JP4939916B2 - 多層プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 194
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 42
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
Description
第1の実施の形態に係る多層プリント配線板およびその製造方法について、図1および図2を用いて説明する。
図1および図2(c)に示すように、本実施の形態の多層プリント配線板1Aは、第1の基板10と、第2の基板20と、第3の基板30とを備えて大略構成されている。
第1の基板(実装基板)10を作製する。図2(a)に示すように、フレキシブル基板11の両面に配線層12,13を形成し、かつ所定の位置に、一方の面に形成された配線層13と、他方の面に形成された配線層12とを接続するビアホール15を形成する。そして、下面に半田バンプ16を備えたICチップ14を配線層(パッド部)13に位置合わせして配置し、リフローを行って半田付けする。本実施の形態では、フレキシブル基板11の両面に配線層12,13を形成したが、少なくとも、一方の面の配線層13のみとしてもよい。
本発明の第2の実施の形態に係る多層プリント配線板1Bについて図3および図4を用いて説明する。なお、本実施の形態において、上記第1の実施の形態に係る多層プリント配線板1Aと同一名称の部材は同一の符号で、類似の部材は類似の符号を付して説明を省略する。
本発明の第3の実施の形態に係る多層プリント配線板1Cについて図5および図6を用いて説明する。なお、本実施の形態において、上記第1の実施の形態に係る多層プリント配線板1Aと同一名称の部材は同一の符号で、類似の部材は類似の符号を付して説明を省略する。
本発明の第4の実施の形態に係る多層プリント配線板1Dについて図7および図8を用いて説明する。
本発明の第5の実施の形態に係る多層プリント配線板1Eについて図9を用いて説明する。
本発明の第6の実施の形態に係る多層プリント配線板1Fについて図10および図11を用いて説明する。本実施の形態は、上記第1の実施の形態の応用例であり、4層の基板10,20,30,50を一括積層した例である。
上述した実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
10 第1の基板
20 第2の基板
30 第3の基板
50 第4の基板
11 フレキシブル基板
12,13 配線層
15 ビアホール
16 半田バンプ
17 アンダーフィル
22 配線層
23,33 インナービア
24,35 開口部
21,25,31,35 リジッド基板
34,54 放熱用熱伝導部材
40 熱硬化樹脂
41,42 熱硬化接着材層
43 抵抗素子
Claims (10)
- 少なくとも一方の基板面に配線層を備えると共に、実装部品が搭載され、かつ前記実装部品の少なくとも下面に樹脂で形成されたアンダーフィルが充填された第1の基板と、
樹脂層を備えると共に、前記第1の基板の前記実装部品が搭載された前記基板面に積層され、前記実装部品の全側面に気密的に隣接する第2の基板と、
樹脂層を備えると共に、前記第2の基板に積層されて、前記第1の基板と前記第2の基板とともに前記実装部品を封止する第3の基板と、
を備え、
前記アンダーフィルと、前記第2の基板の樹脂層と、前記第3の基板の樹脂層とは、同一材料で形成されていることを特徴とする多層プリント配線板。 - 前記アンダーフィルは、前記実装部品の下面周縁もしくは側面から、前記第1の基板の前記基板面における前記実装部品の搭載領域の外側に亘って傾斜面を形成するように充填されていることを特徴とする請求項1記載の多層プリント配線板。
- 前記第3の基板は、前記実装部品の上面に接合する放熱用熱伝導部材を備え、前記放熱用熱伝導部材は前記第3の基板の厚さ方向に貫通するように形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載された多層プリント配線板。
- 前記放熱用熱伝導部材は、部品接続電極であることを特徴とする請求項3記載の多層プリント配線板。
- 前記第2の基板と前記第3の基板に、前記第1の基板、前記第2の基板、および前記第3の基板の相互間を電気的に接続する貫通電極が形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載された多層プリント配線板。
- 少なくとも一方の基板面に配線層を備え実装部品が搭載された第1の基板の、前記実装部品と前記第1の基板の基板面との間に樹脂を充填して、アンダーフィルを形成する工程と、
前記実装部品に対応する領域に開口部を形成した、樹脂層を備えた第2の基板を用意する工程と、
前記第2の基板の上に配置される、樹脂層を備えた第3の基板を用意する工程と、
前記第1の基板の上に、順次、前記第2の基板、前記第3の基板を積み重ねた状態で、加熱を伴って一括積層させて前記実装部品を溶融樹脂で覆う積層工程と、
を備え、
前記アンダーフィルと、前記第2の基板の樹脂層と、前記第3の基板の樹脂層とは、同一材料で形成されていることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - 前記アンダーフィルを、前記積層工程の前に未硬化状態もしくは半硬化状態で保持し、前記積層工程を経て本硬化させることを特徴とする請求項6記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 前記アンダーフィルを、前記実装部品の下面周縁もしくは側面から、前記第1の基板の前記基板面における前記実装部品の搭載領域の外側に亘って傾斜面を形成するように充填することを特徴とする請求項6又は請求項7に記載された多層プリント配線板の製造方法。
- 前記第3の基板の前記実装部品に対応する領域内に、厚さ方向に貫通する放熱用熱伝導部材を形成し、前記積層工程を経て前記放熱用熱伝導部材と前記実装部品とを接合させることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか一項に記載された多層プリント配線板の製造方法。
- 前記積層工程の前に、前記第2の基板と前記第3の基板に、前記第1の基板、前記第2の基板、および前記第3の基板の相互間を接続する貫通電極を形成しておくことを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれか一項に記載された多層プリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006344374A JP4939916B2 (ja) | 2006-12-21 | 2006-12-21 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006344374A JP4939916B2 (ja) | 2006-12-21 | 2006-12-21 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008159682A JP2008159682A (ja) | 2008-07-10 |
JP4939916B2 true JP4939916B2 (ja) | 2012-05-30 |
Family
ID=39660300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006344374A Active JP4939916B2 (ja) | 2006-12-21 | 2006-12-21 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4939916B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5271627B2 (ja) * | 2008-07-30 | 2013-08-21 | 株式会社フジクラ | 多層プリント配線板 |
JP5589302B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2014-09-17 | 富士通株式会社 | 部品内蔵基板及びその製造方法 |
WO2010134262A1 (ja) * | 2009-05-20 | 2010-11-25 | 株式会社村田製作所 | 部品内蔵層を有する電子部品モジュールの製造方法 |
JP2013165086A (ja) * | 2010-05-31 | 2013-08-22 | Panasonic Corp | セラミック多層基板とセラミック多層基板の製造方法 |
JP5167516B1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-03-21 | 株式会社フジクラ | 部品内蔵基板及びその製造方法並びに部品内蔵基板実装体 |
JP6028256B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-11-16 | 株式会社フジクラ | 部品内蔵基板及びその製造方法 |
JP5406389B2 (ja) | 2012-03-01 | 2014-02-05 | 株式会社フジクラ | 部品内蔵基板及びその製造方法 |
JP6221221B2 (ja) * | 2012-03-27 | 2017-11-01 | Tdk株式会社 | 電子部品内蔵基板及びその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3207174B2 (ja) * | 1999-02-01 | 2001-09-10 | 京セラ株式会社 | 電気素子搭載配線基板およびその製造方法 |
JP2000277564A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-10-06 | Casio Comput Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2001077536A (ja) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Sony Corp | 電子回路内蔵プリント配線板およびその製造方法 |
JP4040389B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2008-01-30 | 大日本印刷株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2003124380A (ja) * | 2001-10-15 | 2003-04-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品内蔵モジュールおよびその製造方法 |
JP3524545B2 (ja) * | 2002-01-23 | 2004-05-10 | 松下電器産業株式会社 | 回路部品内蔵モジュールの製造方法 |
JP2003243797A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モジュール部品 |
JP2004158545A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-03 | Denso Corp | 多層基板及びその製造方法 |
JP2005333079A (ja) * | 2004-05-21 | 2005-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体素子実装構造体 |
JP4688554B2 (ja) * | 2004-12-01 | 2011-05-25 | 株式会社リコー | 電子部品実装体の製造方法 |
JP2006186058A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 部品内蔵モジュールとその製造方法 |
-
2006
- 2006-12-21 JP JP2006344374A patent/JP4939916B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008159682A (ja) | 2008-07-10 |
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Date | Code | Title | Description |
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