JP4935963B2 - アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 - Google Patents
アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4935963B2 JP4935963B2 JP2011526316A JP2011526316A JP4935963B2 JP 4935963 B2 JP4935963 B2 JP 4935963B2 JP 2011526316 A JP2011526316 A JP 2011526316A JP 2011526316 A JP2011526316 A JP 2011526316A JP 4935963 B2 JP4935963 B2 JP 4935963B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- semiconductor active
- layer
- active layer
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 194
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims description 117
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 93
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 312
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 261
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 200
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 155
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 90
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 49
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 20
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 19
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 14
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 13
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 9
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 7
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 53
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 40
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 21
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 17
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 15
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 11
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 11
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 11
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 10
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 9
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 9
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 238000004050 hot filament vapor deposition Methods 0.000 description 8
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 8
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 7
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 7
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 6
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000469 dry deposition Methods 0.000 description 4
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N indium zinc Chemical compound [Zn].[In] NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEAMLHXSIBDPGN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxy-3-methylphenyl) thiocyanate Chemical compound CC1=CC(SC#N)=CC=C1O WEAMLHXSIBDPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910021355 zirconium silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEJHYFOJNUCIBD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+) indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2].[In+3] IEJHYFOJNUCIBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N cadmium;oxotin Chemical compound [Cd].[Sn]=O BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NQBRDZOHGALQCB-UHFFFAOYSA-N oxoindium Chemical compound [O].[In] NQBRDZOHGALQCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/124—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/417—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/41725—Source or drain electrodes for field effect devices
- H01L29/41733—Source or drain electrodes for field effect devices for thin film transistors with insulated gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66742—Thin film unipolar transistors
- H01L29/6675—Amorphous silicon or polysilicon transistors
- H01L29/66765—Lateral single gate single channel transistors with inverted structure, i.e. the channel layer is formed after the gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/123—Connection of the pixel electrodes to the thin film transistors [TFT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1222—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer
- H01L27/1225—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer with semiconductor materials not belonging to the group IV of the periodic table, e.g. InGaZnO
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/124—Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
第1の発明によれば、ドレイン電極と画素電極が前記半導体活性層上に設けられた保護膜上で電気的に接することにより、ドレイン電極と画素電極とを容易に接続することが可能であり、歩留りを向上させることができる。
第2の発明は、上記第1の発明において、前記複数の薄膜トランジスタは直線状に配列され、前記複数の薄膜トランジスタを構成する独立した複数の半導体活性層は直線状に並列され、前記保護膜は前記複数の半導体活性層をそれぞれ二つの露出領域に分割するように複数の半導体活性層に渡ってストライプ状に形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板である。
第2の発明によれば、ドレイン電極と画素電極が前記半導体活性層上に設けられた保護膜上で電気的に接することにより、ドレイン電極と画素電極とを容易に接続することが可能であり、歩留りを向上させることができる。また一つのストライプ状保護膜によって、複数のTFTの保護膜を兼ねることが可能となる。
第3の発明は、上記第1の発明において、前記保護膜は半導体活性層をそれぞれ二つの露出領域に分割するよう形成され、かつ画素を区画する格子状に形成され、かつ遮光性を持つよう形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板である。
第3の発明によれば、ドレイン電極と画素電極が前記半導体活性層上に設けられた保護膜上で電気的に接することにより、ドレイン電極と画素電極とを容易に接続することが可能であり、歩留りを向上させることができる。また一つの遮光性の格子状保護膜によって、複数のTFTの保護膜と、ブラックマトリクスを兼ねることが可能となる。
第4の発明は、上記第1〜3の発明において、保護膜の形状が順テーパー形状となっていることを特徴とするアクティブマトリクス基板である。
第5の発明は、第1〜4の発明において、保護膜が有機絶縁材料からなることを特徴とするアクティブマトリクス基板である。
第6の発明は、第1〜4の発明において、保護膜が複数の層からなり、少なくとも半導体活性層と接する一層に無機絶縁材料を含むことを特徴とするアクティブマトリクス基板である。
第7の発明は、第1〜6の発明において、層間絶縁層が所定の色に着色されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板である。第5の発明によれば、層間絶縁層を所定の色に着色することにより、薄膜トランジスタ上にカラーフィルタアレイを形成したカラーフィルタオンアレイ構造とすることができる。カラーフィルタオンアレイ構造とすることにより、半導体回路とカラーフィルタの位置合わせが容易になり、開口率の高いアクティブマトリクス基板を提供することができる。
第8の発明は、第1〜7の発明において、半導体活性層が金属酸化物からなることを特徴とするアクティブマトリクス基板である。
第9の発明は、第1〜8の発明において、画像表示方式が液晶方式、有機エレクトロルミネッセンス方式、電気泳動方式のいずれかであることを特徴とするアクティブマトリクス基板を用いた画像表示装置である。
第10の発明は、基板上に、ゲート電極と、ゲート電極上のゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上の半導体活性層と、半導体活性層に接続されたソース電極及びドレイン電極と、ドレイン電極と接続された画素電極と、ソース電極と画素電極を絶縁するための層間絶縁層と、を有する薄膜トランジスタは画素を構成し、該画素を複数配列して形成されたアクティブマトリクス基板の製造方法であって、基板上にゲート電極を形成する工程と、ゲート電極上にゲート絶縁層を形成する工程と、ゲート絶縁層上に半導体活性層を形成する工程と、半導体活性層上に半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程と、保護膜上及び半導体活性層上及びゲート絶縁層上の全面に導電性材料からなる層を成膜する工程と、二つの露出領域の一方にソース電極が、他方にドレイン電極がそれぞれ半導体活性層と接続し、保護膜上にドレイン電極が残るように導電性材料からなる層をパターン形成する工程と、層間絶縁層を基板上の全面に形成する工程と、保護膜上の層間絶縁層に開口部を設ける工程と、画素電極を層間絶縁層上に形成し、画素電極とドレイン電極との導通を取る工程と、を有するアクティブマトリクス基板の製造方法である。
第11の発明は、上記第10の発明において、前記半導体活性層上に半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程は、複数の薄膜トランジスタを構成する各半導体活性層上に半導体活性層を二つの露出領域に分けるようにストライプ状に保護膜を形成する工程であることを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法である。
第12の発明は、上記第11の発明において、印刷法を用いて前記保護層をストライプ状に形成することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法である。
第13の発明は、上記第10の発明において、前記半導体活性層上に半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程は、半導体活性層上に該半導体活性層をそれぞれ二つの露出領域に分割しかつ画素を区画する格子状の遮光性保護膜を形成する工程、であることを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法である。
第14の発明は、上記第10〜13の発明において、保護膜を形成する工程が、 第一の保護膜を基板の全面に形成する工程と、半導体活性層を二つの露出領域に分けるように第二の保護膜を形成する工程と、エッチングにより第二の保護膜から露出した第一の保護膜を除去する工程と、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法である。
第15の発明は、上記第10〜14の発明において、保護膜を形成する工程の後、半導体活性層の保護膜から露出した領域にプラズマ照射する工程を有することを特徴とする請求項8又は9記載のアクティブマトリクス基板の製造方法である。
本発明は保護膜6の形態によって第1〜第3の実施の形態に分けられ、保護膜6及び保護膜6に起因する構造以外の部分についてはいずれの実施の形態も同様の材料・形成方法により形成することができる。
本発明の実施の形態に係る半導体活性層5としては、金属酸化物を主成分とする酸化物半導体材料が使用できる。酸化物半導体材料は亜鉛(Zn)、インジウム(In)、スズ(Sn)、タングステン(W)、マグネシウム(Mg)、及びガリウムのうち1種類以上の元素を含む酸化物である、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム(InO)、酸化インジウム亜鉛(In−Zn−O)、酸化スズ(SnO)、酸化タングステン(WO)、及び酸化亜鉛ガリウムインジウム(In−Ga−Zn−O)などの材料が挙げられる。これらの材料の構造は単結晶、多結晶、微結晶、結晶とアモルファスの混晶、ナノ結晶散在アモルファス、アモルファスのいずれであっても構わない。また半導体活性層に透明性が必要のない場合、用いることができるその他の無機材料としては、水素化アモルファスシリコン、微結晶シリコン、多結晶シリコン、単結晶シリコン等のシリコン半導体が挙げられる。これらの材料は、CVD法、スパッタ法、パルスレーザー堆積法、真空蒸着法、ゾルゲル法等の方法を用いて形成される。CVD法としてはホットワイヤーCVD法、プラズマCVD法、スパッタ法としてはRFマグネトロンスパッタ法、DCスパッタ法、真空蒸着としては加熱蒸着、電子ビーム蒸着、イオンプレーティング法などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。また有機材料を用いた半導体活性層としては、テトラセン、ペンタセン、オリゴチオフェン誘導体、フタロシアニン類、ベリレン誘導体等の低分子有機半導体や、ポリフルオレン、ポリフェニレンビニレン、ポリトリアリルアミン等の高分子有機半導体も挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらの材料はスピンコート、ディップコート、スクリーン印刷、インクジェット法等を用いて形成される。なお半導体活性層5の膜厚は20nm以上が好ましい。
本発明の実施の形態に係る層間絶縁層9は、酸化シリコン、窒化シリコン、シリコンオキシナイトライド、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、ハフニウムアルミネート、酸化ジルコニア、酸化チタン等の無機材料、または、PMMA(ポリメチルメタクリレート)等のポリアクリレート、PVA(ポリビニルアルコール)、PS(ポリスチレン)、透明性ポリイミド、ポリエステル、エポキシ、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール等を使用することができるがこれらに限定されるものではない。層間絶縁層9はソース配線7と画素電極10間を絶縁するために、その抵抗率が1011Ωcm以上、特に1014Ωcm以上であることが好ましい。層間絶縁層9は真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法、レーザーアブレーション法、プラズマCVD、光CVD法、ホットワイヤーCVD法等のドライ成膜法や、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等のウェット成膜法を材料に応じて適宜用いて形成される。これらの層間絶縁層9は2層以上積層して用いても良い。また成長方向に向けて組成を傾斜したものとしても良い。
図3(g)では、保護膜6の頭頂部に形成されたドレイン電極8の高さが層間絶縁層の表面と一致しているが、これに限られるわけではない。例えば保護膜6の頭頂部の高さが層間絶縁層表面よりも低い場合、図4のようにドレイン電極が露出するように層間絶縁膜に開口部を形成し(図4A)、その上から画素電極を形成することにより導通を取ることができる(図4B)。一方、保護膜6の頭頂部の高さが層間絶縁層表面と同じレベルかそれ以上の高さだとドレイン電極が層間絶縁層上に突出するため導通が取りやすい。いずれの場合にしてもドレイン電極と画素電極の導通が取れ、ソース電極が層間絶縁層で覆われて絶縁されており、表示要素11に支障のない範囲であれば良い。
本発明の第2の実施の形態に係る半導体活性層5は、第1の実施の形態と同様の材料及び形成方法により形成することができる。
本発明の第2の実施の形態に係る層間絶縁層9は、第1の実施の形態と同様に形成することが出来る。
本発明の第3の実施の形態に係る半導体活性層5は、第1の実施の形態と同様の材料及び形成方法により形成することができる。
本発明の第3の実施の形態に係る層間絶縁層9は、第1の実施の形態と同様に形成することが出来る。
実質的に透明な基板1として、厚さ0.7mmのコーニング社製無アルカリガラス1737を用いて、実質的に透明な基板1の一方の面にDCマグネトロンスパッタリング法によりITOを100nmの膜厚に成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングした。具体的には、ITO膜上にポジ型レジストを膜厚1μmになるよう塗布し、所望の形状がパターニングされたマスクを用いて露光を行い、その後、アルカリ現像液を用いて現像を行うことで所望の形状のレジストパターンを形成した。その後、ITOエッチング液に基板1を浸漬し、不要なITOを溶解させた。レジスト剥離液を使用してレジストパターンを除去し、図2(a)に示した形状のゲート2およびキャパシタ3を形成した。
実質的に透明な基板1として、厚さ0.7mmのコーニング社製無アルカリガラス1737を用いて、実質的に透明な基板1の一方の面にDCマグネトロンスパッタリング法によりITOを100nmの膜厚に成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングした。具体的には、ITO膜上にポジ型レジストを膜厚1μmになるよう塗布し、所望の形状がパターニングされたマスクを用いて露光を行い、その後、アルカリ現像液を用いて現像を行うことで所望の形状のレジストパターンを形成した。その後、ITOエッチング液に基板1を浸漬し、不要なITOを溶解させた。レジスト剥離液を使用してレジストパターンを除去し、図6(a)に示した形状のゲート2およびキャパシタ3を形成した。
実質的に透明な基板1として、厚さ0.7mmのコーニング社製無アルカリガラス1737を用いて、実質的に透明な基板1の一方の面にDCマグネトロンスパッタリング法によりITOを100nmの膜厚に成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングした。具体的には、ITO膜上にポジ型レジストを膜厚1μmになるよう塗布し、所望の形状がパターニングされたマスクを用いて露光を行い、その後、アルカリ現像液を用いて現像を行うことで所望の形状のレジストパターンを形成した。その後、ITOエッチング液に基板1を浸漬し、不要なITOを溶解させた。レジスト剥離液を使用してレジストパターンを除去し、図9(a)に示した形状のゲート2およびキャパシタ3を形成した。
実質的に透明な基板1として、厚さ0.7mmのコーニング社製無アルカリガラス1737を用いて、実質的に透明な基板1の一方の面にDCマグネトロンスパッタリング法によりITOを100nmの膜厚に成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングした。具体的には、ITO膜上にポジ型レジストを膜厚1μmになるよう塗布し、所望の形状がパターニングされたマスクを用いて露光を行い、その後、アルカリ現像液を用いて現像を行うことで所望の形状のレジストパターンを形成した。その後、ITOエッチング液に基板1を浸漬し、不要なITOを溶解させた。レジスト剥離液を使用してレジストパターンを除去し、図13(a)に示した形状のゲート2およびキャパシタ3を形成した。
102・・・薄膜トランジスタ
1・・・透明な基板
2・・・ゲート電極(ゲート配線)
3・・・キャパシタ電極(キャパシタ配線)
4・・・ゲート絶縁膜
5・・・半導体活性層
6・・・保護膜
6a・・・上部保護膜
6b・・・下部保護膜
7・・・ソース電極(ソース配線)
8・・・ドレイン電極
9・・・層間絶縁層
10・・・画素電極
11・・・画像表示要素
12・・・対向電極
13・・・対向基板
Claims (11)
- 基板上に、ゲート電極と、前記ゲート電極上のゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層上の半導体活性層と、前記半導体活性層に接続されたソース電極及びドレイン電極と、前記ドレイン電極と接続された画素電極と、前記ソース電極と前記画素電極を絶縁するための層間絶縁層と、を有する薄膜トランジスタは画素を構成し、該画素を複数配列して形成されたアクティブマトリクス基板であって、前記半導体活性層を二つの露出領域に分けるように前記半導体活性層上に保護膜が形成され、該二つの露出領域の一方に前記ソース電極が、他方に前記ドレイン電極がそれぞれ前記半導体活性層と接続され、前記ドレイン電極は前記保護膜上で前記画素電極と接続され、前記保護膜は少なくとも、前記半導体活性層と接する無機絶縁材料を含む下部保護膜と、前記下部保護膜上に形成された有機絶縁材料を含む上部保護膜と、からなるアクティブマトリクス基板において、
前記複数の薄膜トランジスタは直線状に配列され、前記複数の薄膜トランジスタを構成する独立した複数の半導体活性層は直線状に並列され、前記保護膜は前記複数の半導体活性層をそれぞれ二つの露出領域に分割するように前記複数の半導体活性層に渡ってストライプ状に形成され、前記ゲート電極と前記保護膜は直交していることを特徴とする請求項1に記載のアクティブマトリクス基板。 - 基板上に、ゲート電極と、前記ゲート電極上のゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層上の半導体活性層と、前記半導体活性層に接続されたソース電極及びドレイン電極と、前記ドレイン電極と接続された画素電極と、前記ソース電極と前記画素電極を絶縁するための層間絶縁層と、を有する薄膜トランジスタは画素を構成し、該画素を複数配列して形成されたアクティブマトリクス基板であって、前記半導体活性層を二つの露出領域に分けるように前記半導体活性層上に保護膜が形成され、該二つの露出領域の一方に前記ソース電極が、他方に前記ドレイン電極がそれぞれ前記半導体活性層と接続され、前記ドレイン電極は前記保護膜上で前記画素電極と接続され、前記保護膜は少なくとも、前記半導体活性層と接する無機絶縁材料を含む下部保護膜と、前記下部保護膜上に形成された有機絶縁材料を含む上部保護膜と、からなるアクティブマトリクス基板において、
前記保護膜は前記半導体活性層をそれぞれ二つの露出領域に分割するよう形成され、かつ画素を区画する格子状に形成され、かつ遮光性を持つよう形成されていることを特徴とする請求項1に記載のアクティブマトリクス基板。 - 前記保護膜の形状が順テーパー形状となっていることを特徴とする請求項1又は2に記載のアクティブマトリクス基板。
- 前記層間絶縁層が所定の色に着色されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板。
- 前記半導体活性層が金属酸化物からなることを特徴とする1乃至4のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板。
- 画像表示方式が液晶方式、有機エレクトロルミネッセンス方式、電気泳動方式のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板を用いた画像表示装置。
- 基板上に、ゲート電極と、ゲート電極上のゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上の半導体活性層と、半導体活性層に接続されたソース電極及びドレイン電極と、ドレイン電極と接続された画素電極と、ソース電極と画素電極を絶縁するための層間絶縁層と、を有する薄膜トランジスタは画素を構成し、該画素を複数配列して形成されたアクティブマトリクス基板の製造方法であって、基板上にゲート電極を形成する工程と、前記ゲート電極上にゲート絶縁層を形成する工程と、前記ゲート絶縁層上に半導体活性層を形成する工程と、前記半導体活性層上に前記半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程と、前記保護膜上及び前記半導体活性層上及び前記ゲート絶縁層上の全面に導電性材料からなる層を成膜する工程と、二つの露出領域の一方にソース電極が、他方にドレイン電極がそれぞれ半導体活性層と接続し、前記保護膜上に前記ドレイン電極が残るように前記導電性材料からなる層をパターン形成する工程と、層間絶縁層を基板上の全面に形成する工程と、前記保護膜上の前記層間絶縁層に開口部を設ける工程と、画素電極を前記層間絶縁層上に形成し、前記画素電極と前記ドレイン電極との導通を取る工程と、を有し、前記半導体活性層上に前記半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程が、第一の保護膜を基板の全面に形成する工程と、半導体活性層を二つの露出領域に分けるように第二の保護膜を形成する工程と、エッチングにより第二の保護膜から露出した第一の保護膜を除去する工程と、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
- 前記半導体活性層上に前記半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程は、複数の薄膜トランジスタを構成する各半導体活性層上に半導体活性層を二つの露出領域に分けるようにストライプ状に保護膜を形成する工程であることを特徴とする請求項7に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
- 印刷法を用いて前記保護層をストライプ状に形成することを特徴とする請求項8に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
- 前記半導体活性層上に半導体活性層を二つの露出領域に分けるように保護膜を形成する工程は、前記半導体活性層上に該半導体活性層をそれぞれ二つの露出領域に分割しかつ画素を区画する格子状の遮光性保護膜を形成する工程、であることを特徴とする請求項7に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
- 保護膜を形成する工程の後、半導体活性層の保護膜から露出した領域にプラズマ照射する工程を有することを特徴とする請求項7乃至10のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011526316A JP4935963B2 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-21 | アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009222683 | 2009-09-28 | ||
JP2009222684 | 2009-09-28 | ||
JP2009222683 | 2009-09-28 | ||
JP2009222684 | 2009-09-28 | ||
JP2009222682 | 2009-09-28 | ||
JP2009222682 | 2009-09-28 | ||
PCT/JP2010/066299 WO2011037102A1 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-21 | アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 |
JP2011526316A JP4935963B2 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-21 | アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4935963B2 true JP4935963B2 (ja) | 2012-05-23 |
JPWO2011037102A1 JPWO2011037102A1 (ja) | 2013-02-21 |
Family
ID=43795849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011526316A Expired - Fee Related JP4935963B2 (ja) | 2009-09-28 | 2010-09-21 | アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8848124B2 (ja) |
JP (1) | JP4935963B2 (ja) |
CN (1) | CN102576507B (ja) |
WO (1) | WO2011037102A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9882063B2 (en) | 2015-03-18 | 2018-01-30 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Thin film transistor and manufacturing method thereof, array substrate and display device |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5832780B2 (ja) * | 2011-05-24 | 2015-12-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の製造方法 |
JP5849489B2 (ja) * | 2011-07-21 | 2016-01-27 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、投射型表示装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法 |
US8716708B2 (en) | 2011-09-29 | 2014-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
TWI600958B (zh) * | 2012-03-09 | 2017-10-01 | 元太科技工業股份有限公司 | 電泳顯示面板及其製作方法 |
JP2013201201A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜トランジスタアレイ、薄膜トランジスタアレイ製造方法、画像表示装置 |
JP2013206994A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜トランジスタおよび画像表示装置 |
US9087904B2 (en) | 2012-06-08 | 2015-07-21 | Joled Inc. | Thin-film transistor having tapered organic etch-stopper layer |
KR20140039570A (ko) * | 2012-09-24 | 2014-04-02 | 한국전자통신연구원 | 컬러 전자종이 디스플레이 및 그 제조 방법 |
US9000452B2 (en) * | 2012-09-28 | 2015-04-07 | Industrial Technology Research Institute | Display with filter structure |
JP6070073B2 (ja) * | 2012-10-31 | 2017-02-01 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタアレイ |
JP6244812B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2017-12-13 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに画像表示装置 |
EP2911204A1 (en) * | 2014-02-19 | 2015-08-26 | Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Bottom gate thin film transistor device and circuit |
JP6390122B2 (ja) * | 2014-03-10 | 2018-09-19 | 凸版印刷株式会社 | 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイの製造方法及び画像表示装置 |
CN104576760A (zh) * | 2015-02-02 | 2015-04-29 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置 |
CN104851891B (zh) * | 2015-04-24 | 2017-12-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 |
KR102408938B1 (ko) * | 2015-07-17 | 2022-06-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
US20170221930A1 (en) * | 2016-01-28 | 2017-08-03 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. , Ltd. | Thin film transistor array substrate and method for manufacturing the same |
JP6716323B2 (ja) * | 2016-04-01 | 2020-07-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
TWI753870B (zh) * | 2016-09-23 | 2022-02-01 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 顯示裝置及電子裝置 |
CN108198824B (zh) * | 2018-01-17 | 2020-06-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板的制备方法 |
JP7354838B2 (ja) | 2018-07-31 | 2023-10-03 | 東レ株式会社 | 半導体装置、無線通信装置、センサー制御装置、および半導体装置の製造方法 |
CN109728058B (zh) * | 2019-01-03 | 2021-04-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板及其制备方法和显示面板 |
CN111312780B (zh) * | 2020-02-27 | 2022-12-23 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种具有高开口率的显示面板及其制作方法和显示装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08201853A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-08-09 | Toshiba Electron Eng Corp | 電極基板および平面表示装置 |
JPH1082991A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JPH11190838A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-07-13 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
JP2001119029A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタ及びその製造方法及びそれを備えた液晶表示装置 |
JP2002184998A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-28 | Toshiba Corp | 表示装置用アレイ基板、この製造方法、及びこれを備える平面表示装置 |
JP2003017706A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Tft基板、それを用いた液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2005166800A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Seiko Epson Corp | プラズマ処理装置及びその処理方法 |
JP2005345585A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置およびその製造方法 |
JP2008077074A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-04-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置の作製方法 |
JP2009135380A (ja) * | 2007-05-30 | 2009-06-18 | Canon Inc | 酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタの製造方法および表示装置 |
JP2009192667A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Epson Imaging Devices Corp | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3383047B2 (ja) | 1992-12-25 | 2003-03-04 | ソニー株式会社 | アクティブマトリクス基板 |
TW475078B (en) * | 1997-09-30 | 2002-02-01 | Toshiba Corp | Liquid crystal display device and production of liquid crystal display device |
JP2001242803A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Sony Corp | 表示装置及びその製造方法 |
KR20070019457A (ko) * | 2005-08-12 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
KR101222952B1 (ko) * | 2005-11-18 | 2013-01-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | Tft 어레이 기판 및 그 제조방법 |
JP2007333809A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半透過型液晶表示装置 |
WO2008069255A1 (en) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing thin film transistor using oxide semiconductor and display apparatus |
KR20090069806A (ko) * | 2007-12-26 | 2009-07-01 | 삼성전자주식회사 | 표시 기판, 이를 포함하는 표시 장치 및 표시 기판의 제조방법 |
-
2010
- 2010-09-21 CN CN201080042815.6A patent/CN102576507B/zh active Active
- 2010-09-21 JP JP2011526316A patent/JP4935963B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-21 WO PCT/JP2010/066299 patent/WO2011037102A1/ja active Application Filing
-
2012
- 2012-03-27 US US13/431,935 patent/US8848124B2/en active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08201853A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-08-09 | Toshiba Electron Eng Corp | 電極基板および平面表示装置 |
JPH1082991A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JPH11190838A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-07-13 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
JP2001119029A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタ及びその製造方法及びそれを備えた液晶表示装置 |
JP2002184998A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-28 | Toshiba Corp | 表示装置用アレイ基板、この製造方法、及びこれを備える平面表示装置 |
JP2003017706A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Tft基板、それを用いた液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2005166800A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Seiko Epson Corp | プラズマ処理装置及びその処理方法 |
JP2005345585A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置およびその製造方法 |
JP2008077074A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-04-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置の作製方法 |
JP2009135380A (ja) * | 2007-05-30 | 2009-06-18 | Canon Inc | 酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタの製造方法および表示装置 |
JP2009192667A (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Epson Imaging Devices Corp | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9882063B2 (en) | 2015-03-18 | 2018-01-30 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Thin film transistor and manufacturing method thereof, array substrate and display device |
KR101863217B1 (ko) * | 2015-03-18 | 2018-05-31 | 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 | 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법, 어레이 기판 및 디스플레이 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102576507A (zh) | 2012-07-11 |
JPWO2011037102A1 (ja) | 2013-02-21 |
WO2011037102A1 (ja) | 2011-03-31 |
CN102576507B (zh) | 2015-08-05 |
US8848124B2 (en) | 2014-09-30 |
US20120262642A1 (en) | 2012-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4935963B2 (ja) | アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに画像表示装置 | |
JP5540517B2 (ja) | 画像表示装置 | |
US8487308B2 (en) | Thin film transistor and image display unit | |
JP5261979B2 (ja) | 画像表示装置 | |
JP5312728B2 (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
KR101602635B1 (ko) | 표시 장치, 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법 | |
WO2011122205A1 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法並びに薄膜トランジスタ及び画像表示装置 | |
JP2013196919A (ja) | 有機el表示装置、有機el表示装置の製造方法およびカラーフィルタ基板 | |
KR20130092591A (ko) | 박막 트랜지스터 및 그의 제조 방법, 박막 트랜지스터를 구비하는 화상 표시 장치 | |
JP2006253674A (ja) | 有機薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法 | |
JP2008076823A (ja) | 表示装置 | |
KR101039022B1 (ko) | 접촉부 및 그의 제조 방법, 박막 트랜지스터 표시판 및그의 제조방법 | |
KR20110056962A (ko) | 박막 트랜지스터 기판의 제조방법 | |
JP5169896B2 (ja) | 薄膜トランジスタ及び画像表示装置 | |
JP5124976B2 (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
KR100599469B1 (ko) | 유기 el 소자 및 그 제조 방법 | |
JP2014154702A (ja) | 薄膜トランジスタ及び画像表示装置 | |
JP2014154701A (ja) | 薄膜トランジスタ及び画像表示装置 | |
KR20170005307A (ko) | 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 | |
JP5782695B2 (ja) | 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタを備える画像表示装置、薄膜トランジスタの製造方法、画像表示装置の製造方法 | |
JP5609052B2 (ja) | 画像表示装置及びその製造方法並びにアクティブマトリクス基板 | |
TWI594437B (zh) | Thin film transistor array and video display device | |
JP2014107280A (ja) | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 | |
KR20080047715A (ko) | 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20060012388A (ko) | 박막 트랜지스터 표시판 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4935963 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |