JP4895536B2 - 導電性材料の製造方法 - Google Patents
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Description
ゼラチン 2g
不定形シリカマット剤(平均粒径5μm) 20mg
界面活性剤(S−1) 400mg
ゼラチン 1.5g
カルボキシルメチルセルロース 0.2g
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3.0mg
界面活性剤(S−1) 20mg
グリオキサール(40%水溶液) 50mg
トリエタノールアミン 20g
重亜硫酸カリウム 6g
アミノトリメチレンホスホン酸 20g
ビオプラーゼAL−15(細菌プロティナーゼ:蛋白質分解酵素、長瀬産業(株)製) 1g
水を加えて全量を1000mlに調整する。pHは7.4に調整した。
乳酸 20g
水酸化ナトリウム 2g
アミノトリメチレンホスホン酸 20g
デナプシン(細菌プロティナーゼ:蛋白質分解酵素、長瀬産業(株)製) 1g
水を加えて全量を1000mlに調整する。pHは3.0に調整した。
硫酸銅5水和物 10g
EDTA・2Na 40g
ホルマリン(37%) 3ml
水酸化ナトリウム 9g
ビピリジル 0.01g
ポリエチレングリコール 0.01g
全量を水で1000ml
pH=12.2に調整する。
ゼラチン 1.0g
カルボキシルメチルセルロース 0.1g
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3.0mg
界面活性剤(S−1) 20mg
グリオキサール(40%水溶液) 50mg
ゼラチン 1.0g
カルボキシルメチルセルロース 2.0g
ハロゲン化銀乳剤 3.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3.0mg
界面活性剤(S−1) 20mg
乳酸 20g
水酸化ナトリウム 10g
アミノトリメチレンホスホン酸 20g
セルラーゼA「アマノ」3(セルロース分解酵素 天野エンザイム(株)製) 1g
水を加えて全量を1000mlに調整する。pHは4.5に調整した。
Claims (1)
- 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含有する導電性材料前駆体を用いて製造する導電性材料の製造方法において、該導電性材料前駆体を、ハロゲン化銀乳剤層を構成するバインダーに作用する酵素を含有する酵素含有処理液で処理し、その後めっき処理することを特徴とする導電性材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005191018A JP4895536B2 (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | 導電性材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005191018A JP4895536B2 (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | 導電性材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007012404A JP2007012404A (ja) | 2007-01-18 |
JP4895536B2 true JP4895536B2 (ja) | 2012-03-14 |
Family
ID=37750620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005191018A Expired - Fee Related JP4895536B2 (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | 導電性材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4895536B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9389503B2 (en) | 2012-11-12 | 2016-07-12 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method of conductive sheet and conductive sheet |
US9405422B2 (en) | 2013-03-27 | 2016-08-02 | Fujifilm Corporation | Conductive sheet, manufacturing method of conductive sheet, and touch panel |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4512535B2 (ja) * | 2005-08-08 | 2010-07-28 | 三菱製紙株式会社 | 導電性材料の製造方法 |
JP5144092B2 (ja) * | 2007-03-06 | 2013-02-13 | 三菱製紙株式会社 | 導電性材料の製造方法 |
JP5192711B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2013-05-08 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜の製造方法及び導電膜 |
JP4957364B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2012-06-20 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 透光性導電パターン材料、電磁波遮蔽フィルター及び周波数選択性電磁波遮蔽フィルム |
JP5189815B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-04-24 | 三菱製紙株式会社 | 導電性材料の製造方法 |
JP5388438B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2014-01-15 | 富士フイルム株式会社 | 無電解めっき方法、無電解めっき装置及び電磁波シールド材料 |
JP2011018028A (ja) * | 2009-06-10 | 2011-01-27 | Fujifilm Corp | 導電膜形成用感光材料、導電膜および導電膜の製造方法 |
JP5562747B2 (ja) * | 2010-07-13 | 2014-07-30 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜の製造方法 |
JP5562746B2 (ja) * | 2010-07-13 | 2014-07-30 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3368154B2 (ja) * | 1996-08-07 | 2003-01-20 | 三菱製紙株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
JP2001154337A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-06-08 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 露光用マスク材料の処理方法 |
JP4641719B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜 |
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2005
- 2005-06-30 JP JP2005191018A patent/JP4895536B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9389503B2 (en) | 2012-11-12 | 2016-07-12 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method of conductive sheet and conductive sheet |
US9405422B2 (en) | 2013-03-27 | 2016-08-02 | Fujifilm Corporation | Conductive sheet, manufacturing method of conductive sheet, and touch panel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007012404A (ja) | 2007-01-18 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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