JP4966800B2 - 熱処理装置 - Google Patents
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Description
w 半導体ウエハ(被処理基板)
3 熱処理炉
6 蓋体
10 ボート(基板保持具)
10a,10b ボート構成体(基板保持具構成体)
12 昇降機構
14 ボート回転機構
30 爪(基板支持部)
33 上下移動機構
45 回動機構
48 係止機構
Claims (4)
- 複数枚の被処理基板を上下方向に所定の間隔で搭載する基板保持具と、該基板保持具を搬入して被処理基板に所定の熱処理を施す熱処理炉とを備えた熱処理装置において、天部材及び底部材の間に複数本の支柱を掛け渡し、これら支柱に被処理基板の周縁部を支持する基板支持部を上下方向に所定間隔で有すると共に被処理基板を出し入れする間隔の広い支柱間を有し、且つ上記支柱が同一円周上に配置されて上記基板保持具を構成する2つの保持具構成体と、一方の保持具構成体には表面を上面にした被処理基板が、他方の保持具構成体には裏面を上面にした被処理基板がそれぞれ搭載され、上下に隣り合う被処理基板が裏面同士と表面同士とが交互になり、表面同士の間隔が処理の均一性を確保し得る間隔に、裏面同士の間隔が表面同士の間隔よりも狭い間隔に設定すべく上記2つの保持具構成体を相対的に上下方向に移動させる上下移動機構と、上記支柱が上記被処理基板の周縁部を該被処理基板の直径よりも狭い間隔で取り囲むように上記2つの保持具構成体を相対的に周方向に回動させる回動機構とを備えたことを特徴とする熱処理装置。
- 上記保持具構成の天部材及び底部材がそれぞれ平面略T字状に形成され、これら天部材と底部材の対応する端部間に支柱が掛け渡されており、一方の保持具構成体が他方の保持具構成体よりも上下方向に長く形成されていることを特徴とする請求項1記載の熱処理装置。
- 上記上下移動機構が、上記熱処理炉の炉口を閉塞する蓋体の上部に保温筒を介して載置された上記基板保持具を熱処理炉に搬入搬出すべく昇降する昇降機構と、該昇降機構により熱処理炉から搬出された時に他方の保持具構成体を係止して一方の保持具構成体との上下方向の相対的位置関係を元の状態に復帰させる係止機構とからなることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱処理装置。
- 上記回動機構が、上記熱処理炉の炉口を閉塞する蓋体の上部に保温筒を介して載置された上記基板保持具を熱処理炉に搬入搬出すべく昇降する昇降機構と、該昇降機構により上記熱処理炉から搬出された時に一方の保持具構成体を係止して他方の保持具構成体との上下方向の相対的位置関係を元の状態に復帰させる係止機構と、該係止機構に係止された他方の保持具構成体に対して一方の保持具構成体を周方向に所定の角度だけ回動させる基板保持具用回転機構からなることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の熱処理装置。
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