JP4901248B2 - ジイモニウム化合物及びその用途 - Google Patents
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Description
本発明はこの様な状況に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、優れた溶解性を有する近赤外線吸収化合物を提供すること、さらにはそのような溶解性に優れた近赤外線吸収化合物を用いた、近赤外線吸収フィルター及び樹脂組成物を提供することにある。
(1)下記式(1)で示されるジイモニウム化合物、
(2)式(1)のR1〜R8の全てがiso−ブチル基である(1)に記載のジイモニウム化合物、
(3)(1)乃至(2)のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物を含有することを特徴とする樹脂組成物、
(4)(1)乃至(2)のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物を含有する層を有することを特徴とする近赤外線吸収フィルター、
(5)(4)に記載の近赤外線吸収フィルターを備えたプラズマディスプレー、
に関する。
分岐鎖状のアルキル基の具体例としては1−メチルエチル(iso−プロピル)、1,1−ジメチルエチル(tert−ブチル)、1−メチルプロピル(sec−ブチル)、1,1−ジメチルプロピル、2−メチルプロピル(iso−ブチル)、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル(iso−アミル)、1,1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、3−エチルブチル、2−エチルブチル等の炭素数1〜20のアルキル基が挙げられる。これらの内好ましいものは炭素数1〜10、更に好ましくは炭素数3〜6の上記分岐鎖状のアルキル基である。
R1〜R8に関し、R1〜R8の全てがn−ブチル基である場合には「4(n−C4H9,n−C4H9)」と表記する。
また例えば、R1〜R8のうち、1つがiso−ペンチルで残りの7つがn−ブチルである場合、即ち、(R1,R2)、(R3,R4)、(R5,R6)、(R7,R8)の4組の置換基の組み合わせの一つが(n−ブチル,iso−ペンチル)の組み合わせであり、残りの3組が全て(n−ブチル,n−ブチル)の組み合わせである場合には「3(n−C4H9,n−C4H9)(n−C4H9,i−C5H11)と表記する。
本発明の樹脂組成物を得る上で、用いうる樹脂の具体例として、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニト リル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン/テトラフルオロエチレン共重合体、シアン化ビニリデン/酢酸ビニル共重合体、等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン等のフッ素を含む樹脂、ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられる。
すなわち、
(1)樹脂に本発明のジイモニウム化合物を混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法、
(2)本発明のジイモニウム化合物と樹脂モノマー又は樹脂モノマーの予備重合体を重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法、
(3)本発明の組成物を含有する塗料を作製し、透明樹脂板、透明フィルム、又は透明ガラス板にコーティングする方法、
等である。
前記(1)〜(3)の成形品作製方法において、それぞれの方法で混練、混合の際、紫外線吸収剤、可塑剤等、樹脂成形に用いる通常の添加剤を加えても良い。
前記で得られる樹脂組成物成型品の最も好ましい用途は近赤外線吸収フィルターである。このような近赤外線吸収フィルターは、本発明のジイモニウム化合物を含有する樹脂層を基材上に設けたものでもよく、また基材自体が近赤外線吸収化合物を含有する樹脂組成物(又その硬化物)からなる層であっても良い。基材としては、一般に近赤外線吸収フィルターに使用し得るものであれば特に制限されないが、通常、樹脂製の基材が使用される。本発明のジイモニウム化合物を含有する層の厚みは、通常0.1μm〜10mm程度であるが、近赤外線カット率等の目的に応じて適宜決定される。また、本発明のジイモニウム化合物の含有量も目的とする近赤外線カット率に応じて、適宜決定される。用いる樹脂としては、樹脂板又は樹脂フィルムに成形した場合、できるだけ透明性の高いものが好ましい。
この近赤外線吸収フィルターは、本発明のジイモニウム化合物及び樹脂(接着剤)を含有させた組成物を用いて、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、又は合わせガラス板を作製することによって得られる。このような目的で使用される樹脂としては、シリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、又は合わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤等の合わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。本発明のジイモニウム化合物を好ましくは0.1〜30重量%添加した接着剤組成物を調製し、これを用いて透明な樹脂板同士、樹脂板と樹脂フィルム、樹脂板とガラス、樹脂フィルム同士、樹脂フィルムとガラス、ガラス同士を接着して、近赤外線吸収フィルターを得ることができる。尚、接着剤組成物を調製するに当たり、それ自体公知の紫外線吸収剤、可塑剤等を適宜加えても良い。
この様にして得られた本発明の近赤外線吸収フィルターの最も好ましい用途はプラズマディスプレーへの使用であるが、プラズマディスプレーの前面板に用いられる場合には、可視光の透過率は高いほどよく、少なくとも40%以上、好ましくは50%以上の透過率が必要である。近赤外線のカット領域は、好ましくは750〜1200nm、より好ましくは800〜1000nmであり、その領域の近赤外線の平均透過率が50%以下、より好ましくは30%以下、更に好ましくは20%以下、特に好ましくは10%以下になることが好ましい。
(表1における化合物No.1の合成)
DMF40部中にN,N,N',N'−テトラキス(p−ジ(iso−ブチル)アミノフェニル)−p−フェニレンジアミン(上記式(2)において、R1〜R8が全てiso−ブチルの化合物)2部を加え、60℃に加熱溶解した後、ポタシウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート2.1部を加えた。引き続いてDMF40部に溶解した硝酸銀0.82部を加え、120分間加熱撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾過、メタノール洗浄、水洗、乾燥し、No.1の化合物2.5部を得た。
λmax 1111nm(ジクロロメタン) モル吸光係数(ε) 105,000
(表1における化合物No.6の合成)
DMF20部中にN,N,N',N'−テトラキス(p−ジ(iso−アミル)アミノフェニル)−p−フェニレンジアミン(上記式(2)において、R1〜R8が全てiso−アミルの化合物)1.1部を加え、60℃に加熱溶解した後、ポタシウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート2.0部を加えた。引き続いてDMF20部に溶解した硝酸銀0.4部を加え、120分間加熱撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥し、化合物No.6 0.7部を得た。
λmax 1111nm(ジクロロメタン) モル吸光係数(ε) 106,000
MEK100部中に、室温(20〜25℃)で、前記実施例1で得られた化合物No.1及び特許文献1記載の下記化合物Aを攪拌しながら、目視にて不溶解分が出るのを確認出来るまでそれぞれ投入し、その時点の溶解分の重量より溶解度を算出した。結果を表2に示す。
化合物 MEKに対する溶解度(部)
化合物No.1 3.8
化合物A(比較用) 0.2
上記表2の結果から明らかなように、この対イオンの違いはMEKへの溶解性に極めて大きく影響を与え、化合物Aの溶解度は0.2であるのに対して本発明のジイモニウム化合物(化合物No.1)は3.8であり、実に19倍もの極めて高い溶解度を示すことが分かる。
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