JPH0316785A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPH0316785A
JPH0316785A JP1150603A JP15060389A JPH0316785A JP H0316785 A JPH0316785 A JP H0316785A JP 1150603 A JP1150603 A JP 1150603A JP 15060389 A JP15060389 A JP 15060389A JP H0316785 A JPH0316785 A JP H0316785A
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JP
Japan
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group
substituted
unsubstituted
membered ring
ion
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Pending
Application number
JP1150603A
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English (en)
Inventor
Chieko Mihara
知恵子 三原
Takeshi Santo
剛 三東
Hiroyuki Sugata
裕之 菅田
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to JP1150603A priority Critical patent/JPH0316785A/ja
Publication of JPH0316785A publication Critical patent/JPH0316785A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は,レーザ光、特に半導体レーザによる書き込み
記録に適した光記録媒体に関し、詳しくは光ディスクお
よび光カード技術に用いうる改善された光記録媒体に関
するものである.[従来の技術] 一般に、光ディスクおよび光カードは、基板の上に設け
た薄い記録層に形成された光学的に検出可能な小さな(
例えば、約1p)ピットをらせん状又は円形のトラック
形態にして高密度情報を記憶することができる. この様なディスクに情報を書込むには、レーザ感応N(
記録層)の表面に集束したレーザを走査し、このレーザ
光線が照射された表面のみにビットを形成し、このピッ
トをらせん状、円形または直線状トラックの形態で形成
する.レーザ感応層(記録層)は、レーザ・エネルギー
を吸収して光学的に検出可能なビットな形威てきる.例
えば、ヒートモード記録方式では,レーザ感応層(記録
層)は熱エネルギーを吸収し,その個所に蒸発又は融解
により小さな凹部(ピット)を形或できる。また、別の
ヒートモード記録方式では,照射されたレーザ・エネル
ギーの吸収により、その個所に光学的に検出可能な濃度
差を有するピットな形成できる. この光ディスクおよび光カートに記録された情報は,レ
ーザ光をトラックに沿って走査し,ピットが形威された
部分とピットが形威されていない部分の光学的変化を読
み取ることによって検出される。例えば,レーザ光かト
ラックに泊って走査され、ディスクにより反射されたエ
ネルギーがフォトディテクターによってモニターされる
。ピットか形成されている部分は,レーザ光の反射は低
くなりフォトディテクターの出力は低下する.方,ピッ
トが形威されていない部分は、レーザ光は充分に反射さ
れフォトディテクターの出力は大きくなる. この様な光ディスクおよび光カートに用いる光学的記録
媒体として,これまでアルミニウム蒸着膜などの金属薄
膜、ビスマス薄膜、酸化テルル薄膜やカルコゲナイト系
非晶質ガラス膜などの無機物質を主に用いたものが提案
されている.これらの薄膜は、一般に350〜800n
−付近の波長光で感応性であるとともに、レーザ光に対
する反射率が高いため、レーザ光の利用率が低い等の欠
点がある。
この様なことから、近年比較的長波長(例えば,780
nm以上)の光エネルギーで光学的な物性変化可能な有
機薄膜の研究がなされている.この様な有機薄膜は,例
えば発振波長が780nm又は830n−付近の半導体
レーザによりピットな形或できる点で有効なものである
しかし、一般に長波長側に吸収特性をもつ有機化合物は
、熱に対して不安定な点で問題がある.例えば、光学記
録媒体の取扱いは必ずしも空調設備の整ったオフィース
でのみ使用されるわけではなく,運送倉庫での保管、ド
ライブ装置の機内昇温等を考慮する必要があり高温にお
ける安定性により優れた媒体が望まれている.特に、光
学記録媒体か光カードである場合はカードとしての厚み
及び強度の点で中空構造(エアーサンドイツチ構造)を
取ることは困難で、記R層上に直接接着剤で対向基板を
貼合せる貼合せ構造となる.その際に用いる接着剤とし
ては記録層の書き込み感度を落さず作業性に優れるホッ
トメルト系の接着剤か有効である.しかし,ホットメル
ト系の接着剤では貼合わせ時に短時間ではあるが100
℃位になる為,記録層はより耐熱性に優れたものか望ま
れている。さらに、光カードは個大ての持ち運びによる
取扱いとなる場合が多く、粗雑に扱われる可能性が高い
為、耐熱性を始めとする環境安定性に優れたものが望ま
れている. [発明が解決しようとする課8] 本発明は、この様な現状に鑑みてなされたものであり、
その目的は半導体レーザなどの長波長光による記録再生
が可能で、熱および光に対する安定性にすぐれた光記録
媒体を提供することにある. [課題を解決する−ための手段] すなわち、本発明は,カチオン染料と下記一般式(1)
または(2)で示される化合物とが同一の対イオンであ
る組み合せからなる記録層を有することを特徴とする光
記録媒体である.(1) (2) (式中、Aはf−CFh [I!はlまたは2である]
を示し、Bは<ζちを示し、芳香族環は低級アルキル基
、低級アルコキシ基,ハロゲン原子または水酸基によっ
て置換されていてもよい.x0は陰イオンを示す,l.
−R.は水素原子.ハロゲン原子.置換もしくは未置換
のアルキル基.置換もしくは未置換のアルケニル基,置
換もしくは未置換のアラルキル基または置換もしくは未
!!換のアルキニル基であり、R1とR., R3とR
−, RsとR6およびR,とR8の組み合せでNとと
もに置換もしくは未置換の5員環、置換もしくは未置換
の6員環、置換もしくは未置換の7員環を形威してもよ
い。R0〜R8の置換基はそれぞれ同じであっても異っ
ていてもよい.) 以下、本発明を詳細に説明する. 本発明は、カチオン染料と上記一般式(1)または(2
)で示される赤外線吸収化合物が各々同一の対イオンで
ある組み合せからなる記録層を有する光記録媒体とする
ことにより、従来法で実施されている染料及び各種赤外
線吸収化合物との組み合せからなる記録層を有する光記
録媒体とは異なり、保存時の安定性の高い、主として結
晶成長を防止した光記録媒体が得られる. 前記一般式(1).(2)において、R.〜R8は水素
原子,ハロゲン原子,置換もしくは未置換のアルキル基
,置換もしくは未置換のアルケニル基,!換もしくは未
置換のアラルキル基または置換もしくは未置換のアルキ
ニル基であり、LとR,, R3とR., R.とR6
およびR7どR6の組み合せてNとともに置換もしくは
未置換の5員環、置換もしくは未置換の6員環、置換も
しくは未置換の7員環を形威してもよい。R.〜R.の
置換基はそれぞれ同じであっても異っていてもよい. 例えば、ハロゲン原子としては、フッ素,塩素.臭素.
沃素などを示す.例えば、アルキル基としては、例えば
、メチル基,エチル基,n−プロビル基, iso−プ
ロビル基,n−ブチル基,sec−ブチル基, iso
−ブチル基.t−ブチル基.n−アミル基.t−アミル
基.n−ヘキシル基,n−オクチル基.t−オクチル基
などを示し、さらに他のアルキル基、例えば置換アルキ
ル基としては、例えば2−ヒトロキシエチル基,3ーヒ
トロキシブロビル基,4−ヒトロキシブチル基,2−ア
セトキシエチル基,カルボキシメチル基,2−カルボキ
シエチル基.3−カルボキシブロビル基,メトキシエチ
ル基,エトキシエチル基.メトキシプロピル基,2−ク
ロロエチル基などを示す.アルケニル基としては,ビニ
ル基,プロベニル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキ
セニル基,ヘブテニル基,オクテニル基など、アラルキ
ル基としては、例えば、ペンシル基,p−クロロベンジ
ル基,p−メチルペンシル基,2−フェニルメチル基,
2−フェニルブロピル基.3ーフェニルプロピル基.α
−ナフチルメチル基.βーナフチルエチル基など、アル
キニル基としては、例えば、プロバギル基,ブチニル基
.ベンチニル基.ヘキシニル基などを示す。置換もしく
は未置換の複素5員環としては,ピロリシン環など、!
!+1!もしくは未置換の6員環としては、ビベリジン
環,モルホリン環,テトラヒドロビリジン環など、置換
もしくは未置換の7員環としては、シクロヘキシルアミ
ン環などである。
本発明における一般式(1)または(2)て示される化
合物の製造方法は、米国特許明細書3251881号.
米国特許明細書3575871号,米国特許明細書34
84461号および特開昭61−69991号等に記載
された方法を利用することか出来る.例えば,次の過程
により製造することか出来る。
?2N−A−NH2+ 4 r+NO■?NO■ペトト
N−A−N恰NO.].−一→上記ウルマン反応及び還
元反応により得たアミノ体を選択的にアルキル化したの
ち、酸化反応により最終生T&物を得ることが出来る。
また,カチオン染料としては、一般式(3)に示される
ような化合物、例えばボリメチン系染料,アズレン系染
料,ピリリウム系染料.シアニン系染料.トリフェニル
メタン系染料等を挙げることかできる. 一般式(3) ?式中 11■’, R2’, R3’, R4’, 
Rs’, Ra・, R?・,Ra’, R9’は互に
無関係に水素原子,ハロゲン原子,置換もしくは未置換
のアルキル基,置換もしくは未置換のアリール基,Fa
換もしくは未置換のスチリル基または置換もしくは未置
換の複素環基を示す.また、 R,′と R.’,  
R,’と R4’,  R.’とI16’,  R7’
と R6′の組み合せで互に無関係に5員環,6員環.
7員環よりなる置換もしくは未置換の飽和脂肪族環.置
換もしくは未置換の飽和複素環、あるいは置換もしくは
未置換芳香族環,置換もしくは未置換の複素環またはこ
れらの縮合環であってもよい。mは0またはlであり、
nはO,lまたは2である.xfllは陰イオンである
。)置換基の具体的な例としては、例えばアルキル基と
しては(例えば、メチル基、エチル基.n−プロビル基
. iso−プロビル基、n−ブチル基、sec−ブチ
ル基. iso−ブチル基,t−ブチル基,n−アミル
基、t−アミル基,n−ヘキシル基、n一才クチル基、
t一才クチル基など)を示し、さらに他のアルキル基、
例えば置換アルキル基(例えば2−ヒドロキシエチル基
,3−ヒトロキシブロビル基,4−ヒトロキシブチル基
、2−アセトキシエチル基,カルボキシメチル基、2一
カルボキシエチル基、3−カルボキシプロビル基、2−
スルホエチル基、3−スルホプロビル基、4−スルホブ
チル基、3−スルフェートプロビル基,4−スルフェー
トブチル基,N−(メチルスルホニル)一カルバくルメ
チル基、3−(アセチルスルファミル)プロビル基、4
−(アセチルスルファミル)ブチル基など)、環式アル
キル基(例えば、シクロヘキシル基など)、アルケニル
基(ビニル基、アリル基、プロベニル基、ブテニル基、
ベンテニル基,ヘキセニル基、ヘブテニル基、オクテニ
ル基,ドデシニル基、ブレニル基など)、アラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメ
チル基、β−ナフチルメチル基など)、置換アラルキル
基(例えば,カルボキシベンジル基、スルホベンジル基
,ヒトロキシベンジル基など)を包含する.さらに、L
 ’ + R2’ * R3’ + R4’ + R@
’ * R6’ * R?’ * R6’およびR9′
は置換もしくは未置換のアリール基(例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メトキシフェ
ニル基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ジメチルアミノフェニル基,
ジエチルアミノフェニル基,ジプロピルアミノフェニル
基,ジベンジルアくノフェニル基,シフェニルアミノフ
ェニル基など)、置換もしくは未置換の複素環基(例え
ば、ビリジル基,キノリル基、レピジル基,メチルビリ
ジル基,フリル基、チェニル基、イントリル基、ビロー
ル基、カルバゾリル基、N一エチルカルバゾリル基など
)又は置換もしくは未置換のスチリル基(例えば、スチ
リル基,メトキシスチリル基,ジメトキシスチリル基、
トリメトキシスチリル基、エトキシスチリル基、ジメチ
ルアミノスチリル基、ジエチルアミノスチリル基、ジブ
ロピルアミノスチリル基、ジベンジルアミノスチリル基
,ジフェニルアミノスチリル基、2,2−ジフェニルビ
ニル基,2−フェニルー2一メチルビニル基,2−(ジ
メチルアくノフェニル)一2−フェニルビニル基,2−
(ジエチルアミノフェニル)−2−フェニルビニル基、
2−(ジベンジルアミノフェニ−ル)−2−フェニルビ
ニル基、2.2−ジ〈ジエチルアミノフェニル)ビニル
基、2,2−シ(メトキシフェニル)ビニル基、2.2
−ジ(エトキシフェニル)ビニル基、2一(ジメチルア
ミノフェニル)−2−メチルビニル基、2−(ジエチル
アミノフェニル)−2−エチルビニル基など)を示す. また、 n , /と n , r .  H , J
と R4’,  Rs’と R.′,H , Iと R
6′の組み合せで互に無関係に形處する飽和脂肪族環と
しては(例えば、シクロヘキシル環.シクロベンチル環
など),飽和複素環としては(例えば,テトラヒドロフ
ラン環,テトラヒドロピリジン環,ビロリジン環.チア
ゾリジン環など)が挙げられる.芳香族環としては(例
えば、フェニル環など)、複素環としては(例えば、ピ
ロール環.ピリジン環,チアゾール環.イくダゾール環
.オキサゾール環,ピラン環,チオビラン環など)が挙
げられる.その他の縮合環としては(例えば、ナフタレ
ン環,アズレン環,ペンゾフラン環,チオベンゾフラン
環.インドール環,キノリン環,カルバゾール環,アン
トラセン環など)が挙げられる. 但し、x0は一般式( .1 )の化合物と一般式(3
〉の化合物、あるいは一般式(2〉の化合物と一般式(
3)の化合物の組み合わせで,同一の対イオンを有する
. x0は,塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩
素酸塩イオン,硝酸塩イオン,ベンゼンスルホン酸塩イ
オン.p−トルエンスルホン酸塩イオン、メチル硫酸塩
イオン、エチル硫酸塩イオン,プロビル硫酸塩イオン、
テトラフル才ロホウ酸塩イオン、テトラフェニルホウ酸
塩イオン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンゼンス
ルフィン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフルオロ酢酸
塩イオン、プロビオン酢酸塩イオン,安息香酸塩イオン
、シュウ酸塩イオン、コハクm塩イオン、マロン酸塩イ
オン,オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン,ク
エン酸塩イオン,一水素二リン酸塩イオン、二水素一リ
ン酸塩イオン,ペンタクロロスズ酸塩イオン,クロロス
ルホン酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリ
フルオロメタンスルホン酸塩イオン,ヘキサフルオロヒ
酸塩イオン,ヘキサフルオロアンチモン酸塩イオン、モ
リブデン酸塩イオン、タングステン酸塩イオン、チタン
酸塩イオン、ジルコン酸塩イオンなどの陰イオンの中よ
り任意に選ぶことができる. 次に、一般式(1)及び(2)で用いられる化合物の具
体例を挙げる.簡略化のために,一般式(1)で表わさ
れる化合物なA , X , (RJR2)(R3a4
)(Rsug)(atna).一般式(2)で表わされ
る化合物をB , X . (R1R*)(RJ4)(
RsRg)(RJa),と表記する. 例えば,一般式(1)で、Aがべ}男 で、ffi=l
.X”がCJO4” テ. R.〜RaがCJyである
場合←C)呻, CRO4, ( CJy  CJ? 
)4と表記する.また,一般式(2)で,Bがぺ)t 
で、? = l , XeカCi’O.e テ、Rlト
R2カヒヘリシン環を形成し,R3からR.がn−ブチ
ル基である場合,※, CJ’04, ( C4H9 
C4Hs ):+ ( CH2Ctl2(:II■−C
II.CH. )と表記する. 化合物No. (1)−A−1 (1)一A−2 (1)−A−5 (1)−A−6 (1)−A−7 (1)−A−8 (1)一八−9 +,cm4, (n−CJIs n−CJs)<イy,
噛, (iso−C.Hy iso−CJ?)nヘト.
 CRO4. (CH*−C(CHi)CHzC(CH
i)*Cl{*)4−C}−, CRO4, (OC.
}l. OC.H%)4{ト,C東., ((:H.C
I麿CH2CH.CH冨CH2).イト, CI’04
, (n−C3■y n−(:,IH?)<u , c
a4. (n−CaHty n7caH+y)<化合物
No. (1)−A−10 (1)−A−11 (1)−A−12 (1)−A−1:1 (1)−A−14 (1)−A−15 (1)−A−16 (1)−A−17 (1)−A−19 イト, cao., 台,C東., べ>.C東,, イ>.C四., イト,鴫. べp, cRo., ル}(ト・ イ}(ト・ C}12cH20cH20cJs)4 (CH.CH.OC}120c,H. (CII.CH.CH.CHt) 4 (CHtCll2CH2CHzCH2)+(CH*CH
tOCHffCH2CI120CH:+)4(CH*C
HtOC2Hs  CH*CHgOCaH%)4(CH
2CH.CH−CHI  CH2CH!CH−CI{2
)4Cj’llL. (n−c4ug  11−C41
19)4CRO4, (OCtHs  OCtHs)n
イ}(ト , Cj)04. (CH.CII−CHICI.CI
I富CUt)4 化合物No. (1)−8−1 (1)一ト2 (1)−8−4 (1)−8−5 (1)一B−5 (1)−8−’? (1)−8−8 (1)−B−9 −C}−, SbFa+ (n−C,,}It n−C
Jy)n−C)一, SbFe,, (C11tCH−
CH2CIl*Cll<Ha)4イ>, SbFa, イ:p, SbF., イト, SbF., イト, SbF.. +, SbF., イ}(ト・ (CH,−C.HSCH,−C.H%)4(ct+*c
otoc*t+s  CH.CI20C.Hs)4(O
CJlt  OCJl,)4 (Cll.Cll−CHCj?  CH.C}トCHC
i’)<(CHa=C(CI3)CIItC(CI3)
2CI!)4Sb}6, (n−C.H.  n−CJ
J4化合物No. (1)−B−to (1)−C−1 (1)−C−3 (1)−C−4 ( i) −c−s (1)−D−1 (1)一ト2 (1)−E−1 ル}(ト, SbFa. ((:HtCHtCH−CH
t lJltCHt(:H=CHg)4台, AsFs
, (iso−C3Ht tso−c3o?)4台, 
AsF., ル}(ト・ ペ}(ト・ ペ}, BF., ペト, BF4, (CH2CIl.CH2Cll1). ASF61 (OC4H9  0C4H9)4^sFa
s (CsHto−Cl’  CsH+o−CR)n(
n−CJ+s  n−CtHts)n(COユ CH!
) 4 {1, NOs.(CH*CH*CH2CH*CllJ
<化合物No. (1)−E−2 −()一. NO:l ,(Cllt(:II−CHa
CHt(:H−CHJ 4 (1)−F−1 一〈=:〉一 .  Br,  (n−Csll+ 1
?−Calm■)4 (1)−G−1 (1)−G−2 + , I , (CHtCH*CH−CHa C}l
iclkcH−CHJ 4イト, f, (CJIs 
C2HJ4(1) −H−2 (1)−1−1 台, CHイ}SOユ ペト, CF3SO3.(06Hl3 , (CIliCIJ20C}l2CH2)4C6Hl
i)4 化合物No. (2)−A−2 %, CRO.. (OC.H7 0C.H7)4(2
) −A−4 (2)−A−5 クシ. C札. (n−c4u9 n−C4Hs)n※
, CRo4. (CHtCHtCHzCHtC11t
)4(2) −A−8 (2)−A−9 (2)−A−10 ※ ,  Ci’04.  (co2c=c:l1i?
   C%C=CJy)4※, cs4, (n−CJ
+i n−CJ+s)4※, (:J)Q4, (is
o−CJy iso−CJt)4化合物No. (1)−J−1 (1)−J−2 イト, FSO,−SbF,, (iso−C,}ly
 iso−C3H,),(C.lISイ>, FSOz
−SbFs. (OCJy QCユ117)4C.}I
S) 化合物No. (2)−A−11 (2)−A−12 (2)−A−1:1 (2)−A−14 (2)−A−15 (2)−A−16 (2)−A−17 (2)−A−18 ※, CI!04, ※,C虱, ※, Ci)0., =C)=, Ci)0., ※, Ci)0., べ)ζζ・ く)ζζ・ く)ζζ・ ?CJf=C(CH3)CH2C(CFl3)2CH2
)4(C11■CH.OCR20CHユ CH2CHz
OCl120Clb) 4(CH2CH20CI{2C
l{2) 4(OCsH.t  OCS}Ill)4(
CJs  C211s)4 CRO4, (C11zCH−Ctl2C}12c}l
−CH2) 4C東4, (OC3H?  OC311
t)4Ci)O., (CH.CH2C}12CH2C
H.).(2)−A−20 べ)ζζ , cROs. (n−caq ローC4H9)4 化合物?1o. (2)−8−1 (2)−8−2 (2)一B−:1 (2)−8−5 (2)−8−6 (2) −8−7 (2)−8−8 (2)−8−9 (2)−8−10 ※, SbF., (II−C4H. n−C.H.)
+0. SbFa,  (CHtCIトC}I2CH2
CH−CH2)<0, SbFa. COCsHss 
OCsH++)4Q, SbF., ※, SbF., く冫, SbF., −l:)=, SbF6, く》ζζ・ <)《ζ・ ?CaHs−CHtCi’  CaHs−CI2Cj’
)4(CI■一C(C1{+)CIltC(Cll,)
2CH2)4(iso−CJk  iso−CJy)4
(n−c91119n−CJts)n SbFr.. (CtH5CJ5)4 SbFa. (n−Csftw. n−Cst{ss)
4化合物No. (2)−C−1 (2)−C−2 (2)−C−3 (2)−C−4 (2)−D−1 (2)−D−2 (2)一D−3 (2)−E−1 (2) −E−2 (2)−F−1 ※* ASF61 ※* AsFa. 〈},八sFa, く)ζζ・ ※, BF., ク}, BF., <)《ζ・ ※, NO3, 0,NOユ. ※,Br, (OC3H?  OCJy:L (n−CsH++  n−CsH.t)<(CH2CH
tCHaCHiCHJ 4AsFs, (n−c4o=
  n−CJs)4(n−CaHt:s  n−CJL
.)4(iso−CJ,  iso−CJy)48F4
, (CH2Cll−Cllt  CIltCI−CH
Jn(OCJs  OCJs)4 (CH.CI{.CIIκHz  CH*CHzCH−
CH2)4(CHaCH*CHtCIIt) 4 化合物No. (’2) −F−2 (2)−G−2 (2) −G−3 (2)−H−1 ※・ Br , (n−CaHtz n−CaHti)4 〈ト.  I ,(C2H5 CJJ4〈},  I 
, (n−C,tHs n−C4H9)4※, co3
−Q−So. . (n−CJIs n−C4Hs)n
上記に例示したアミニウム塩化合物(1)あるいはシイ
モニウム塩化合物(2)は、極大吸収波長が900nm
以上にあり、吸光係数も数万から十数万程度と大きい吸
収ピークを持つ. このような化合物は光記録媒体の材料としての用途以外
に断熱フィルム.サングラスなどに使われる. 光記録媒体として、これらの化合物と併用される近赤外
吸収色素としては、一般式(3)に示されるようなカチ
オン系染料がある. ここで、前記一般式(3)に示されるカチオン系染料の
代表例を挙げる. ■ ボリメチン系染料 化合物 No. (3)−I −A−1 Ci’04e (3)−I ーA−2 CR04θ (3)−I ー^−3 (:l)− I −C−1 AsFae (3)− I 一C−2 八sFa。
(:l)− I −D−1 8F.。
(3)−I −A−4 CIlイγ ’Q−cp CRO.e (3)−I −B−1 (CI.).Nイγ LトN(CH3)2 SbF.。
(3)−I 一B−2 CI,0イγ X}oCH, (3)−I −D−2 (3)−1 −E−1 (3)−I −F−1 Br0 ■ アズレン系染料 (3)−u −A−1 (3)−I1 −A−2 (コ)−II −A−3 CI3 (3)−n −B−:1 (3)−I1 −C−1 (3)−I1 −C−2 (3)−n −A−4 (3)一■−8−1 CH, (3)−n −8−2 SbFae (:l)−1I −D−1 (3)−n −D−2 (3)一■一F−1 (:I)一〇 −F−2 (:H3 CH3 (3)一■一G−1 (:I)−11 −H−1 cs.%トS03e (3)−m−B−1 SbFa。
(3)−m −8−2 SbF6e (:l)−III −C−1 AsFa。
■. ビリリ ウム系化合物 化合物 No. (3)−m −A−1 CI204。
(3)−m −A−2 Cjl!048 (3)−m −A−3 Ci)04’ ■. シアニン系染料 化合物 No. (3)−47 −A−1 CI204。
(3)−1T −A−2 C204。
(:I)−1’V −A−3 CIl04e (3)−IV −B−1 (3)−IV −G−2 ■0 (3)−rV −8−2 (:l)−1T −G−3 (:l)−1V −G−1 SbFa。
(:l)−1T −G−4 I0 L;.tl. t,i, I0 本発明の光記録媒体は、基板上に少なくとも前記一般式
(3)のカチオン系染料と一般式(1)のアミニウム塩
化合物および/または一般式(2)のシイモニウム塩化
合物を含有させた有機薄膜を設けることによって形成す
ることができる.かかる有機薄膜は前記一般式(1)お
よび一般式(2)で示される化合物を有機溶媒中に溶解
混合,もしくは分散混合させた塗工液を塗布することに
よって形威することができる. また、有機薄膜の形威にあたって、前記一般式(1),
(2)および一般式(3)で示される化合物を2種以上
組み合せて用いることができる.さらに,他の染料、例
えば前記一般式(3)の化合物以外のボリメチン系色素
,アズレン系色素.ビリリウム系色素,シアニン系色素
.メロシアニン系色素,クロコニウム系色素,スクアリ
ウム系色素.ナフトキノン系色素,フタロシアニン系色
素などを併用することができる。
これらの色素に対して前記一般式(1)および/または
一般式(2)で表わされる赤外吸収化合物の添加量は,
全固形分を基準として記録層に対して1〜60重量%、
好ましくは5〜40i量%、より好ましくはlO〜30
重量%が適当である.これらの化合物以外に,有機色素
薄膜からなる記録層中にバインダーを含有させても良い
.バインダーとしては゛例えば、ニトロセルロース、リ
ン酸セルロース,硫酸セルロース、酢酸セルロース、ブ
ロピオン酸セルロース、醋酸セルロース、ミリスチン酸
セルロース、パリミチン酸セルロース,酢酸・プロピオ
ン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどのセルロー
スエステル類、メチルセルロース、エチルセルロース、
プロビルセルロース、ブチルセルロースなどのセルロー
スエーテル類,ボリスチレン,ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルブチラール,ポリビニルアセター
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなど
のビニル樹脂類、スチレンーブタジエンコボリマー、ス
チレンーアクリロニトリルコボリマー,スチレンーブタ
ジエンーアクリロニトリルコボリマー、塩化ビニルー酢
酸ビニルコボリマー、などの共重合樹脂類、ポリメチル
メタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチル
アクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリ
ル樹脂類、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエス
テル類,ポリ(4.4’−イソブロビリデンジフエニレ
ンーコー1.4−シクロヘキシレンジメチレンカーボネ
ート)、ポリ(エチレンジオキシ−3.3′−フエニレ
ンチ才カーボネート)、ポリ(4.4’−イソブロビリ
デンジフエニレンカーボネートーコーテレフタレート)
、ポリ(4.4’−イソプロビリデンジフエニレンカー
ボネート)、ポリ( 4 .4’ − see−プチリ
デンジフエニレンカーボネート)、ポリ(4.4’−イ
ソブロピリデンジフエニレンカーボネートーブロックー
才キシエチレン)などのポリアリレート樹脂類、あるい
はボリアミド類、ボリイミト類、エボキシ樹脂類,フェ
ノール樹脂類、ポリエチレン、ボリプロビレン、塩素化
ポリエチレンなどのポリオレフィン類などを用いること
ができる. ?た,記録層中に界面活性剤、帯電防止剤、安定剤、分
散性難燃剤,滑剤、可塑剤などが含有されていてもよい
また、記録層と基板の間に下引き層、記録層の上に保護
層を設けても良い. 下引き層としては,耐溶剤性付与、反射率の向上、ある
いはくり返し再生の向上などのために、保護層はキズ.
ホコリ,汚れなどからの保w1および記録層の環境安定
性などのために用いられる.これらに使用される材料は
無機化合物,金属あるいは有機高分子化合物が主に用い
られる.無機化合物としては、例えばSiO■MgF2
, Sin, Tie..ZnO, TiN, Sin
など、金属としては、例えばZn,Cu, Ni, A
i’, Cr, Ge, Se, Cdなどを、有機高
分子化合物としてはアイ才ノマー樹脂.ボリアミド系樹
脂,ビニル系樹脂,天然高分子,エボキシ樹脂,シラン
カツブリング剤などを用いることが出来る. 基板としては、ポリエステル、ボリカーボネート、アク
リル樹脂,ボリ才レフイン樹脂、フエノール樹脂、エボ
キシ樹脂、ボリアミド、ボリイミトなとのプラスチック
、ガラスあるいは金属類などを用いることができる. 塗工の際に使用できる*機溶剤は、分散状態とするか、
あるいは溶解状態にするかによって異なるが、一般にメ
タノール.エタノール,イソブロパノール,ジアセトン
アルコールなどのアルコール類、アセトン,メチルエチ
ルケトン,シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−
ジメチルホルムアミド, N,N−ジメチルアセトアミ
トなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホ
キシド類、テトラヒトロフラン,ジオキサン,エチレン
グリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類,酢酸
メチル,酢酸エチル.酢酸ブチルなどのエステル類、ク
ロロホルム,塩化メチレン,ジクロルエチレン,四塩化
炭素,トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン,トルエン,キシレン.モノクロルベ
ンゼン.ジクロルベンゼンなどの芳香族類あるいはn−
ヘキサン,シクロヘキサノリグロインなどの脂肪族炭化
水素類などを用いることができる. 塗工は,浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、スピンナーコーティング法、ビートコーティング法,
ワイヤーバーコーティング法、プレートコーティング法
、ローラーコーティング法、カーテンコーティング法な
どのコーティング法を用いて行うことができる。
このような溶剤を用いて形成される記録層の膜厚は50
人〜100.鵬、好ましくは200λ〜lps>{適当
である。
[作用] 従来から、色素の光安定性を向上させるために、赤外吸
収化合物等の安定剤を添加することが有効であると報告
されているが、色素と安定剤の組み合わせには高い安定
性を示すものと、安定性を示さないものとがある.その
ために,色素と赤外吸収化合物等の安定剤との良い組み
合わせを選択する必要がある.本発明の光記録媒体にお
いては,特にカチオン染料と一般式(1)または(2)
で示される赤外吸収化合物とが同一の対イオンである組
み合せから記録層を形或する場合には、光や熱に対する
安定性が著しく向上する。
また、溶液状態の溶解性を低下させないために溶液で塗
工する際の生産性を向上させることができる.同時に、
薄膜状態における結晶化等の問題も改善することができ
る.詳しい理由は不明であるか、カチオン染料と一般式
(1)または(2)で示される赤外吸収化合物とが同一
の対イオンであるために、塩交換等が起こらず安定な状
態な雑持させることが可能になったのではないかと考え
られる. [実施例] 次に、本発明における実施例を挙げて説明する. 実施例l 直径130 amφ,厚さ1.2一鳳のポリメチルメタ
クリレート(以下、rPMMAJと略記する)基板上に
エボキシーアクリレート系紫外線硬化樹脂を用いて、2
P法(フォトボリマー法)で厚さ50川のプレグループ
を設け、その上にボリメチン色素化合物No.(:l)
−I−A−1の有機色素と前記赤外吸収化合物No.(
1)−A−1を重量比70:30で1.2−ジクロロエ
タンに溶解させた液を、スピン塗布により800大の記
録層を設けた.このようにして得た媒体の内周側と外周
側に0.30のスベーサーをはさみ、紫外線硬化性樹脂
接着剤で他のPMMA基板と貼合せエアーサンドイッチ
構造の光記録媒体を得た。
これを1800rp−に回転させ、波長830nmの半
導体レーザーを用いて、基板側より記録パワー8mW、
記録周波数3 MHzで書き込みを行った.次に、読み
出しパワー0.8−で再生し、C/N比をスペクトル解
析により測定した.続いて、lO万回の読み出し(再生
くり返し)を行った後のC/N比を測定した. 更に、前記条件で作成した光記録媒体に、l K’l#
/s”のキセノンランプ光を100時間照射し酎光安定
性試験を行い、反射率およびC/N比を測定した.結果
を表−1に示す. 表−1 実施例2〜7 実施例lで用いたカチオン系染料とアミニウム塩化合物
を下記表−2の組み合わせにかえて実施例lと同様の方
法で光記録媒体を製作し、それぞれ実施例2〜7の光記
録媒体とした. 上記実施例2〜7の光記録媒体を実施例lと同様の方法
で測定し、その結果を表3に示す。
表−2 実施例 No. アミニウム塩 化合物(1) カチオン系 染料(コ) 重量比 (1) 二(3) 2      (1)−A−7     (])− I
 −A−2    20 : 803    (1)−
8−2   (3)− I −B−1   25 : 
754      (1)−G−2     (3)−
IV −G−2    10 :  905     
 (1)−A−6     (:l)−n −A−3 
   15 : 856        (1)−C−
2      (3)一■ 一C−t     コ0・
 707      (1)−A−4     (:l
)−III −A−3    10 : ’10比較例
1.2 実施例IJよび5でアミニウム塩化合物のそれぞれ(3
)−I −A−1, (3)一■一A−3を除いた以外
は実施例1と同様の方法で光記録媒体を作成し、評価し
た.その結果を表−3に示す. 表−3 2     25.0     5:l    5G 
      22.3     493      2
4.6     52    51       22
.0     504      2a.2     
54    51       25.8     5
15      27.3     5:1    5
0       24.9     496     
 25.9     54    5:1      
 24.0     527     27.1   
  55    52       24−9    
 50比較例 1    24.3   54   40     9
.9   −2    27.0   57   38
    10.2   −(注)一は測定不能を示す. 実施例8〜11 ウ才一レットサイズの厚さ0.4amポリカーボネート
(以下、rPCJと略記する)基板上に熱プレス法によ
りプレグループを設け、その上に下記表−4に示す有機
系色素および赤外吸収化合物をジアセトンアルコール中
に混合させた腋をバーコート法により塗布した後、乾燥
して850大の記録層を得た.さらに、その上にエチレ
ンー酢ビトライフィルムを介してウ才一レッドサイズの
厚さ0.3mmPC基板な熱ロール法により貼り合せ密
着構造の光記録媒体を作製した. こうして作製した各実施例の光記録媒体をX−Y方向に
駆動するステージ上に取り付け、発振波長830nmの
半導体レーザな用いて、厚さ0.4mmのPC基板側よ
り有機薄膜記録層に,記録パワー4.0−で記録パルス
80psecでY軸方向に情報を書き込み、読み出しパ
ワー0.4mWで再生し,そのコB→記録部の信号強度
〉を測定した. さらに、前記条件で作製した同一光記録媒体を実施例l
と同様の条件の耐先安定性試験を行い、その後の反射率
およびコントラスト比を測定した.その結果を表−5に
示す. 表−4 実施例 No. アミニウム塩 化合物(1) 8      (1)−A−6 9      (1)−A−15 10      (1)−8−2 11      (1)−G−2 カチオン系 染料(3) 重量比 (11(3) (3)− I −A−1    30 :(3)−n 
−A−1    20 :(3)−I−8−2    
 10= (3)−IV −G−4    25 :比較例3.4 実施例8とlOで赤外吸収化合物を除いた以外は、実鳳
例8と10と同様の方法で、光記録媒体を作成し、評価
した.結果を表−5に示す。
表−5 初  期    耐光試験後 実施例8  14.0   0.51   1:l.5
   0.48実施例9   14.9   0.55
   13.9   0.45実施例10  15.2
   0.57   13.8   0.49実施例1
1  15.1   0.48   14.2   0
.42比較例3   15.2   0.59比較例4
   15.0   0.58(注)一は測定不能を示
す。
実施例12〜l7 実施例lで用いたアミニウム塩化合物をジイモニウム塩
化合物にかえて表−6に示す組み合わせで実施例lと同
様の方法で記録媒体を作成し、それぞれ実施例12〜l
7の光記録媒体とした.上記実施例12〜l7の光記録
媒体を実施例lと同様の方法で測定し、その結果を表−
7に示す。
実施例 No. 表−6 ジイモニウム 塩化合物(2) (2)−A− (2)−A− (2)−8− (2)−8− (2)−D− (2)−G− カチオン系 染料(3) (3)一I −A−1 (3)−n −A−3 (3)−I−トl (3)−1T −8−2 (3)−I −D−1 (3)−1V −G−2 表−7 重量比 (2):(3) 実施例18〜2l 実施例8〜11で用いたアくニウム塩化合物(1)をジ
イモニウム塩化合物(2)にかえて表−8に示す組み合
わせで、実施例8〜l1と同様の方法で記録媒体を作威
し、それぞれ実施例18〜2lの光記録媒体とした. 上記実施例18〜2lの光記録媒体を実施例lと同様の
方法で測定し、その結果を表−9に示す.表−8 実施例 ジイモニウム カチオン系  重量比No. 
 塩化合物(2)   染料(3)   (2):(3
)24.l 24.6 25.0 27.5 25.8 26.1 22,3 23.l 23.8 26.1 23.9 24.9 (2)−A−  4 (2)−C−  1 (2)−A−20 (2)−G−  3 (:I)−I −A−1 (3)− I −C−2 (3)一■−^−1 (コ)−17−G−3 20: 30: 10: 25: 表−9 初   期 酎光試験後 18      14.3      0.51   
   1:1.5      0.4619     
 14.1      0.48      1:l.
8     0.4420      16.9   
   0.53      15.0     0.4
221      17.1      0.51  
    16.4      0.45[発明の効果] 以上説明したように,本発明によれば、同一対イオンを
有するカチオン系染料と,アミニウム塩化合物またはジ
イモニウム塩化合物を記録層中に含有することにより、
熱安定性および光安定性を著しく増大させた光記録を得
ることが可能となった.

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  カチオン染料と下記一般式(1)または(2)で示さ
    れる化合物とが同一の対イオンである組み合せからなる
    記録層を有することを特徴とする光記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Aは▲数式、化学式、表等があります▼[lは
    1または2である]を示し、Bは▲数式、化学式、表等
    があります▼を示し、芳香族環は低級アルキル基、低級
    アルコキシ基、ハロゲン原子または水酸基によって置換
    されていてもよい。X^■は陰イオンを示す。R_1〜
    R_8は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換
    のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置
    換もしくは未置換のアラルキル基または置換もしくは未
    置換のアルキニル基であり、R_1とR_2、R_3と
    R_4、R_5とR_6およびR_7とR_8の組み合
    せでNとともに置換もしくは未置換の5員環、置換もし
    くは未置換の6員環、置換もしくは未置換の7員環を形
    成してもよい。R_1〜R_8の置換基はそれぞれ同じ
    であっても異っていてもよい。)
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