JP4944433B2 - スパークプラグ - Google Patents

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Description

本発明は、火花放電を行う電極に貴金属チップを接合した内燃機関用のスパークプラグに関するものである。
従来、内燃機関には点火のためのスパークプラグが用いられている。一般的なスパークプラグは、軸孔内に中心電極が挿設された絶縁碍子の径方向周囲を取り囲んで保持する主体金具と、この主体金具の先端に一端が溶接され、他端が中心電極の先端に対向し火花放電ギャップを形成する接地電極とから構成されている。この火花放電ギャップにおいて、中心電極と接地電極との互いの対向面には耐火花消耗性向上のための貴金属チップが設けられている。
この貴金属チップの材料には、従来、融点が高く耐熱性に優れ耐酸化性が良好なPt合金が利用されている。このPt合金からなる貴金属チップは、Ni合金等の卑金属からなる電極チップと比べ火花放電に伴う電極の消耗が少なく、良好な点火性能を長期間に亘って維持することができ、耐久寿命が良好である。しかし、Pt合金製の貴金属チップを内燃機関の腐食雰囲気下で使用した場合、その表層部にて粒成長が進行すると、粒界の割れに伴い結晶粒が剥離(脱落)する虞があった。
この粒成長を抑制するにはIrを添加すると効果があることは知られているが、Irは高温となると酸化物を形成して揮発しやすい。そこで、Rhなど酸化揮発しにくい貴金属をPt−Ir合金に含有することでIrの酸化揮発を抑制し、そのIrによりPtの粒成長を防止した耐久性の高い貴金属チップが提案されている(例えば特許文献1参照)。
特公昭61−30014号公報
しかしながら近年、内燃機関の高出力化が進み、スパークプラグが使用される内燃機関の燃焼室内の温度は、従来よりも高温となった。Ptは融点が高く耐熱性に優れ耐酸化性が良好ではあるが、従来よりもさらに高温な状態では耐酸化性に不安が生じる。また一方では、Irが酸化揮発して貴金属チップの表層部に微細な空隙が多く生じてしまい、貴金属チップが脆くなってしまう虞があった。貴金属チップの耐久性を高めるためにRhの含有量を多くすることも考えられるが、Rhの含有量を多くするとRhによって貴金属チップの粒成長が促進されてしまい、粒界での割れが生じたりする虞があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、高温域で使用しても耐久性を向上することができる貴金属チップを備えたスパークプラグを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、請求項1に係る発明のスパークプラグは、中心電極と、前記中心電極の軸線方向に延びる軸孔を有し、その軸孔の内部で前記中心電極を保持する絶縁碍子と、前記絶縁碍子の径方向周囲を取り囲み、前記絶縁碍子を保持する主体金具と、一端部が前記主体金具に接合され、他端部が前記中心電極と対向する接地電極と、前記中心電極の先端部または前記接地電極の他端部の少なくとも一方に接続された貴金属チップとを備え、前記貴金属チップは、Rhを5重量%以上30重量%以下とし、Xを重量%以上20重量%以下とし(ただし、Xは、Ir,Re,Ruのうちの一種または2種以上の組合せとする。)、Niを0.5重量%以上1.5重量%以下とし、残部をPtとすることを特徴とする。
また、請求項2に係る発明のスパークプラグは、請求項1に記載の発明の構成に加え、前記貴金属チップに含有されたRhの含有量は、10重量%以上30重量%以下であることを特徴とする。
また、請求項3に係る発明のスパークプラグは、請求項2に記載の発明の構成に加え、前記Rhの含有量が、20重量%以下であることを特徴とする。
また、請求項4に係る発明のスパークプラグは、請求項1に記載の発明の構成に加え、前記貴金属チップに含有されたXはIrであることを特徴とする。
また、請求項5に係る発明のスパークプラグは、請求項4に記載の発明の構成に加え、前記Irの含有量が、8重量%以下であることを特徴とする。
また、請求項に係る発明のスパークプラグは、請求項1乃至のいずれかに記載の発明の構成に加え、前記貴金属チップは、さらに、希土類酸化物を含有することを特徴とする。
請求項1に係る発明のスパークプラグでは、貴金属チップの組成を、Rhを5重量%以上30重量%以下とし、Ir,Re,Ruのうちの一種または2種以上の組合せからなるXを重量%以上20重量%以下とし、Niを0.5重量%以上1.5重量%以下とし、残部をPtとしたことで、高温域における貴金属チップの耐久性を高めることができる。すなわち、Ptの粒成長を抑制するためにはXを含有させると効果的であり、Xの酸化揮発を防止するにはRhを含有させると効果的である。このPt,Rh,X等を含んでなる合金中のXやRhの腐食を抑制するとともに、接地電極との溶接性の向上を目指しNiを含有させる。こうした効果は貴金属チップが上記組成から形成されることによって奏することができる。
貴金属チップのRhの含有量が5重量%未満となると、Xの酸化揮発を十分に抑制することができない。また、Rhの含有量が30重量%を超えると、貴金属チップの耐酸化性は向上するが、貴金属チップの表層の粒成長が促進されてしまい、粒界での割れに伴い貴金属チップ表面での結晶粒が剥離(脱落)する虞がある。
また、貴金属チップのXの含有量が重量%未満となると、貴金属チップの表層の粒成長を抑制することが難しくなり、粒界での割れに伴い貴金属チップ表面での結晶粒が剥離(脱落)する虞がある。一方で、Xの含有量が20重量%を超えると高温で酸化揮発するXの量が多くなる虞がある。そしてXの酸化揮発に伴い貴金属チップの表層部において微細な空隙が多く生ずると、貴金属チップの耐久性が低下してしまう。
さらに、貴金属チップのNiの含有量が0.5重量%未満となると、接地電極や中心電極への接合を行う際に十分な溶接性が得られない。一方で、過度にNiを添加するとPt−Rh−X−Ni合金の硬度が高くなりすぎてしまい、加工性が低下し、歩留まりが悪くなってしまうため、Niの含有量は1.5重量%を超えないようにする。なお、Niの含有により、合金の表面に形成される酸化被膜の耐腐食性を高める効果を得ることもできる。
そして、請求項2に係る発明のように、Rhの含有量を10重量%以上30重量%以下とすれば、Xの酸化揮発をより効果的に防止し、貴金属チップの耐酸化性を向上させると共に、より効果的に粒成長を抑制することができ、好ましい。
特に、請求項3に係る発明のようにRhの含有量を20重量%以下とすれば、貴金属チップの粒成長を抑制する上でより一層高い効果を期待することができ、好適である。
また、請求項4に係る発明のように、XをIrとすれば、耐火花消耗性を十分に備え、貴金属チップの表層の粒成長をより効果的に抑制することができる。これは、IrはRe,Ruに比較して高温酸化性に優れるため、添加するXはIrとし、上記範囲内で含有することがより効果的となるからである。
そして、請求項5に係る発明のように、このIrの含有量を8重量%以下として酸化揮発する虞を低減すれば、貴金属チップの表層の粒成長に対する抑制効果を維持したまま、耐酸化性をさらに向上させることができ、好適である。
また、請求項に係る発明のスパークプラグでは、請求項1乃至のいずれかに係る発明の効果に加え、貴金属チップに希土類酸化物を含有させることで、耐火花消耗性を高めることができる。
以下、本発明を具体化したスパークプラグの一実施の形態について、図面を参照して説明する。まず、図1を参照して、本実施の形態のスパークプラグ100の構造について説明する。図1は、スパークプラグ100の部分断面図である。なお、軸線O方向において、絶縁碍子10の軸孔12内で中心電極20が保持されている側をスパークプラグ100の先端側として説明する。
図1に示すように、スパークプラグ100は、概略、絶縁碍子10と、絶縁碍子10の長手方向略中央部に設けられ、この絶縁碍子10を保持する主体金具50と、絶縁碍子10の軸孔12内に軸線方向に保持された中心電極20と、主体金具50の先端面57に一端部(基部32)を溶接され、他端部(先端部31)が中心電極20の先端部22に対向する接地電極30と、中心電極20の後端部に設けられた端子金具40とから構成されている。
まず、このスパークプラグ100の絶縁体を構成する絶縁碍子10について説明する。絶縁碍子10は、周知のようにアルミナ等を焼成して形成され、軸線O方向に軸孔12を有する筒状の絶縁部材である。軸線O方向の略中央には外径が最も大きな鍔部19が形成されており、これより後端側には後端側胴部18が形成されている。また、その後端側胴部18よりさらに後端側に、沿面距離を稼ぐためのコルゲーション部16が形成されている。鍔部19より先端側には後端側胴部18より外径の小さな先端側胴部17が形成され、さらにその先端側胴部17よりも先端側に、先端側胴部17よりも外径の小さな脚長部13が形成されている。脚長部13は先端側ほど縮径されており、スパークプラグ100が図示外の内燃機関に組み付けられた際には、その燃焼室に曝される。
次に、中心電極20について説明する。中心電極20は、インコネル(商標名)600または601等のニッケル系合金等からなる電極母材21の中心部に、放熱促進のための銅、あるいは銅合金などで構成された心材23が埋設された棒状の電極である。中心電極20の先端部22は絶縁碍子10の先端面から突出しており、先端側に向かって径小となるように形成されている。その先端部22の先端面には、柱状の貴金属チップ90が、柱軸を中心電極20の軸線にあわせるようにして抵抗溶接により溶接されている。また、中心電極20は、軸孔12の内部に設けられたシール体14およびセラミック抵抗3を経由して、上方の端子金具40に電気的に接続されている。そして端子金具40には高圧ケーブル(図示外)がプラグキャップ(図示外)を介して接続され、高電圧が印加されるようになっている。
次に、主体金具50について説明する。主体金具50は絶縁碍子10を保持し、図示外の内燃機関にスパークプラグ100を固定するためのものである。主体金具50は、絶縁碍子10の鍔部19近傍の後端側胴部18から、鍔部19、先端側胴部17、および脚長部13を取り囲むようにして絶縁碍子10を保持している。主体金具50は低炭素鋼材で形成され、図示外のスパークプラグレンチが嵌合する工具係合部51と、図示外の内燃機関上部に設けられたエンジンヘッドに螺合するねじ部52とを備えている。
また、主体金具50の工具係合部51と、絶縁碍子10の後端側胴部18との間には環状のリング部材6,7が介在されており、さらに両リング部材6,7の間にはタルク(滑石)9の粉末が充填されている。工具係合部51の後端側には加締め部53が形成されており、この加締め部53を加締めることにより、リング部材6,7およびタルク9を介して絶縁碍子10が主体金具50内で先端側に向け押圧される。これにより、主体金具50の内周に形成された段部56に、絶縁碍子10の先端側胴部17と脚長部13との間の段部15が板パッキン8を介して支持されて、主体金具50と絶縁碍子10とが一体にされる。主体金具50と絶縁碍子10との間の気密はパッキン8によって保持され、燃焼ガスの流出が防止される。また、主体金具50の中央部には鍔部54が形成されており、ねじ部52の後端部側(図1における上部)近傍、すなわち鍔部54の座面55にはガスケット5が嵌挿されている。
次に、接地電極30について説明する。接地電極30は、耐腐食性の高い金属から構成され、一例として、インコネル(商標名)600または601等のニッケル合金が用いられる。この接地電極30は自身の長手方向の横断面が略長方形を有しており、基部32が主体金具50の先端面57に溶接されている。また、接地電極30の先端部31は、中心電極20の先端部22に対向するように屈曲されている。この中心電極20に対向する側の面である接地電極30の内面33は、中心電極20の軸線方向に略直交している。この内面33には上記中心電極20の貴金属チップ90と同様の柱状の貴金属チップ91が抵抗溶接され、この貴金属チップ91と、貴金属チップ90との間での火花放電ギャップが形成されている。
本実施の形態の貴金属チップ90,91の材料には、Pt(プラチナ)を主成分とし、Rh(ロジウム)を5重量%以上40重量%以下と、Xを1重量%以上20重量%以下と(ただし、Xは、Ir,Re,Ruのうちの一種または2種以上の組合せとする。)、Niを0.2重量%以上3重量%以下とが含有されたPt−Rh−X−Ni合金が用いられる。
Ptは融点が1772℃と高く耐熱性に優れ、また耐酸化性が良好である。このPtに、Xとして、例えばIrを含有させることで、Ptの粒成長を抑制することができる。IrはPtよりも融点が高く耐熱性に優れ、Pt−Ir合金の耐火花消耗性は良好である。さらに、このPt−Ir合金にRhを含有させると、Irの酸化揮発を抑制することができる。Rhは、より効果的に高温域でのIrの酸化を抑制することができる。このPt−Rh−Ir合金にNiを少量含有させると、溶接性を向上させることができる。また、Niの含有により、合金の表面に形成される酸化被膜の耐腐食性を高めることもできる。
もっとも、貴金属チップ90,91の成分として、上記したPt,Rh,Ir,Niが単に含有されているだけで上記効果を奏するものではなく、特定の成分比にて一体不可分に含有することが肝要である。そこで、貴金属チップ90,91のRhの含有量を5重量%以上40重量%以下とすれば、Irの酸化揮発を効果的に防止することができる。Rhの含有量が5重量%未満となると、Irの酸化揮発を十分に抑制することができず、貴金属チップ90,91の耐酸化性は低下する。また、Rhの含有量が40重量%を超えると、貴金属チップ90,91の耐酸化性は向上するが、貴金属チップ90,91の表層の粒成長が促進されてしまい、粒界での割れに伴い貴金属チップ90,91の表面での結晶粒が剥離(脱落)する虞がある。なお、Pt−Rh−Ir−Ni合金において、Rhの含有量を10重量%以上30重量%以下とすれば、本実施の形態の効果を奏する上でより好適であることを、後述する評価試験の結果より示すことができる。
その評価試験の結果より、さらに、Rhの含有量を20重量%以下とすれば、Irの酸化揮発に対する防止効果を維持したまま粒成長のさらなる抑制効果を得られることがわかる。もっとも、粒成長の抑制効果のみに着目すればRhの含有量は少ないほどよく、10重量%以下とした場合、より好適に、粒成長の抑制効果を得ることができる。
また、Irの含有量を1重量%以上20重量%以下とすれば、貴金属チップ90,91の表層の粒成長を抑制することができるとともに、耐酸化性を高めることができる。貴金属チップ90,91のIrの含有量が1重量%未満となると、貴金属チップ90,91の表層の粒成長を抑制することが難しく、粒界での割れに伴う貴金属チップ90,91の表面での結晶粒が剥離(脱落)する虞が生ずる。一方で、Irの含有量が20重量%を超えると高温で酸化揮発するIrの量が多くなる虞がある。すなわち耐酸化性としては低下する。そしてIrの酸化揮発に伴い貴金属チップ90,91の表層部において微細な空隙が多く生ずると、貴金属チップ90,91の耐久性が低下してしまう。なお、Pt−Rh−Ir−Ni合金において、Irの含有量を5重量%以上20重量%以下とすれば、耐火花消耗性が向上し、本実施の形態の効果を奏する上でより好適であることが、後述する評価試験の結果より示すことができる。
さらに、その評価試験の結果より、Irの含有量を8重量%以下とすれば、Irが高温により酸化揮発し貴金属チップ90,91の耐久性を低下させる虞をより低減することができ、一方で貴金属チップの表層の粒成長に対する抑制効果を低下させることはなく維持できるので、耐酸化性を一層向上させることができる。
次に、Niの含有量を0.2重量%以上3重量%以下とすると、貴金属チップ90,91の溶接性および加工性を効果的に高めることができる。貴金属チップ90,91のNiの含有量が0.2重量%未満となると、接地電極30や中心電極20への接合で十分な溶接性が得られない。一方で、Niの含有量が3重量%を超えると、Pt−Rh−Ir−Ni合金の硬度が高くなり、加工性が低下してしまう。さらにはNiの含有量を0.5重量%以上2重量%以下とすれば、耐火花消耗性の面でも向上し、本実施の形態の効果を奏する上でより好適であることが、後述する評価試験の結果より示すことができる。なお、Niの含有により、合金の表面に形成される酸化被膜の耐腐食性を高めることもできる。
また、その評価試験の結果に基づくと、Niの含有量を1.5重量%以上としても、2重量%以下であれば加工性が大きく低下することはない。むしろ、貴金属チップ90,91の中心電極20や接地電極30への接合における溶接性をさらに向上させることができ、好適である。
[実施例1]
このように、貴金属チップの材料としてのPt−Rh−X−Ni合金における各成分の含有量を規定して、耐酸化性、耐火花消耗性、溶接性、粒成長の度合い、および加工性について効果があるかを確認するため評価試験を行った。
評価試験では、まず、表1に示すように、Pt−Rh−X−Ni合金の組成が異なる30種類の材料を用い、Φ0.7mmの貴金属チップをサンプルとして作製した。なお、貴金属チップの高さについては、耐火花消耗性の評価試験では0.9mmの貴金属チップを用い、その他の評価試験では0.3mmのものを用いた。
サンプル1番はNiを含有しないものであり、その組成はPt−20Rh−10Irである。サンプル2番はX(Ir,Re,Ruのいずれか一種または2種以上の組合せ)を含有しないものであり、その組成はPt−20Rh−1Niである。サンプル3番〜5番は、Ptに1成分を含有させて構成したものであり、その組成はそれぞれ、Pt−20Rh,Pt−20Ir,Pt−20Niである。
また、サンプル6番〜10番,12番,14番は、Rhの含有量をそれぞれ異ならせて比較を行うためのものであり、各組成は、Pt−45Rh−10Ir−1Ni,Pt−40Rh−10Ir−1Ni,Pt−30Rh−10Ir−1Ni,Pt−20Rh−10Ir−1Ni,Pt−10Rh−10Ir−1Ni,Pt−5Rh−10Ir−1Ni,Pt−3Rh−10Ir−1Niである。
サンプル11番〜13番,17番,18番,21番,22番はIrの含有量をそれぞれ異ならせて比較を行うためのものである。そのうちのサンプル11番〜13番ではRhの含有量を5重量%とし、サンプル17番,18番,21番,22番ではRhの含有量を20重量%としてIrの含有量を異ならせ、比較を行った。サンプル11番,13番,17番,18番,21番,22番の各組成は、Pt−5Rh−8Ir−1Ni,Pt−5Rh−20Ir−1Ni,Pt−20Rh−1Ir−1Ni,Pt−20Rh−5Ir−1Ni,Pt−20Rh−20Ir−1Ni,Pt−20Rh−25Ir−1Niである。
サンプル15番,16番、サンプル19番,20番は、XがReやRuである場合について、XにIrを用いたサンプル17番、サンプル18番とそれぞれ比較するためのものであり、各組成は、Pt−20Rh−1Re−1Ni,Pt−20Rh−1Ru−1Ni、Pt−20Rh−5Re−1Ni,Pt−20Rh−5Ru−1Niである。
サンプル23番〜28番は、Niの含有量をそれぞれ異ならせて比較を行うためのものであり、それぞれの組成は、Pt−20Rh−10Ir−0.2Ni,Pt−20Rh−10Ir−0.5Ni,Pt−20Rh−10Ir−1.5Ni,Pt−20Rh−10Ru−2Ni,Pt−20Rh−10Ru−3Ni,Pt−20Rh−10Ru−3.5Niである。
次に、サンプル29番,30番は、Pt−Rh−X−Ni合金に、さらに希土類酸化物を含有させたものであり、それぞれ組成は、Pt−20Rh−10Ir−1Ni−1.5Y,Pt−20Rh−10Ir−1Ni−1.5Laである。
また、サンプル31番〜33番は、Xとして含有する元素を2種としXの含有量を変えずにサンプル9番と比較するものであり、各組成は、Pt−20Rh−5Ir−5Re−1Ni,Pt−20Rh−5Ir−5Ru−1Ni,Pt−20Rh−5Ru−5Re−1Niである。そして、サンプル34番は、XをReとしてサンプル9番と比較するものであり、その組成はPt−20Rh−10Re−1Niである。
これら各サンプルについて、以下に示す方法で、耐酸化性、耐火花消耗性、溶接性、粒成長の度合い、および加工性についての評価試験を行った。
耐酸化性の評価試験では、各サンプルに対し、電気炉にて大気雰囲気下で1100℃、30時間の加熱を行った。そして、加熱後に各サンプルを、柱軸を通る断面で切断し、拡大鏡を用いて切断面の観察を行った。そして、図2に例示するように、貴金属チップ91の柱軸と直交する方向において、貴金属チップ91の表面に形成された酸化被膜95の厚みと、貴金属チップ91の組織のうちIrが酸化揮発したことにより微細な空隙が形成された組織部分98の厚みとの合計が最大となる部分の厚みBを測定した。
これを、あらかじめ測定しておいた貴金属チップ91の外径Aと比較し、B/A×100(%)で示される割合が10%未満であれば、耐酸化性に優れるとして「◎」と評価した。同様に、上記割合が10%以上15%未満であれば、耐酸化性が良好であるとして「○」と評価し、15%以上25%未満であれば、耐酸化性が良いとして「△」と評価した。そして、上記割合が25%以上であれば、耐酸化性に劣り耐久性が低下する虞があるとして「×」と評価した。
この耐酸化性の評価試験の結果、サンプル1番〜3番,6番〜11番,15番〜21番,23番〜34番については「◎」と評価された。また、サンプル12番,13番については「○」、サンプル5番については「△」と評価された。そして、サンプル4番,14番,22番については「×」と評価された。
次に、耐火花消耗性の評価試験では、各サンプルを用い、それぞれ中心電極と接地電極との双方に貴金属チップを接合し、火花放電ギャップの大きさが1.05mmとなるように調整したスパークプラグを作製した。そして各サンプルのスパークプラグに、0.6MPaの大気雰囲気下で60Hz、約16kVの放電電圧を100時間印加した後、火花放電ギャップの増加量を測定した。
この火花放電ギャップの増加量が0.1mm未満であれば、耐火花消耗性に優れるとして「○」と評価した。また、火花放電ギャップの増加量が0.1mm以上0.2mm未満であれば、耐火花消耗性は良いとして「△」と評価し、0.2mm以上であれば、耐火花消耗性に劣るとして「×」と評価した。
この耐火花消耗性の評価試験の結果、サンプル1番,4番,6番〜14番,18番,21番〜26番,29番〜34番については「○」と評価された。また、サンプル3番,15番〜17番,19番,20番,27番については「△」と評価され、サンプル2番,5番,28番については「×」と評価された。
次に、溶接性の評価試験では、各サンプルについて、図2に例示するように接地電極30に抵抗溶接した貴金属チップ91に対し、バーナーで加熱し、950℃を2分間保持し、その後1分間の自然冷却を行った。これを1サイクルとして1000サイクル行った後、各サンプルを、柱軸を通る断面で接地電極30ごと切断し、拡大鏡を用いて両者の溶接面の観察を行った。そして溶接面において、貴金属チップ91の柱軸と直交する方向における剥離の生じた部分93の長さCを測定した。なお、切断面において剥離の生じている最大の長さを測定した。
これを、あらかじめ測定しておいた貴金属チップ91の外径Aと比較し、C/A×100(%)で示される割合が20%未満であれば、溶接性に優れるとして「◎」と評価した。同様に、上記割合が20%以上30%未満であれば、溶接性が良好であるとして「○」と評価し、30%以上50%未満であれば、溶接性は良いとして「△」と評価した。そして、上記割合が50%以上であれば、溶接性に劣り貴金属チップの脱落が生ずる虞があるとして「×」と評価した。
この溶接性の評価試験の結果、サンプル25番〜28番については「◎」と評価され、サンプル4番,5番,7番〜14番,17番〜21番,24番,29番〜34番については「○」と評価された。また、サンプル2番,3番,6番,15番,16番,22番,23番については「△」と評価され、サンプル1番については「×」と評価された。
次に、粒成長の度合いについての評価試験では、各サンプルに対し、真空炉にて1000℃、20時間の加熱処理を行った。その後、各サンプルの表面を50倍の倍率で顕微鏡で観察し、結晶粒の大幅な成長がみられたものを「×」と評価した。この評価基準として、「×」と評価したサンプルの表面写真を図3に示す。この図3に示す写真の結晶粒を基準に(これを含み)これよりも結晶粒の成長が認められるものは「×」としている。また、結晶粒の成長が認められたものの「×」と評価したサンプルほどの成長が認められなかったサンプルを「△」と評価した。その評価基準としては、図3に示す写真の結晶粒よりも小さく、図4に示す写真の結晶粒よりも大きいものは「△」としている。そして、結晶粒の成長があまりみられなかったものを「◎」と評価し、その評価基準は図5に示すサンプルの表面写真よりも結晶粒の小さなものである。さらに、「△」と評価したほどの成長はみられないもののわずかに成長が認められるものについては「○」と評価した。この「○」の評価は、図4,図5の表面写真でみられる結晶粒の大きさ程度のものや、それらの中間程度の大きさのものを基準とした。
この粒成長の度合いについての評価試験の結果、サンプル9番〜14番については「◎」と評価された。また、サンプル4番,5番,8番,15番〜34番については「○」と評価された。そして、サンプル1番,2番,7番については「△」と評価され、サンプル3番,6番については「×」と評価された。
次に、加工性の評価試験では、各サンプルを作製する際の圧延工程における歩留まりについて確認した。歩留まりが70%以上であった場合、そのサンプルについては加工性に優れるとして「○」と評価した。また、歩留まりが50%以上70%未満であれば、加工性は良いとして「△」と評価し、50%未満であれば、加工しにくい材料であるとして「×」と評価した。
この加工性の評価試験の結果、サンプル1番〜21番,23番〜25番,29番〜34番については「○」と評価された。また、サンプル22番,26番,27番については「△」と評価され、サンプル28番については「×」と評価された。
なお、耐酸化性の評価試験において、図2では接地電極30側に接合した貴金属チップ91を例として示しているが、中心電極20側に接合した貴金属チップ90であっても同様である。また、この耐酸化性の評価試験を行うにあたり、図2に例示したように、必ずしも貴金属チップ91が接地電極30に接合されている必要はなく、貴金属チップ90単体での評価試験であってもよいし、必ずしもスパークプラグの完成品の状態で評価試験を行う必要もない。
そして各サンプルについて、各評価試験の結果に重み付けを行って集計し、総合評価を行った。重み付けは、各評価試験において「◎」と評価された場合を3点、「○」を2点、「△」を1点、「×」を0点として点数付けを行った。そして、各サンプルごとに全点数を加算して集計した。その結果11点以上であれば、非常に優れているとして「◎」と評価し、10点であれば良好であるとして「○」と評価した。また、9点の場合は使用可能であるとして「△」と評価し、8点以下であれば、スパークプラグとして優れた性能を持ち得ないとして「×」と評価した。
この総合評価の結果、サンプル8番〜13番,18番,21番,24番〜26番,29番〜34番については「◎」と評価された。また、サンプル7番,17番,19番,20番,23番,27番については「○」、サンプル14番〜16番については「△」と評価された。そして、サンプル1番〜6番,22番,28番については「×」と評価された。
上記各評価試験の結果、サンプル1番より、Niを含有しないと溶接性に劣ることが確認できた。また、サンプル2番,3番より、X(Ir,Re,Ruのいずれか一種または2種以上の組合せ)を含有しなければ、耐火花消耗性に劣ることが確認できた。さらにサンプル3番〜5番より、Ptに対してRh,X,Niのそれぞれを単独で含有させても有効でないことが確認できた。
次に、サンプル6番〜10番,12番,14番では、Rhの最適な含有量を確認することができた。サンプル6番,7番より、Rhの含有量が40重量%を超えると粒成長が抑制できず、サンプル12番,14番より、Rhの含有量が5重量%未満であるとIrの酸化揮発を抑制できず耐酸化性に劣ることが確認できた。すなわち、Rhの含有量が5重量%以上40重量%以下であると耐酸化性が向上でき、粒成長も抑制することができる。そして、サンプル8番〜10番より、Rhの含有量を10重量%以上30重量%以下とすれば、粒成長の抑制と耐酸化性の向上の両面において、より好適であることがわかる。特にRhの含有量を20重量%以下とすれば、さらに効果的に粒成長を抑制できることがわかった。
また、サンプル11番〜13番,17番,18番,21番,22番では、Irの最適な含有量を確認することができた。サンプル17番,18番,21番,22番より、Irの含有量が減少すると耐火花消耗性の効果が薄れることがわかる。Irを含有しないと耐火花消耗性に劣ることは前述したサンプル2番よりわかっており、実用的にはIrを1重量%以上含有すればよいことがわかった。そしてIrの含有量を5重量%以上とすれば、その耐火花消耗性の面でより好適であることもわかる。一方、サンプル21番,22番より、Irの含有量が20重量%を超えると耐酸化性に劣ることが確認できた。つまり、Irの含有量は、実用的には1重量%以上20重量%以下であればよく、5重量%以上20重量%以下とすればより好適である。ここでサンプル13番〜15番においてRhの含有量を5重量%に減らし、Irの相対的な含有量を増やすことで耐酸化性に対する感度を高めて試験を行ってみると、Irの含有量を8重量%以下とすれば、粒成長の抑制に対する効果を維持したままで、耐酸化性を一層向上できることがわかった。なお、サンプル15番〜17番の比較、およびサンプル18番〜20番の比較をそれぞれ行ってみると、XがIrではなくReやRuであっても、その含有量が上記範囲内であれば好適な結果が得られるが、Irであればより良いことがわかった。
次に、サンプル23番〜28番では、Niの最適な含有量を確認することができた。サンプル23番,24番より、Niの含有量が0.2重量%未満となると溶接性に劣り、サンプル27番,28番より、Niの含有量が3重量%を超えると、耐火花消耗性および加工性の両面で問題が生ずることが確認できた。つまり、Niの含有量が0.2重量以上3重量以下であれば実用的に十分な性能を得られることがわかる。さらにはサンプル24番〜26番より、Niの含有量を0.5重量%以上とすれば溶接性が向上し、2重量%以下とすれば耐火花消耗性が向上することがわかり、好ましい。特に、Niの含有量を1.5重量%以下とすれば、さらなる溶接性の向上を図ることができ、好適であることがわかった。
また、サンプル29番,30番より、耐火花消耗性のさらなる向上を目的とし、このPt−Rh−X−Ni合金に希土類酸化物を含有させることも有効である。
なお、各評価試験において好適な結果が得られたサンプル9番(Pt−20Rh−10Ir−1Ni)において、Xの含有量を変えずに組合せを異ならせた(すなわち、Ir,Re,Ruのうちの一種または2種以上の組合せとした)サンプル31番〜34番について、各評価試験をそれぞれ行ったが、いずれのサンプルも好適な結果を得ることができた。
なお、本発明は各種の変形が可能なことはいうまでもない。例えば、貴金属チップ90,91は抵抗溶接により中心電極20や接地電極30に接合したが、レーザ溶接により行ってもよい。また、貴金属チップ90は円柱形状としたが、角柱形状、角錐形状または円錐形状であってもよく、大径部と小径部を併せ持つ断面凸形状であってもよい。もちろん、板状の厚みが薄いものとしてもよい。すなわち、本発明は貴金属チップの形状を問わず各種の変形が可能なものである。さらに、貴金属チップの組成に関しても、上記実施例においてXはIr,Re,Ruのそれぞれ1種ずつを添加した例および任意の2種を添加した例を記載しているが、3種全てを含有させてもよい。また、本実施の形態では中心電極20に貴金属チップ90を設け、接地電極30に貴金属チップ91を設けたが、いずれか一方に設ければよく、本実施の形態のように中心電極20と接地電極30の双方に貴金属チップ90,91を設けることを限定するものではない。
もちろん、火花放電に直接関係しない事項は適宜変更が可能である。例えば、滑石の有無を問うものでもなければ、加締めの方法を問うものでもない。また、絶縁碍子に形成されるコルゲーションはあってもよく、また無くてもよい。
本発明は火花放電を行う電極に貴金属チップを使用したスパークプラグに用いることができる。
スパークプラグ100の部分断面図である。 耐酸化性および溶接性の評価試験の方法を説明するための例を示す図である。 粒成長の度合いを確認するための比較例としての貴金属チップの表面写真である。 粒成長の度合いを確認するための比較例としての貴金属チップの表面写真である。 粒成長の度合いを確認するための比較例としての貴金属チップの表面写真である。
10 絶縁碍子
12 軸孔
20 中心電極
30 接地電極
31 先端部
32 基部
40 端子金具
90,91 貴金属チップ
100 スパークプラグ

Claims (6)

  1. 中心電極と、
    前記中心電極の軸線方向に延びる軸孔を有し、その軸孔の内部で前記中心電極を保持する絶縁碍子と、
    前記絶縁碍子の径方向周囲を取り囲み、前記絶縁碍子を保持する主体金具と、
    一端部が前記主体金具に接合され、他端部が前記中心電極と対向する接地電極と、
    前記中心電極の先端部または前記接地電極の他端部の少なくとも一方に接続された貴金属チップと
    を備え、
    前記貴金属チップは、
    Rhを5重量%以上30重量%以下とし、
    Xを重量%以上20重量%以下とし(ただし、Xは、Ir,Re,Ruのうちの一種または2種以上の組合せとする。)、
    Niを0.5重量%以上1.5重量%以下とし、
    残部をPtとすることを特徴とするスパークプラグ。
  2. 前記貴金属チップに含有されたRhの含有量は、10重量%以上30重量%以下であることを特徴とする請求項1に記載のスパークプラグ。
  3. 前記Rhの含有量が、20重量%以下であることを特徴とする請求項2に記載のスパークプラグ。
  4. 前記貴金属チップに含有されたXはIrであることを特徴とする請求項1に記載のスパークプラグ。
  5. 前記Irの含有量が、8重量%以下であることを特徴とする請求項4に記載のスパークプラグ。
  6. 前記貴金属チップは、さらに、希土類酸化物を含有することを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載のスパークプラグ。
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