経路(第1主搬送ロボット12、第1基板受け渡しユニット74および第1インデクサロボット72を経由する経路)と、キャリヤCと第2処理チャンバ11との間の基板搬送経路(第2主搬送ロボット13、第2基板受け渡しユニット75および第2インデクサロボット73を経由する経路)とが、互いの経路が重複しない別経路になっている。
図14は、基板処理装置71の電気的構成を示すブロック図である。
基板処理装置71の制御装置70には、アーム進退駆動機構85、昇降駆動機構87、アーム進退駆動機構86、昇降駆動機構88、第1走行駆動機構78、第2走行駆動機構79、第1ユニット回転駆動機構76、第2ユニット回転駆動機構77、アーム進退駆動機構33、回転駆動機構34、昇降駆動機構35、リニアモータ42、アーム進退駆動機構53、回転駆動機構54、昇降駆動機構55およびリニアモータ62が、制御対象として接続されている。
図15は、第1インデクサロボット72と第1基板受け渡しユニット74との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。第1インデクサロボット72と基板受け渡しを行う前の上載置台74Aには処理済の基板Wが載置されているが、下載置台74Bには基板Wは載置されていない。また、基板受け渡し動作前の第1インデクサロボット72は、その表面に銅配線が形成された未処理の基板Wが、キャリヤCから取り出されて第1下インデクサハンド72Bに保持されているが、第1上インデクサハンド72Aには基板Wが保持されていない。
制御装置70は、第1走行駆動機構78を駆動して、第1インデクサロボット72を、第1基板受け渡しユニット74に対向するアクセス位置までインデクサ搬送路5上を走行させるとともに、昇降駆動機構87を制御して、第1インデクサロボット72を、第1基板受け渡しユニット74に対向するアクセス位置(第1主搬送ロボット12とほぼ同じ高さ)まで昇降させる。また、制御装置70は、第1ユニット回転駆動機構76を駆動して、上載置台74Aおよび下載置台74Bが第1インデクサロボット72に対向するように、これら上載置台74Aおよび下載置台74Bを鉛直軸線回りに回転させる。
第1インデクサロボット72がアクセス位置に到達すると(図15(a)参照)、制御装置70は、アーム進退駆動機構85を制御して、基板Wを保持していない第1上インデクサハンド72Aを上載置台74Aの下方に進出させるとともに(図15(b)参照)、昇降駆動機構87を制御して、第1上インデクサハンド72Aを上昇させることにより、上載置台74Aから未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構85を制御して、第1上インデクサハンド72Aを退避させるとともに、昇降駆動機構87を制御して、第1下インデクサハンド72Bを、下載置台74Bに対向する位置まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構85を制御して、下載置台74Bの上方に第1下インデクサハンド72Bを進出させるとともに(図15(c)参照)、昇降駆動機構87を制御して、第1下インデクサハンド72Bを下降させることにより、下載置台74Bに処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構85を制御して第1下インデクサハンド72Bを退避させる(図15(d)参照)。これにより、第1下インデクサハンド72Bに保持されていた未処理の基板Wが、下載置台74Bに受け渡されるとともに、上載置台74Aから第1上インデクサハンド72Aに対して処理済の基板Wが受け渡される。基板受け渡し動作後の第1インデクサロボット72には、第1上インデクサハンド72Aに処理済の基板Wが保持されており、第1下インデクサハンド72Bは基板Wを保持していない。
第1インデクサロボット72の基板受け渡し動作後には、下載置台74Bに、その表面に銅配線が形成された未処理の基板Wが載置されており、上載置台74Aには基板Wは載置されていない。
図16は、第1主搬送ロボット12と第1基板受け渡しユニット74との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。
第1処理チャンバ10で処理が施された処理済の基板Wは、第1主搬送ロボット12の第1上ハンド19Aによって搬出されて、当該第1上ハンド19Aに保持される。制御装置70は、リニアモータ42を制御して、第1主搬送ロボット12を、第1基板受け渡しユニット74の上載置台74Aおよび下載置台74Bに対向するアクセス位置まで第1搬送室8内を走行させる。また、制御装置70は、第1ユニット回転駆動機構76を駆動して、上載置台74Aおよび下載置台74Bが、アクセス位置にある第1主搬送ロボット12に対向するように、これら上載置台74Aおよび下載置台74Bを鉛直軸線回りに回転させる。
第1主搬送ロボット12が上載置台74Aおよび下載置台74Bに対向するアクセス位置に到達すると(図16(a)参照)、制御装置70は、第1主搬送ロボット12のアーム進退駆動機構33を制御して、処理済の基板Wを保持した第1上ハンド19Aを、上載置台74Aの上方に進出させるとともに(図16(b)参照)、昇降駆動機構35を制御して、第1上ハンド19Aを下降させることにより、上載置台74Aに処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構33を制御して第1上ハンド19Aを退避させるとともに、昇降駆動機構35を制御して、第1下ハンド19Bを、下載置台74Bに対向する位置まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構33を制御して、基板Wを保持していない第1下ハンド19Bを下載置台74Bの下方に進出させるとともに(図16(c)参照)、昇降駆動機構35を制御して、第1下ハンド19Bを上昇させることにより、下載置台74Bから未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構33を制御して第1下ハンド19Bを退避させる(図16(d)参照)。これにより、第1上ハンド19Aに保持されていた処理済の基板Wが、上載置台74Aに受け渡されるとともに、下載置台74Bから第1下ハンド19Bに対して未処理の基板Wが受け渡される。基板受け渡し動作後の第1主搬送ロボット12には、第1下ハンド19Bに未処理の基板Wが保持されており、第1上ハンド19Aは基板Wを保持していない。
その後、制御装置70は、リニアモータ42を制御して、第1主搬送ロボット12を、所期の第1処理チャンバ10に対向する位置まで第1搬送室8内を走行させる。そして、第1主搬送ロボット12は、下載置台74Bから受け取った表面に銅配線が形成された未処理の基板Wを当該第1処理チャンバ10に搬入する。
図17は、第2インデクサロボット73と第2基板受け渡しユニット75との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。第2インデクサロボット73と基板受け渡しを行う前の上載置台75Aには処理済の基板Wが載置されているが、下載置台75Bには基板Wは載置されていない。また、受け渡し動作前の第2インデクサロボット73は、その表面に銅配線が形成されていない未処理の基板Wが第2下インデクサハンド73Bに保持されているが、第2上インデクサハンド73Aには基板Wが保持されていない。
制御装置70は、第2走行駆動機構79を駆動して、第2インデクサロボット73を、第2基板受け渡しユニット75に対向するアクセス位置までインデクサ搬送路5上を走行させる。また、制御装置70は、第2ユニット回転駆動機構77を駆動して、上載置台75Aおよび下載置台75Bが第2インデクサロボット73に対向するように、これら上載置台75Aおよび下載置台75Bを鉛直軸線回りに回転させる。
第2インデクサロボット73がアクセス位置に到達すると(図17(a)参照)、制御装置70は、アーム進退駆動機構86を制御して、基板Wを保持していない第2上インデクサハンド73Aを、上載置台75Aの下方に進出させるとともに(図17(b)参照)、昇降駆動機構88を制御して、第2上インデクサハンド73Aを上昇させることにより、上載置台75Aから未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構86を制御して、第2上インデクサハンド73Aを退避させるとともに、昇降駆動機構88を制御して、第2下インデクサハンド73Bを、下載置台75Bに対向する位置まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構86を制御して、下載置台75Bの上方に第2下インデクサハンド73Bを進出させるとともに(図17(c)参照)、昇降駆動機構87を制御して、第2下インデクサハンド73Bを下降させることにより、下載置台75Bに処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構86を制御して第2下インデクサハンド73Bを退避させる(図17(d)参照)。これにより、第2下インデクサハンド73Bに保持されていた未処理の基板Wが下載置台75Bに受け渡されるとともに、上載置台75Aから第2上インデクサハンド73Aに対して処理済の基板Wが受け渡される。基板受け渡し動作後の第2インデクサロボット73には、第2上インデクサハンド73Aに処理済の基板Wが保持されており、第2下インデクサハンド73Bは基板Wを保持していない。
第2インデクサロボット73の基板受け渡し動作後には、下載置台75Bに、その表面に銅配線が形成されていない未処理の基板Wが載置されており、上載置台75Aには基板Wは載置されていない。
図18は、第2主搬送ロボット13と第2基板受け渡しユニット75との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。
第2処理チャンバ11で処理が施された処理済の基板Wは、第2主搬送ロボット13の第2上ハンド20Aによって搬出されて、当該第2上ハンド20Aに保持される。制御装置70は、リニアモータ62を制御して、第2主搬送ロボット13を、第2基板受け渡しユニット75の上載置台75Aおよび下載置台75Bに対向するアクセス位置まで第2搬送室9内を走行させる。
第2主搬送ロボット13が上載置台75Aおよび下載置台75Bに対向するアクセス位置に到達すると(図18(a)参照)、制御装置70は、第2主搬送ロボット13のアーム進退駆動機構53を制御して、処理済の基板Wを保持した第2上ハンド20Aを、上載置台75Aの上方に進出させるとともに(図18(b)参照)、昇降駆動機構55を制御して、第2上ハンド20Aを下降させることにより、上載置台75Aに処理済の基板Wが載置される。その後、制御装置70はアーム進退駆動機構53を制御して第2上ハンド20Aを退避させるとともに、昇降駆動機構55を制御して、第2下ハンド20Bを下載置台75Bに対向する位置まで下降させる。制御装置70は、アーム進退駆動機構53を制御して、下載置台75Bの下方に基板Wを保持していない第2下ハンド20Bを進出させるとともに(図18(c)参照)、昇降駆動機構55を制御して、第2下ハンド20Bを上昇させることにより、下載置台75Bから未処理の基板Wをすくい取る。その後、制御装置70は、アーム進退駆動機構53を制御して第2下ハンド20Bを退避させる(図18(d)参照)。これにより、第2上ハンド20Aに保持されていた処理済の基板Wが、上載置台75Aに受け渡されるとともに、下載置台75Bから第2下ハンド20Bに対して未処理の基板Wが受け渡される。基板受け渡し動作後の第1主搬送ロボット12には、第2下ハンド20Bに未処理の基板Wが保持されており、第2上ハンド20Aは基板Wを保持していない。
その後、制御装置70は、リニアモータ62を制御して、第2主搬送ロボット13を、所期の第2処理チャンバ11に対向する位置まで第2搬送室9内を走行させる。そして、第2主搬送ロボット13は、下載置台75Bから受け取った表面に銅配線が形成されていない未処理の基板Wを当該第2処理チャンバ11に搬入する。
以上のように、この第2実施形態によれば、キャリヤCと第1処理チャンバ10との間の基板搬送経路と、キャリヤCと第2処理チャンバ11との間の基板搬送経路とを、分離することができる。これにより、基板Wの搬送停滞の発生をより抑制することができ、基板処理装置1全体のスループットをさらに向上できる。
また、キャリヤCと第1処理チャンバ10との間の基板搬送経路と、キャリヤCと第2処理チャンバ11との間の基板搬送経路とを分離しているので、基板搬送の途中で、その表面に銅配線が形成された処理前の基板Wが、処理済の基板Wに悪影響を与えることを防止することができる。
以上、この発明の2つの実施形態について説明したが、この発明は、他の形態で実施することもできる。
前述の第2実施形態では、基板受け渡しユニット74,75と、第1インデクサロボット72および第1インデクサロボット72とを組み合わせた装置レイアウトを例にとって説明したが、基板受け渡しユニット74,75と、第1実施形態の4本アーム型のインデクサロボット6とを組み合わせることもできる。
また、各基板受け渡しユニット74,75にボールねじなどの昇降駆動機構が結合されることにより、各基板受け渡しユニット74,75が昇降可能な構成にされていてもよい。この場合、第1搬送室8と第2搬送室9との上下方向の中間に位置するアクセス位置(基板受け渡し位置)で、第1および第2インデクサロボット72,73と第1および第2基板受け渡しユニット74,75との間の基板受け渡しを行わせることもできる。この場合、第1基板受け渡しユニット74は、当該アクセス位置と第1搬送室8に対向する位置との間で昇降されて、当該アクセス位置で、第1インデクサロボット72との間の基板Wの受け渡しを行い、第1搬送室8に対向する位置で、第1主搬送ロボット12との間の基板Wの受け渡しを行う。また、第2基板受け渡しユニット75は、当該アクセス位置と第2搬送室9に対向する位置との間で昇降されて、当該アクセス位置で、第2インデクサロボット73との間の基板Wの受け渡しを行い、第2搬送室9に対向する位置で、第2主搬送ロボット13との間の基板Wの受け渡しを行う。この場合、インデクサロボット72,73の上下方向のストロークを小さくすることができ、ロボットに性能限界がある場合であっても、インデクサロボット72,73と、第1および第2基板受け渡しユニット74,75との間の基板搬送を円滑に行うことができる。
また、第2搬送室9とほぼ同じ高さのアクセス位置で、第1および第2インデクサロボット72,73と第1および第2基板受け渡しユニット74,75との間の基板受け渡しを行わせることもできる。この場合、第1基板受け渡しユニット74は、当該アクセス位置と第1搬送室8に対向する位置との間で昇降されて、当該アクセス位置で、第1インデクサロボット72との間の基板Wの受け渡しを行い、第1搬送室8に対向する位置で、第1主搬送ロボット12との間の基板Wの受け渡しを行う。また、第2基板受け渡しユニット75は、昇降されることなく、当該アクセス位置で、第2インデクサロボット73との間の基板Wの受け渡しを行い、第2搬送室9に対向する位置で、第2主搬送ロボット13との間の基板Wの受け渡しを行う。
むろん、基板受け渡しユニット74,75が一体的に昇降する構成であってもよい。
さらに、前述の第2実施形態では、第1処理部7Aと第2処理部7Bとでは、基板Wに対して異なる処理が施された場合を例に挙げたが、共通の処理が施されていてもよい。
第1および第2実施形態では、インデクサハンド(第1〜第4ハンド18A〜18D,第1上インデクサハンド72A,第1下インデクサハンド72B、第2上インデクサハンド73A、第2下上インデクサハンド73B)の数を合計4本の場合を例に挙げて説明したが、むろんインデクサハンドの数が5本以上であってもよい。
各処理チャンバ10,11の個数が6個の場合を例に挙げて説明したが、むろん6個には限定されず7個以上であってもよい。処理チャンバ10,11の数をさらに多くする場合であっても、主搬送ロボット12,13の走行距離が長くなるだけであるので、主搬送ロボット12,13の性能限界による制限が少ない。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
本発明の第1実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを説明するための図解的な平面図である。 図1の切断面線II−IIから見た断面図である。 図1の切断面線III−IIIから見た断面図である。 図1に示すインデクサロボットの構成を示す斜視図である。 図4Aの矢印D方向から見た背面図である。 図1に示す第1主搬送ロボットの構成を示す側面図である。 図2に示す第2主搬送ロボットの構成を示す側面図である。 図1に示す基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。 インデクサロボットのキャリヤからの基板取り出し動作を説明するための図解図である。 インデクサロボットと第1〜第4基板受け渡し台との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。 インデクサロボットのキャリヤへの基板収納動作を説明するための図解図である。 第1および第2主搬送ロボットと第1〜第4基板受け渡し台との間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。 本発明の第2実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを説明するための図解的な平面図である。 図12の切断面線XIII−XIIIから見た断面図である。 図12に示す基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。 第1インデクサロボットと第1基板受け渡しユニットとの間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。 第1主搬送ロボットと第1基板受け渡しユニットとの間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。 第2インデクサロボットと第2基板受け渡しユニットとの間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。 第2主搬送ロボットと第2基板受け渡しユニットとの間における基板受け渡し動作を説明するための図解図である。
符号の説明
1,71 基板処理装置
W 基板
C キャリヤ(基板収容器)
2 インデクサ部
6 インデクサロボット(インデクサ基板搬送機構)
7A 第1処理部
7B 第2処理部
8 第1搬送室(第1走行領域)
9 第2搬送室(第2走行領域)
10 第1処理チャンバ
11 第2処理チャンバ
12 第1主搬送ロボット
13 第2主搬送ロボット
14 第1基板受け渡し台(第1基板受け渡しユニット)
15 第2基板受け渡し台(第1基板受け渡しユニット)
16 第3基板受け渡し台(第2基板受け渡しユニット)
17 第4基板受け渡し台(第2基板受け渡しユニット)
18A 第1ハンド(第1搬入用インデクサハンド)
18B 第2ハンド(第1搬出用インデクサハンド)
18C 第3ハンド(第2搬入用インデクサハンド)
18D 第4ハンド(第2搬出用インデクサハンド)
19A 第1上ハンド
19B 第1下ハンド
20A 第2上ハンド
20B 第2下ハンド
72 第1インデクサロボット
72A 第1上インデクサハンド
72B 第1下インデクサハンド
73 第2インデクサロボット
73A 第2上インデクサハンド
73B 第2下インデクサハンド
74 第1基板受け渡しユニット
75 第2基板受け渡しユニット

Claims (5)

  1. 基板を収容する基板収容器を保持するインデクサ部と、
    このインデクサ部に配置されて、基板を保持して搬送するための少なくとも4つのインデクサハンドを備え、これら少なくとも4つのインデクサハンドで基板収容器に対する基板の搬出入を行うインデクサ基板搬送機構と、
    基板を処理するための複数の第1処理チャンバを水平方向に沿う所定の配列方向に沿って一列に配列した第1処理部と、
    基板を保持して搬送するための一対の第1ハンドを備え、前記配列方向に沿って走行可能に設けられて、前記第1処理部の各第1処理チャンバに前記第1ハンドをアクセスさせて基板の搬出入を行う第1主搬送ロボットと、
    複数の第2処理チャンバを前記配列方向に沿って一列に配列した第2処理部と、
    基板を保持して搬送するための一対の第2ハンドを備え、前記配列方向に沿って走行可能に設けられて、前記第2処理部の各第2処理チャンバに前記第2ハンドをアクセスさせて基板の搬出入を行う第2主搬送ロボットと、
    前記インデクサハンドおよび前記第1ハンドによるアクセスを受けて、前記インデクサ基板搬送機構と前記第1主搬送ロボットとの間での基板の受け渡しを仲介する第1基板受け渡しユニットと、
    前記インデクサハンドおよび前記第2ハンドによるアクセスを受けて、前記インデクサ基板搬送機構と前記第2主搬送ロボットとの間での基板の受け渡しを仲介する第2基板受け渡しユニットとを含み、
    前記第1基板受け渡しユニットと前記第2基板受け渡しユニットとが、上下方向に積層配置されており、
    前記少なくとも4つのインデクサハンドのうち少なくとも2つのインデクサハンドは、前記基板収容器から1枚ずつ基板を取り出すために用いられる搬出用インデクサハンドであり、
    前記インデクサ基板搬送機構は、前記少なくとも2つの搬出用インデクサハンドを用いて1回の基板取り出し動作で複数枚の基板を前記基板収容器から取り出し、前記少なくとも2つの搬出用インデクサハンドのうちの第1搬出用インデクサハンドにより取り出された基板を、当該第1搬出用インデクサハンドを用いて前記第1基板受け渡しユニットに引き渡すとともに、前記少なくとも2つの搬出用インデクサハンドの残りのハンドである第2搬出用インデクサハンドにより取り出された基板を、当該第2搬出用インデクサハンドを用いて前記第2基板受け渡しユニットに引き渡す、基板処理装置。
  2. 前記少なくとも4つのインデクサハンドのうち、前記搬出用インデクサハンドとは異なる少なくとも2つのインデクサハンドは、前記基板収容器に1枚ずつ基板を収納するために用いられる搬入用インデクサハンドであり、
    前記インデクサ基板搬送機構は、前記少なくとも2つの搬入用インデクサハンドのうちの第1搬入用インデクサハンドを用いて前記第1基板受け渡しユニットから基板を受け取り、前記少なくとも2つの搬入用インデクサハンドの残りのハンドである第2搬出用インデクサハンドを用いて前記第2基板受け渡しユニットから基板を受け取るとともに、前記少なくとも2つの搬入用インデクサハンドを用いて、受け取った複数枚の基板を1回の基板収納動作で前記基板収容器に収納する、請求項1記載の基板処理装置。
  3. 前記第1処理部の前記第1処理チャンバと前記第2処理部の前記第2処理チャンバとが、上下方向にずれて配置されており、
    前記第1基板搬送ロボットおよび前記第2基板搬送ロボットは、上下方向に積層配置された第1走行領域および第2走行領域をそれぞれ走行する、請求項1または2記載の基板処理装置。
  4. 前記第1処理部と、第2処理部との間に、前記第1基板搬送ロボットおよび前記第2基板搬送ロボットが配置されている、請求項1〜のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  5. 前記第1処理部と前記第2処理部とが、基板に対して互いに異なる処理を施すものである、請求項1〜のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106373911A (zh) * 2011-09-22 2017-02-01 东京毅力科创株式会社 基板处理装置及基板处理方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101226954B1 (ko) * 2008-08-06 2013-01-28 세메스 주식회사 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법
JP5212165B2 (ja) 2009-02-20 2013-06-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP2011176040A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Nsk Ltd 露光装置ユニット及びその基板交換方法
JP5735809B2 (ja) * 2011-01-13 2015-06-17 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP5551625B2 (ja) * 2011-01-13 2014-07-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
US9443749B2 (en) 2011-01-20 2016-09-13 Tokyo Electron Limited Vacuum processing apparatus
JP5964548B2 (ja) * 2011-02-24 2016-08-03 株式会社ディスコ ウエーハ加工装置
JP5883232B2 (ja) 2011-03-26 2016-03-09 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP5505384B2 (ja) 2011-08-04 2014-05-28 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体
JP5661584B2 (ja) * 2011-09-22 2015-01-28 東京エレクトロン株式会社 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
TWI523134B (zh) 2011-09-22 2016-02-21 東京威力科創股份有限公司 基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體
JP6030393B2 (ja) 2012-09-26 2016-11-24 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP5610009B2 (ja) * 2013-02-26 2014-10-22 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP6559976B2 (ja) * 2015-03-03 2019-08-14 川崎重工業株式会社 基板搬送ロボットおよび基板処理システム
JP7211142B2 (ja) * 2019-02-15 2023-01-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002313769A (ja) * 2001-04-18 2002-10-25 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
TWI262165B (en) * 2002-10-16 2006-09-21 Sez Ag Device and method for transporting wafer-shaped articles
JP4356936B2 (ja) * 2005-01-21 2009-11-04 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置及びその方法
JP4485980B2 (ja) * 2005-03-28 2010-06-23 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置および基板搬送方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106373911A (zh) * 2011-09-22 2017-02-01 东京毅力科创株式会社 基板处理装置及基板处理方法
CN106373911B (zh) * 2011-09-22 2019-04-09 东京毅力科创株式会社 基板处理装置及基板处理方法

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